公开(公告)号：US20070091318A1

公开(公告)日：2007-04-26

申请号：US11373862

申请日：2006-03-10

申请人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

发明人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02 ,  G01J3/45 ,  G01B9/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209

摘要： A method and apparatus for analyzing a surface of a test object employs apparatus with a scanning interferometry system which generates a windowed interferometric signal from the surface of a test object to characterize the surface of the test object.

摘要翻译： 用于分析测试对象的表面的方法和装置采用具有扫描干涉测量系统的装置，其从测试对象的表面产生窗口干涉信号，以表征测试对象的表面。

公开(公告)号：US20080304078A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US12140154

申请日：2008-06-16

申请人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

发明人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209

摘要： In one embodiment, a system to measure defects on a surface of a wafer and an edge of the wafer using a single tool comprises a radial motor to move an optical head in a radial direction to detect defects at locations displaced from the edge of the wafer, and a rotational motor to rotate the optical head around the edge of the wafer to detect defects on the edge of the wafer.

摘要翻译： 在一个实施例中，使用单个工具测量晶片表面和晶片边缘上的缺陷的系统包括径向马达以沿径向方向移动光学头以检测从晶片边缘移位的位置处的缺陷 以及旋转电动机，用于围绕晶片的边缘旋转光学头以检测晶片边缘上的缺陷。