公开(公告)号：US20060114437A1

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：US11000507

申请日：2004-12-01

申请人： M'hamed Akhssay ,  Johannes Baselmans ,  Franciscus Antonius Chrysogonus Commissaris ,  Simon De Groot ,  Andre Jeunink ,  Wim Tel ,  Alexander Hendrikus Van Der Hoff ,  Arnout Van De Stadt

发明人： M'hamed Akhssay ,  Johannes Baselmans ,  Franciscus Antonius Chrysogonus Commissaris ,  Simon De Groot ,  Andre Jeunink ,  Wim Tel ,  Alexander Hendrikus Van Der Hoff ,  Arnout Van De Stadt

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/705 ,  G03F7/706

摘要： A lithographic projection apparatus includes a measurement system for measuring changes in projection system aberrations with time, and a predictive control system for predicting variation of projection system aberrations with time on the basis of model parameters and for generating a control signal for compensating a time-varying property of the apparatus, such as the OVL values (X-Y adjustment) and the FOC values (Z adjustment) of a lens of the projection system for example. An inline model identification system is provided for estimating model parameter errors on the basis of projection system aberration values provided by the predictive control system and measured projection system aberration values provided by the measurement system, and an updating system utilizes the model parameter errors for updating the model parameters of the predictive control system in order to maintain the time-varying property within acceptable performance criteria.

摘要翻译： 光刻投影设备包括用于随时间测量投影系统像差的变化的测量系统，以及用于根据模型参数随时间预测投影系统像差的变化的预测控制系统，以及用于产生用于补偿时变的控制信号 属性，例如投影系统的透镜的OVL值（XY调整）和FOC值（Z调整）。 提供了一种在线模型识别系统，用于基于由预测控制系统提供的投影系统像差值和测量系统提供的测量投影系统像差值来估计模型参数误差，并且更新系统利用模型参数误差来更新 预测控制系统的模型参数，以便将时变性能保持在可接受的性能标准内。