公开(公告)号：US20070091318A1

公开(公告)日：2007-04-26

申请号：US11373862

申请日：2006-03-10

申请人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

发明人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02 ,  G01J3/45 ,  G01B9/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209

摘要： A method and apparatus for analyzing a surface of a test object employs apparatus with a scanning interferometry system which generates a windowed interferometric signal from the surface of a test object to characterize the surface of the test object.

摘要翻译： 用于分析测试对象的表面的方法和装置采用具有扫描干涉测量系统的装置，其从测试对象的表面产生窗口干涉信号，以表征测试对象的表面。

公开(公告)号：US20080304078A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US12140154

申请日：2008-06-16

申请人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

发明人： Klaus Freishlad ,  Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209

摘要： In one embodiment, a system to measure defects on a surface of a wafer and an edge of the wafer using a single tool comprises a radial motor to move an optical head in a radial direction to detect defects at locations displaced from the edge of the wafer, and a rotational motor to rotate the optical head around the edge of the wafer to detect defects on the edge of the wafer.

摘要翻译： 在一个实施例中，使用单个工具测量晶片表面和晶片边缘上的缺陷的系统包括径向马达以沿径向方向移动光学头以检测从晶片边缘移位的位置处的缺陷 以及旋转电动机，用于围绕晶片的边缘旋转光学头以检测晶片边缘上的缺陷。

公开(公告)号：US07583386B2

公开(公告)日：2009-09-01

申请号：US12140154

申请日：2008-06-16

申请人： Klaus Freischlad ,  Shouhong Tang

发明人： Klaus Freischlad ,  Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209

摘要： In one embodiment, a system to measure defects on a surface of a wafer and an edge of the wafer using a single tool comprises a radial motor to move an optical head in a radial direction to detect defects at locations displaced from the edge of the wafer, and a rotational motor to rotate the optical head around the edge of the wafer to detect defects on the edge of the wafer.

摘要翻译： 在一个实施例中，使用单个工具测量晶片表面和晶片边缘上的缺陷的系统包括径向马达以沿径向方向移动光学头以检测从晶片边缘移位的位置处的缺陷 以及旋转电动机，用于围绕晶片的边缘旋转光学头以检测晶片边缘上的缺陷。

公开(公告)号：US20070008551A1

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：US11177448

申请日：2005-07-09

申请人： Shouhong Tang

发明人： Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B9/02021 ,  G01B9/0209

摘要： White light interferometry is used to obtain the height information of the topmost surface of an object having a transparent thin film on it. N frames of data are acquired from an interferometer while a white light fringe pattern is scanning through a field of view. The modulation fringe envelope R(n) is calculated for every pixel; and the topmost surface position at every pixel is determined as an offset of R(n).

摘要翻译： 使用白光干涉法来获得其上具有透明薄膜的物体的最上表面的高度信息。 从干涉仪获取N帧数据，而白光条纹图案通过视场扫描。 针对每个像素计算调制条纹包络线R（n） 并且将每个像素处的最上表面位置确定为R（n）的偏移。

公开(公告)号：US06856405B2

公开(公告)日：2005-02-15

申请号：US10379228

申请日：2003-03-03

申请人： Shouhong Tang

发明人： Shouhong Tang

IPC分类号： G01B9/02 ,  G01B11/24

CPC分类号： G01B11/2441 ,  G01B9/02004 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072

摘要： A method and apparatus to linearize the phase shifts produced by the wavelength-varying driving mechanism of an interferometer used in phase shift interferometry for the measurement of multiple reflective surfaces first calibrates a sequence of physical values used as the input to the driving mechanism to produce a known linear or a known constant phase shift increment between any two adjacent interferograms. The calibration process, in essence, involves the determination of the sequence of physical values, such as the voltage change with respect to the time, through the process of iteration. This sequence then is used as an input to the phase shift driving mechanism for ongoing operation of the system, thereby compensating for non-linear characteristics of the system.

摘要翻译： 线性化由用于测量多个反射表面的相移干涉测量中使用的干涉仪的波长变化驱动机构产生的相移的方法和装置首先校准用作驱动机构的输入的物理值序列，以产生 已知的线性或已知的任何两个相邻干涉图之间的恒定相移增量。 校准过程本质上涉及通过迭代过程确定物理值序列，例如相对于时间的电压变化。 然后，该序列用作用于系统的正在进行的操作的相移驱动机构的输入，从而补偿系统的非线性特性。

公开(公告)号：US09019491B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13525858

申请日：2012-06-18

申请人： Shouhong Tang

发明人： Shouhong Tang

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01B11/25 ,  G01B11/30

CPC分类号： G01B11/254 ,  G01B11/306 ,  G01B2210/44 ,  G01B2210/48 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/9503

摘要： The invention provides a new dual-sided Moiré wafer analysis system that integrates wafer flatness measurement capability with wafer surface defect detection capability. The invention may be, but is not necessarily, embodied in methods and systems for simultaneously applying phase shifting reflective Moiré wafer analysis to the front and back sides of a silicon wafer and comparing or combining the front and back side height maps. This allows wafer surface height for each side of the wafer, thickness variation map, surface nanotopography, shape, flatness, and edge map to be determined with a dual-sided fringe acquisition process. The invention also improves the dynamic range of wafer analysis to measure wafers with large bows and extends the measurement area closer to the wafer edge.

摘要翻译： 本发明提供了一种新的双面Moiré晶片分析系统，其将晶片平坦度测量能力与晶片表面缺陷检测能力相结合。 本发明可以但并不一定体现在用于同时将硅移动反射Moiré晶片分析应用于硅晶片的正面和背面并且比较或组合前侧和后侧高度图的方法和系统中。 这允许通过双面条纹获取过程确定晶片每侧的晶片表面高度，厚度变化图，表面纳米形貌，形状，平坦度和边缘图。 本发明还改进了晶片分析的动态范围以测量具有大弓形的晶片并将测量区域延伸到更接近晶片边缘。

公开(公告)号：US08949057B1

公开(公告)日：2015-02-03

申请号：US13283330

申请日：2011-10-27

申请人： Kibyung Seong ,  Shouhong Tang

发明人： Kibyung Seong ,  Shouhong Tang

IPC分类号： G01B9/02

CPC分类号： G01B9/02007 ,  G01B5/0014 ,  G01B21/045 ,  G01B2210/44 ,  G01B2210/48

摘要： Disclosed herein is a method and apparatus for reducing measurement error resulting from temperature variations across a wafer, without measuring the wafer temperature, the temperature gradient in the surrounding air, or the distribution of the index of refraction of the air.

摘要翻译： 本文公开了一种用于减少由晶片温度变化导致的测量误差的方法和装置，而不测量晶片温度，周围空气中的温度梯度或空气折射率的分布。

公开(公告)号：US08537369B1

公开(公告)日：2013-09-17

申请号：US12836558

申请日：2010-07-14

申请人： Shouhong Tang

发明人： Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B2210/44 ,  G01B2210/48

摘要： A method and system is disclosed for utilizing two single-shot phase shift interferometers to simultaneously measure wafer shape and thickness variation of two sides of a wafer.This system is able to extract the front height, the back height, and the thickness variation of a wafer in a single data acquisition.This system, when utilized with a fast shutter speed, decreases the insensitivity to vibration. Algorithms are introduced that extract the true thickness variation of a wafer even when the wafer is vibrating.The effects of air turbulence can be reduced by a phase averaging technique.

摘要翻译： 公开了一种利用两个单相相移干涉仪来同时测量晶片两侧的晶片形状和厚度变化的方法和系统。 该系统能够在单个数据采集中提取晶片的前端高度，后端高度和厚度变化。 当以快速快门速度使用时，该系统降低了对振动的不敏感性。 引入了即使当晶片振动时提取晶片的真实厚度变化的算法。 通过相位平均技术可以减少空气湍流的影响。

公开(公告)号：US07595891B2

公开(公告)日：2009-09-29

申请号：US11177448

申请日：2005-07-09

申请人： Shouhong Tang

发明人： Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/0675 ,  G01B9/02021 ,  G01B9/0209

摘要： White light interferometry is used to obtain the height information of the topmost surface of an object having a transparent thin film on it. N frames of data are acquired from an interferometer while a white light fringe pattern is scanning through a field of view. The modulation fringe envelope R(n) is calculated for every pixel; and the topmost surface position at every pixel is determined as an offset of R(n).

摘要翻译： 使用白光干涉法来获得其上具有透明薄膜的物体的最上表面的高度信息。 从干涉仪获取N帧数据，而白光条纹图案通过视场扫描。 针对每个像素计算调制条纹包络线R（n） 并且将每个像素处的最上表面位置确定为R（n）的偏移。

公开(公告)号：US06885461B2

公开(公告)日：2005-04-26

申请号：US10308484

申请日：2002-12-03

申请人： Shouhong Tang

发明人： Shouhong Tang

IPC分类号： G01B11/24 ,  G01B9/02

CPC分类号： G01B11/2441

摘要： A system and method are provided for obtaining mapping profiles of transparent objects having a plurality of reflective surfaces. The object, the surfaces of which are to be mapped, is placed in an unequal path interferometer including a reference surface located a predetermined distance from the object. Coherent light is supplied in the interferometer from a tunable source; and multiple optical interferograms for each of the plurality of reflective surfaces are simultaneously recorded. These interferograms are simultaneously extracted through the use of a dynamically generated weighted least-square fitting technique; which separates interferograms from a set of superimposed interferograms to obtain a given interferogram for any one of the surfaces, free from errors resulting from the existence of the other interferograms.

摘要翻译： 提供了一种用于获得具有多个反射表面的透明对象的映射简档的系统和方法。 其表面将要映射的对象被放置在不等距干涉仪中，该干涉仪包括距物体预定距离的参考表面。 干涉仪中的相干光从可调光源提供; 并且同时记录多个反射表面中的每一个的多个光学干涉图。 通过使用动态生成的加权最小二乘拟合技术来同时提取这些干涉图; 其将干涉图与一组叠加的干涉图分离以获得任何一个表面的给定干涉图，没有由于其它干涉图的存在而导致的误差。