公开(公告)号：US09256139B2

公开(公告)日：2016-02-09

申请号：US13398582

申请日：2012-02-16

申请人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade ,  Siegfried Alexander Tromp ,  Jacobus Josephus Leijssen ,  Elisabeth Corinne Rodenburg ,  Maurice Wilhelmus Leonardus Hendricus Feijts ,  Hendrik Huisman

发明人： Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Nicolaas Ten Kate ,  Nina Vladimirovna Dziomkina ,  Yogesh Pramod Karade ,  Siegfried Alexander Tromp ,  Jacobus Josephus Leijssen ,  Elisabeth Corinne Rodenburg ,  Maurice Wilhelmus Leonardus Hendricus Feijts ,  Hendrik Huisman

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03F7/20 ,  G01J5/20 ,  G01J5/02

CPC分类号： G03F7/70716 ,  B05D3/02 ,  G01J5/0285 ,  G01J5/20 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70708

摘要： A substrate holder for a lithographic apparatus has a planarization layer provided on a surface thereof. The planarization layer provides a smooth surface for the formation of a thin film stack forming an electronic component. The thin film stack comprises an (optional) isolation layer, a metal layer forming an electrode, a sensor, a heater, a transistor or a logic device, and a top isolation layer.

摘要翻译： 用于光刻设备的衬底保持器具有设置在其表面上的平坦化层。 平坦化层为形成电子部件的薄膜叠层的形成提供光滑的表面。 薄膜堆叠包括（可选）隔离层，形成电极的金属层，传感器，加热器，晶体管或逻辑器件以及顶部隔离层。