公开(公告)号：US08173729B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12714837

申请日：2010-03-01

申请人： Hyoc-min Youn ,  Byung-uk Kim ,  Ki-hyuk Koo ,  Tae-hoon Yeo ,  Joo-pyo Yun ,  Hong-dae Shin ,  Sang Hoon Lee ,  Dong-myung Kim ,  Su-youn Choi ,  Jin Sun Kim ,  Chang-Min Woo ,  Hong-Suk Kim

发明人： Hyoc-min Youn ,  Byung-uk Kim ,  Ki-hyuk Koo ,  Tae-hoon Yeo ,  Joo-pyo Yun ,  Hong-dae Shin ,  Sang Hoon Lee ,  Dong-myung Kim ,  Su-youn Choi ,  Jin Sun Kim ,  Chang-Min Woo ,  Hong-Suk Kim

IPC分类号： C08K5/3447 ,  C08K5/3492 ,  C08K5/3435

CPC分类号： G03F7/031 ,  G02F1/133345

摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition, particularly to a photosensitive resin composition for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD, comprising 0.01 to 20 wt % of UV stabilizer or radical scavenger. The photosensitive resin composition of the present invention can be used for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD to improve active unfilled area upon over exposure in liquid crystal photo-alignment process, can easily control resolution of pattern, and is particularly suitable for forming a planarization layer of an interlayer organic insulating film.

摘要翻译： 本发明涉及一种感光性树脂组合物，特别涉及用于形成TFT-LCD用层间有机绝缘膜的感光性树脂组合物，其含有0.01〜20重量％的UV稳定剂或自由基清除剂。 本发明的感光性树脂组合物可用于形成用于TFT-LCD的层间有机绝缘膜，以在液晶光取向过程中过度曝光时改善活性未填充区域，可以容易地控制图案的分辨率，并且特别适用于 形成层间有机绝缘膜的平坦化层。

公开(公告)号：US20110294243A1

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：US13092629

申请日：2011-04-22

申请人： Woo-Seok Jeon ,  Jeong-Min Park ,  Byung-Uk Kim ,  Hyoc-Min Youn ,  Ki-Hyuk Koo ,  Su-Youn Choi ,  Jin-Sun Kim

发明人： Woo-Seok Jeon ,  Jeong-Min Park ,  Byung-Uk Kim ,  Hyoc-Min Youn ,  Ki-Hyuk Koo ,  Su-Youn Choi ,  Jin-Sun Kim

IPC分类号： H01L33/08 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G02F1/13439 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0382

摘要： A photoresist composition suitable for forming a high-resolution pattern, and a method of forming a photoresist pattern using the same. The photoresist composition includes about 10 to about 45 parts by weight of an alkali soluble binder resin including a hydroxyl group, about 0.1 to about 5 parts by weight of a photo-acid generator, about 1 to about 5 parts by weight of a cross-linker that cross-links the alkali-soluble binder resin including the hydroxyl group, about 0.3 to about 3 parts by weight of a quinone diazide compound, and a remainder of a solvent.

摘要翻译： 适合于形成高分辨率图案的光致抗蚀剂组合物和使用其形成光致抗蚀剂图案的方法。 光致抗蚀剂组合物包括约10至约45重量份的包含羟基的碱溶性粘合剂树脂，约0.1至约5重量份的光酸发生剂，约1至约5重量份的交联剂， 使包含羟基的碱溶性粘合剂树脂交联的接头，约0.3至约3重量份的醌二叠氮化合物和剩余的溶剂。

公开(公告)号：US20100222473A1

公开(公告)日：2010-09-02

申请号：US12714837

申请日：2010-03-01

申请人： Hyoc-min YOUN ,  Byung-uk KIM ,  Ki-hyuk KOO ,  Tae-hoon YEO ,  Joo-pyo YUN ,  Hong-dae SHIN ,  Sang Hoon LEE ,  Dong-myung KIM ,  Su-youn CHOI ,  Jin Sun KIM ,  Chang-Min WOO ,  Hong-Suk KIM

发明人： Hyoc-min YOUN ,  Byung-uk KIM ,  Ki-hyuk KOO ,  Tae-hoon YEO ,  Joo-pyo YUN ,  Hong-dae SHIN ,  Sang Hoon LEE ,  Dong-myung KIM ,  Su-youn CHOI ,  Jin Sun KIM ,  Chang-Min WOO ,  Hong-Suk KIM

IPC分类号： C08K5/3447 ,  C08K5/3492 ,  C08K5/3435

CPC分类号： G03F7/031 ,  G02F1/133345

摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition, particularly to a photosensitive resin composition for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD, comprising 0.01 to 20 wt % of UV stabilizer or radical scavenger. The photosensitive resin composition of the present invention can be used for forming an interlayer organic insulating film for TFT-LCD to improve active unfilled area upon over exposure in liquid crystal photo-alignment process, can easily control resolution of pattern, and is particularly suitable for forming a planarization layer of an interlayer organic insulating film.

摘要翻译： 本发明涉及一种感光性树脂组合物，特别涉及用于形成TFT-LCD用层间有机绝缘膜的感光性树脂组合物，其含有0.01〜20重量％的UV稳定剂或自由基清除剂。 本发明的感光性树脂组合物可用于形成用于TFT-LCD的层间有机绝缘膜，以在液晶光取向过程中过度曝光时改善活性未填充区域，可以容易地控制图案的分辨率，并且特别适用于 形成层间有机绝缘膜的平坦化层。