公开(公告)号：US06809802B1

公开(公告)日：2004-10-26

申请号：US09640724

申请日：2000-08-18

申请人： Izumi Tsukamoto ,  Itaru Fujita ,  Hideki Nogawa ,  Yukio Takabayashi

发明人： Izumi Tsukamoto ,  Itaru Fujita ,  Hideki Nogawa ,  Yukio Takabayashi

IPC分类号： G03B2758

CPC分类号： H01L21/6838 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70708 ,  G03F9/7076

摘要： A substrate attracting and holding method includes steps of supporting a substrate by use of a protrusion provided on a holding table for holding the substrate and reducing pressure between the holding table and the substrate to attract and hold the substrate. The protrusion is disposed to be placed in a predetermined positional relation, with respect to a direction along the surface of the substrate, with (i) a position of an alignment mark to be used for processing the substrate or (ii) a position to with respect to which an alignment mark is to be produced. The method also includes attracting and holding the substrate.

摘要翻译： 基板吸附保持方法包括以下步骤：通过使用设置在保持台上的用于保持基板并且减小保持台和基板之间的压力以吸引并保持基板的突起来支撑基板。 突起被设置为相对于沿着基板的表面的方向以预定的位置关系放置，（i）用于处理基板的对准标记的位置或（ii）相对于 要产生对准标记。 该方法还包括吸引和保持基底。

公开(公告)号：US06809798B1

公开(公告)日：2004-10-26

申请号：US09519990

申请日：2000-03-07

申请人： Itaru Fujita

发明人： Itaru Fujita

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70358 ,  G03F7/70725

摘要： An exposure method for scanning a master plate having a pattern and a photosensitive substrate relative to a projection optical system for projecting the pattern onto the substrate. The method includes a first step of accelerating a stage to a predetermined velocity, the stage holding the master plate or the substrate, a second step of transporting the stage at the predetermined velocity and exposing the substrate to the pattern during travel of the stage in a scanning direction, a third step of stopping the stage traveling at the predetermined velocity, and an acceleration step of accelerating the stage between the second step and the third step.

摘要翻译： 一种用于扫描具有图案的主板和相对于用于将图案投影到基板上的投影光学系统的感光基板的曝光方法。 该方法包括将载物台加速至预定速度的第一步骤，保持母板或基片的载物台，以预定速度传送载物台的第二步骤，并将载片在步骤 扫描方向，停止以预定速度行进的台阶的第三步骤，以及加速第二步骤和第三步骤之间的阶段的加速步骤。

公开(公告)号：US06762826B2

公开(公告)日：2004-07-13

申请号：US10648479

申请日：2003-08-27

申请人： Izumi Tsukamoto ,  Itaru Fujita ,  Hideki Nogawa ,  Yukio Takabayashi

发明人： Izumi Tsukamoto ,  Itaru Fujita ,  Hideki Nogawa ,  Yukio Takabayashi

IPC分类号： G03B2758

CPC分类号： H01L21/6838 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70708 ,  G03F9/7076

摘要： A substrate attracting and holding system includes a holding table for holding a substrate, a protrusion provided on the holding table, the protrusion being disposed to be placed in a predetermined positional relationship with a position of an alignment mark to be used for processing the substrate or a position with respect to which an alignment mark is to be produced.

摘要翻译： 基板吸附保持系统包括：用于保持基板的保持台，设置在保持台上的突起，突出部设置成与用于处理基板的对准标记的位置成预定的位置关系， 相对于要产生对准标记的位置。

公开(公告)号：US06654096B1

公开(公告)日：2003-11-25

申请号：US09658462

申请日：2000-09-08

申请人： Itaru Fujita ,  Izumi Tsukamoto ,  Hideki Nogawa ,  Yukio Takabayashi

发明人： Itaru Fujita ,  Izumi Tsukamoto ,  Hideki Nogawa ,  Yukio Takabayashi

IPC分类号： G03B2768

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03B27/42 ,  G03F9/7034

摘要： An exposure apparatus for lithographically transferring a pattern of an original onto a substrate to be exposed includes a first detector for detecting a position of an alignment mark on an exposure shot formed on the substrate, a second detector for detecting a local tilt adjacent to the alignment mark, the position of which is detected by the first detector, and a third detector for detecting a tilt of the exposure shot.

摘要翻译： 用于将原稿的图案光刻转印到待曝光的基板上的曝光装置包括用于检测在基板上形成的曝光镜头上的对准标记的位置的第一检测器，用于检测与对准相邻的局部倾斜的第二检测器 标记，其位置由第一检测器检测;以及第三检测器，用于检测曝光镜头的倾斜。

公开(公告)号：US4825247A

公开(公告)日：1989-04-25

申请号：US155277

申请日：1988-02-12

申请人： Ryuichi Kemi ,  Kazuo Takahashi ,  Itaru Fujita

发明人： Ryuichi Kemi ,  Kazuo Takahashi ,  Itaru Fujita

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70883

摘要： An exposure apparatus particularly suitable usable for the manufacture of semiconductor microcircuit is disclosed. The apparatus includes a specific arrangement that allows accurate and precise detection of any change in the imaging magnification and/or the image surface position of a projection optical system included in the projection exposure apparatus. Thus, with the present invention, a pattern can be projected upon a workpiece with improved accuracy.

摘要翻译： 公开了一种特别适用于制造半导体微电路的曝光装置。 该装置包括允许精确和精确地检测包括在投影曝光装置中的投影光学系统的成像放大率和/或图像表面位置的任何变化的具体布置。 因此，利用本发明，可以以精度高的方式将图案投影到工件上。