公开(公告)号：US06491808B2

公开(公告)日：2002-12-10

申请号：US09149280

申请日：1998-09-09

申请人： Hirofumi Ichinose ,  Ippei Sawayama ,  Tsutomu Murakami ,  Masaya Hisamatsu ,  Yukie Ueno

发明人： Hirofumi Ichinose ,  Ippei Sawayama ,  Tsutomu Murakami ,  Masaya Hisamatsu ,  Yukie Ueno

IPC分类号： B23H1100

CPC分类号： C25F3/02

摘要： An electrolytic etching method for etching treating an object to be etched by an electrochemical reaction through an electrolyte between the object to be etched and an etching electrode, where the contact angle of the electrolyte to the object to be etched is not more than 70°. This electrolytic etching method can etch the object in a non-contact manner, can reduce the cost, number of steps, and processing time, and can enhance the patterning accuracy.

摘要翻译： 一种电解腐蚀方法，用于通过电化学反应通过待蚀刻对象物和蚀刻电极之间的电解质蚀刻处理待蚀刻的物体，其中电解质与待蚀刻物体的接触角不大于70°。 这种电解蚀刻方法可以以非接触的方式蚀刻物体，可以降低成本，步数和处理时间，并且可以提高图案精度。

公开(公告)号：US20130241090A1

公开(公告)日：2013-09-19

申请号：US13989451

申请日：2011-12-08

申请人： Jun-ichi Sakamoto ,  Junji Terada ,  Masaya Hisamatsu

发明人： Jun-ichi Sakamoto ,  Junji Terada ,  Masaya Hisamatsu

IPC分类号： G02B5/00

CPC分类号： B29D11/0073 ,  G02B1/118 ,  G02B5/00 ,  G02B5/1809 ,  G02B5/1852 ,  G02B27/283

摘要： Provided is a method of manufacturing an optical element having a structure, which is represented by a one-dimensional lattice, with high yield with the use of a sol-gel material. A titanium based sol-gel material is applied onto a substrate (1), and then is subjected to vacuum drying to form a titania sol layer (2) corresponding to a dried sol-gel film. Onto the titania sol layer (2), a line-and-space structure is transferred by embossing using a mold (3), and then the mold (3) is separated. Thus, a titania sol layer (4) having the structure is formed. Next, heating is performed to accelerate the dehydration condensation reaction of the sol-gel material to cure the sol-gel material, and thus a titanium oxide structure portion (5) having the line-and-space structure is formed.

摘要翻译： 提供了使用溶胶 - 凝胶材料以高产率制造具有由一维网格表示的结构的光学元件的方法。 将钛基溶胶 - 凝胶材料施加到基材（1）上，然后进行真空干燥以形成对应于干燥的溶胶 - 凝胶膜的二氧化钛溶胶层（2）。 在二氧化钛溶胶层（2）上，通过使用模具（3）通过压花转移线间距结构，然后分离模具（3）。 因此，形成具有该结构的二氧化钛溶胶层（4）。 接下来，进行加热以加速溶胶 - 凝胶材料的脱水缩合反应以固化溶胶 - 凝胶材料，因此形成具有线间距结构的氧化钛结构部分（5）。

公开(公告)号：US5993637A

公开(公告)日：1999-11-30

申请号：US984046

申请日：1997-12-03

申请人： Masaya Hisamatsu ,  Akio Hasebe ,  Tsutomu Murakami ,  Hirofumi Ichinose ,  Satoshi Shinkura ,  Yukie Ueno

发明人： Masaya Hisamatsu ,  Akio Hasebe ,  Tsutomu Murakami ,  Hirofumi Ichinose ,  Satoshi Shinkura ,  Yukie Ueno

IPC分类号： C25F3/14 ,  C25F3/12 ,  C25F7/00 ,  H01L31/04 ,  H01L31/075 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L31/076 ,  C25F3/12 ,  C25F7/00 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/548

摘要： An electrode structure is constituted by a first electrode, and at least one second electrode providing a pair of opposite portions with a prescribed spacing therebetween at which the first electrode is disposed. The electrode structure is suitably used for electrolytic etching and is effective in providing an accurate etching pattern without damaging the surface of an etching object.

摘要翻译： 电极结构由第一电极和至少一个第二电极构成，所述至少一个第二电极提供一对相对的部分，其间设置有第一电极。 电极结构适合用于电解蚀刻，并且在提供精确的蚀刻图案而不损坏蚀刻对象的表面的情况下是有效的。

公开(公告)号：US5863412A

公开(公告)日：1999-01-26

申请号：US731663

申请日：1996-10-17

申请人： Hirofumi Ichinose ,  Ippei Sawayama ,  Akio Hasebe ,  Tsutomu Murakami ,  Masaya Hisamatsu ,  Satoshi Shinkura ,  Yukie Ueno

发明人： Hirofumi Ichinose ,  Ippei Sawayama ,  Akio Hasebe ,  Tsutomu Murakami ,  Masaya Hisamatsu ,  Satoshi Shinkura ,  Yukie Ueno

IPC分类号： C25F3/12 ,  C25F3/14 ,  H01L31/18 ,  H01L31/20 ,  C25F3/02

CPC分类号： C25F3/14 ,  C25F3/12 ,  H01L31/186 ,  H01L31/1884 ,  H01L31/208 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

摘要： A method for etching an object having a portion to be etched on the surface thereof, comprising a step of immersing said object in an electrolyte solution such that said object serves as a negative electrode; a step of arranging a counter electrode having a pattern corresponding to a desired etching pattern to be formed at said portion to be etched of said object in said electrolyte solution so as to maintain a predetermined interval between said counter electrode and said object, and a step of applying a direct current or a pulse current between said object and said counter electrode to etch said portion to be etched of said object into a pattern corresponding to said pattern of said counter electrode.

摘要翻译： 一种在其表面上蚀刻具有待蚀刻部分的物体的方法，包括将所述物体浸入电解质溶液中以使所述物体用作负极的步骤; 在所述电解质溶液中，在所述物体的被蚀刻部分上形成具有对应于期望蚀刻图案的图案的对电极，以保持所述对置电极与所述物体之间的预定间隔的步骤;以及步骤 在所述物体和所述对电极之间施加直流电流或脉冲电流，以将所述物体的待蚀刻部分刻蚀成与所述对电极的所述图案对应的图案。

公开(公告)号：US6051116A

公开(公告)日：2000-04-18

申请号：US163546

申请日：1998-09-30

申请人： Hirofumi Ichinose ,  Ippei Sawayama ,  Akio Hasebe ,  Tsutomu Murakami ,  Masaya Hisamatsu ,  Satoshi Shinkura ,  Yukie Ueno

发明人： Hirofumi Ichinose ,  Ippei Sawayama ,  Akio Hasebe ,  Tsutomu Murakami ,  Masaya Hisamatsu ,  Satoshi Shinkura ,  Yukie Ueno

IPC分类号： C25F3/12 ,  C25F3/14 ,  H01L31/18 ,  H01L31/20 ,  C25D17/00 ,  C25D17/04

CPC分类号： C25F3/14 ,  C25F3/12 ,  H01L31/186 ,  H01L31/1884 ,  H01L31/208 ,  Y02E10/50 ,  Y02P70/521

摘要： An etching apparatus is described comprising a substrate holding segment for holding a substrate with a portion to be etched, an electrolytic bath for maintaining an electrolyte solution therein, a locomotive mechanism for moving the substrate holding segment in order to immerse the substrate held on the substrate holding segment in the electrolyte solution maintained in the electrolytic bath, and a counter electrode holding segment for holding a counter electrode having a pattern corresponding a desired etching pattern to be formed at the portion to be etched of the substrate. The counter electrode is positioned to oppose the substrate held on the substrate holding segment.

摘要翻译： 描述了一种蚀刻装置，其包括用于保持具有待蚀刻部分的基板的基板保持段，用于在其中维持电解质溶液的电解槽，用于移动基板保持段以便将保持在基板上的基板浸没的机车机构 保持在电解液中的电解液中的保持段，以及用于保持对置电极的对电极保持段，该对电极具有对应于待蚀刻部分的所需蚀刻图案的图案。 相对电极被定位成与保持在基板保持段上的基板相对。