公开(公告)号：US07019815B2

公开(公告)日：2006-03-28

申请号：US10975429

申请日：2004-10-29

申请人： Johannes C. M. Jasper ,  Erik R. Loopstra ,  Theodorus M. Modderman ,  Gerrit J. Nijmeijer ,  Nicolaas A. A. J. van Asten ,  Frederik T. E. Heuts ,  Jacobus Gemen ,  Richard J. H. Du Croo de Jongh ,  Marcus E. J. Boonman ,  Jacob F. F. Klinkhamer ,  Thomas J. M. Castenmiller

发明人： Johannes C. M. Jasper ,  Erik R. Loopstra ,  Theodorus M. Modderman ,  Gerrit J. Nijmeijer ,  Nicolaas A. A. J. van Asten ,  Frederik T. E. Heuts ,  Jacobus Gemen ,  Richard J. H. Du Croo de Jongh ,  Marcus E. J. Boonman ,  Jacob F. F. Klinkhamer ,  Thomas J. M. Castenmiller

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7096

摘要： In an off-axis levelling procedure a height map of the substrate is generated at a measurement station. The height map is referenced to a physical reference surface of the substrate table. The physical reference surface may be a surface in which is inset a transmission image sensor. At the exposure station the height of the physical reference surface is measured and related to the focal plane of the projection lens. The height map can then be used to determine the optimum height and/or tilt of substrate table to position the exposure area on the substrate in best focus during exposure. The same principles can be applied to (reflective) masks.

摘要翻译： 在离轴调平程序中，在测量站产生衬底的高度图。 高度图参考衬底台的物理参考表面。 物理参考表面可以是其中插入透射图像传感器的表面。 在曝光站，测量物理基准表面的高度并与投影透镜的焦平面相关。 然后可以使用高度图来确定衬底台的最佳高度和/或倾斜，以在曝光期间以最佳聚焦将曝光区域定位在衬底上。 相同的原理可以应用于（反射）掩模。

公开(公告)号：US06674510B1

公开(公告)日：2004-01-06

申请号：US09519875

申请日：2000-03-06

申请人： Johannes C. M. Jasper ,  Erik R. Loopstra ,  Theodorus M. Modderman ,  Gerrit J. Nijmeijer ,  Nicolaas A. A. J. van Asten ,  Frederik T. E. Heuts ,  Jacobus Gemen ,  Richard J. H. Du Croo de Jongh ,  Marcus E. J. Boonman ,  Jacob F. F. Klinkhamer ,  Thomas J. M. Castenmiller

发明人： Johannes C. M. Jasper ,  Erik R. Loopstra ,  Theodorus M. Modderman ,  Gerrit J. Nijmeijer ,  Nicolaas A. A. J. van Asten ,  Frederik T. E. Heuts ,  Jacobus Gemen ,  Richard J. H. Du Croo de Jongh ,  Marcus E. J. Boonman ,  Jacob F. F. Klinkhamer ,  Thomas J. M. Castenmiller

IPC分类号： G03B2752

CPC分类号： G03F9/7026 ,  G03F9/70 ,  G03F9/7034 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7096

摘要： In an off-axis levelling procedure a height map of the substrate is generated at a measurement station. The height map is referenced to a physical reference surface of the substrate table. The physical reference surface may be a surface in which is inset a transmission image sensor. At the exposure station the height of the physical reference surface is measured and related to the focal plane of the projection lens. The height map can then be used to determine the optimum height and/or tilt of substrate table to position the exposure area on the substrate in best focus during exposure. The same principles can be applied to (reflective) masks.

摘要翻译： 在离轴调平程序中，在测量站产生衬底的高度图。 高度图参考衬底台的物理参考表面。 物理参考表面可以是其中插入透射图像传感器的表面。 在曝光站，测量物理基准表面的高度并与投影透镜的焦平面相关。 然后可以使用高度图来确定衬底台的最佳高度和/或倾斜，以在曝光期间以最佳聚焦将曝光区域定位在衬底上。 相同的原理可以应用于（反射）掩模。

公开(公告)号：US06327488B1

公开(公告)日：2001-12-04

申请号：US09073508

申请日：1998-05-06

申请人： Martinus B. Van Der Mark ,  Nicolaas A. A. J. Van Asten ,  Wilhelmus M. Walraven

发明人： Martinus B. Van Der Mark ,  Nicolaas A. A. J. Van Asten ,  Wilhelmus M. Walraven

IPC分类号： A61B500

CPC分类号： A61B5/0091 ,  A61B5/4312 ,  G02B6/262

摘要： The light to be generated by a light source in a device for localizing an object in a turbid medium is successively coupled into the turbid medium from different directions by use of an optical detection unit. The light coupled in is transported in different directions through the turbid medium. A part of the light emanating from the turbid medium is measured by use of photodetectors. An image of the interior of the turbid medium is reconstructed by optical tomography on the basis of the measured intensities. The device includes structure which reduces variations in the intensity of the light coupled into the turbid medium from the same direction in order to reduce errors occurring on repeated executions of the measurements for successively localizing the object.

摘要翻译： 在用于使浑浊介质中的物体定位的装置中由光源产生的光通过使用光学检测单元从不同方向连续地耦合到混浊介质中。 耦合的光通过混浊介质在不同方向运输。 通过使用光电检测器测量从混浊介质发出的光的一部分。 基于测量的强度，通过光学层析成像重建混浊介质内部的图像。 该装置包括从相同方向减少耦合到混浊介质中的光的强度的变化的结构，以便减少在重复执行用于连续定位物体的测量时发生的误差。