公开(公告)号：US4101323A

公开(公告)日：1978-07-18

申请号：US669892

申请日：1976-03-24

申请人： Gerhard Buhr ,  Hans Ruckert ,  Hans Werner Frass

发明人： Gerhard Buhr ,  Hans Ruckert ,  Hans Werner Frass

IPC分类号： G03F7/039 ,  G01T1/04 ,  G03C1/72 ,  G03C1/73 ,  G03F3/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022 ,  G03C5/00 ,  G03C1/00 ,  G03C1/52

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G01T1/04 ,  G03F3/10 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022

摘要： This invention relates to a radiation-sensitive copying composition comprising a compound (1) which splits-off an acid upon irradiation and a compound (2) having at least one group selected from the group consisting of a carboxylic ortho acid ester group and a carboxylic acid amide acetal group, which composition, upon irradiation, forms an exposure product having a higher solubility in a liquid developer than the non-irradiated composition.

摘要翻译： 本发明涉及一种辐射敏感复印组合物，其包含在照射时分解酸的化合物（1）和具有至少一个选自羧酸原酸酯基和羧酸的基团的化合物（2） 酰胺缩醛基，该组合物在照射时形成与未照射组合物相比在液体显影剂中具有更高溶解度的曝光产品。