公开(公告)号：US06369385B1

公开(公告)日：2002-04-09

申请号：US09305975

申请日：1999-05-05

申请人： Lawrence P. Muray ,  Ho-Seob Kim ,  T. H. Philip Chang

发明人： Lawrence P. Muray ,  Ho-Seob Kim ,  T. H. Philip Chang

IPC分类号： H01J3728

CPC分类号： G01Q30/02 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/2818 ,  Y10S977/707 ,  Y10S977/849 ,  Y10S977/86 ,  Y10S977/869 ,  Y10S977/874 ,  Y10S977/881 ,  Y10S977/887

摘要： An apparatus for surface inspection and processing of a wafer includes a microcolumn and an associated scanning probe microscope. The microcolumn enables high speed scanning of the wafer at a relatively high resolution, while the scanning probe microscope provides atomic resolution of highly localized areas of the wafer. The microcolumn and scanning probe microscope can be partially fabricated out of the same substrate. Additionally, the microcolumn and scanning probe microscope can be a portion of an array of microcolumns and/or scanning probe microscopes. The apparatus may be used for imaging, lithography and spectroscopy.

摘要翻译： 用于表面检查和处理晶片的装置包括微柱和相关联的扫描探针显微镜。 微柱可以以相对高的分辨率高速扫描晶片，而扫描探针显微镜提供晶片的高度局部化区域的原子分辨率。 微柱和扫描探针显微镜可以由相同的基底部分制成。 另外，微柱和扫描探针显微镜可以是微柱阵列和/或扫描探针显微镜的一部分。 该装置可用于成像，光刻和光谱学。

公开(公告)号：US6077417A

公开(公告)日：2000-06-20

申请号：US195843

申请日：1998-11-19

申请人： Kim Y. Lee ,  T. H. Philip Chang ,  Ho-Seob Kim

发明人： Kim Y. Lee ,  T. H. Philip Chang ,  Ho-Seob Kim

IPC分类号： G01N20060101 ,  G01N13/12 ,  G01N30/00 ,  G12B21/00 ,  H01J37/12 ,  H01J37/26

CPC分类号： B82Y15/00

摘要： A method and system for cleaning the silicon microlenses in an electron-beam microcolumn in situ. The microlenses individually are heated by passing a current through each microlens. The current is utilized to heat the microlens to at least two hundred degrees Centigrade to prevent contamination and occasionally to a temperature on the order of six to seven hundred degrees Centigrade to remove any builtup or potential contamination.

摘要翻译： 一种电子束微柱原位清洗硅微透镜的方法和系统。 通过使电流通过每个微透镜来单独地加热微透镜。 该电流用于将微透镜加热至至少二百摄氏度以防止污染，并且偶尔达到六至七百摄氏度的温度以除去任何积聚或潜在的污染物。