公开(公告)号：US20090014917A1

公开(公告)日：2009-01-15

申请号：US12170229

申请日：2008-07-09

申请人： Jared L. Hodge ,  Philip D. Schumaker

发明人： Jared L. Hodge ,  Philip D. Schumaker

IPC分类号： B29C35/04

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： Generating a fluid drop pattern for an imprint lithography process includes selecting an imprinting surface and generating a fluid drop pattern including drop locations for placement of a multiplicity of drops of substantially equal volume on an imprint lithography substrate. The fluid drop pattern is generated through one or more modified Lloyd's method iterations. The fluid drop pattern allows substantially complete filling of imprinting surface features and formation of a substantially uniform residual layer during the imprint lithography process.

摘要翻译： 生成用于压印光刻工艺的流体液滴图案包括选择压印表面并产生流体液滴图案，其包括用于在压印光刻基板上放置基本上相等体积的多个液滴的液滴位置。 通过一个或多个修改的劳埃德方法迭代产生流体滴液图案。 流体液滴图案允许在压印光刻工艺期间基本上完成填充压印表面特征并形成基本上均匀的残留层。

公开(公告)号：US20100101493A1

公开(公告)日：2010-04-29

申请号：US12605578

申请日：2009-10-26

申请人： Jared L. Hodge ,  Van Nguyen Truskett ,  Matthew S. Shafran ,  Bharath Thiruvengadachari

发明人： Jared L. Hodge ,  Van Nguyen Truskett ,  Matthew S. Shafran ,  Bharath Thiruvengadachari

IPC分类号： B05C11/02 ,  B23P6/00

CPC分类号： B05B12/004 ,  B05B12/082 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10T29/4973

摘要： Systems and methods for locating and eliminating and/or minimizing non-functional nozzles of dispense systems are described.

摘要翻译： 描述了用于定位和消除和/或最小化分配系统的非功能喷嘴的系统和方法。

公开(公告)号：US20100104747A1

公开(公告)日：2010-04-29

申请号：US12579569

申请日：2009-10-15

申请人： Van Nguyen Truskett ,  Philip D. Schumaker ,  Jared L. Hodge ,  Kang Luo ,  Bharath Thiruvengadachari

发明人： Van Nguyen Truskett ,  Philip D. Schumaker ,  Jared L. Hodge ,  Kang Luo ,  Bharath Thiruvengadachari

IPC分类号： B05D7/22

CPC分类号： H05K3/125 ,  H01L51/0005 ,  H05K3/0008 ,  H05K2203/163

摘要： A dispense controller and a tool controller may aid in providing a drop pattern of fluid on a substrate. The dispense controller may provide dispense coordinates to a fluid dispense system based on the drop pattern. The tool controller may control movement of a stage and also provide synchronization pulses to the fluid dispense system. The fluid dispense system may provide the drop pattern of fluid on the substrate using the dispense coordinates and the synchronization pulses.

摘要翻译： 分配控制器和工具控制器可以有助于在衬底上提供液体滴落图案。 分配控制器可以基于滴液模式向流体分配系统提供分配坐标。 工具控制器可以控制平台的移动并且还向流体分配系统提供同步脉冲。 流体分配系统可以使用分配坐标和同步脉冲在衬底上提供流体的液滴模式。

公开(公告)号：US20100112220A1

公开(公告)日：2010-05-06

申请号：US12608494

申请日：2009-10-29

申请人： Jared L. Hodge ,  Van Nguyen Truskett ,  Logan Simpson ,  Bharath Thiruvengadachari ,  Stephen C. Johnson ,  Philip D. Schumaker

发明人： Jared L. Hodge ,  Van Nguyen Truskett ,  Logan Simpson ,  Bharath Thiruvengadachari ,  Stephen C. Johnson ,  Philip D. Schumaker

IPC分类号： B05D5/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： The present application describes methods and systems for setting up and characterizing fluid dispensing systems. The methods and systems characterize the fluid dispensing systems and associate the characterizations with the corresponding fluid dispensing systems.

摘要翻译： 本申请描述了用于设置和表征流体分配系统的方法和系统。 方法和系统表征流体分配系统，并将表征与相应的流体分配系统相关联。