公开(公告)号：US09034403B2

公开(公告)日：2015-05-19

申请号：US13593974

申请日：2012-08-24

申请人： Hiroaki Nishiuchi ,  Wataru Hoshino ,  Junko Yamazaki ,  Toshimi Mizukoshi ,  Vsevolod Aleksandovich Serebryanyy ,  Olga Aleksandrovna Sofyanovich ,  Dmitriy Aleksandrovich Cheshev ,  V. Elena Matrosova

发明人： Hiroaki Nishiuchi ,  Wataru Hoshino ,  Junko Yamazaki ,  Toshimi Mizukoshi ,  Vsevolod Aleksandovich Serebryanyy ,  Olga Aleksandrovna Sofyanovich ,  Dmitriy Aleksandrovich Cheshev ,  V. Elena Matrosova

IPC分类号： A23L1/28 ,  C12P21/02 ,  C12N1/16 ,  C07K14/395 ,  C12N1/18

CPC分类号： C12P21/02 ,  C07K14/395 ,  C12N1/18

摘要： A yeast extract containing a peptide, such as γ-Glu-X and γ-Glu-X-Gly, wherein X can represent an amino acid or an amino acid derivative other than Cys and derivatives thereof, is prepared by culturing a yeast in a medium containing a peptide such as γ-Glu-X, γ-Glu-X-Gly and X-Gly, and preparing a yeast extract from the obtained cells.

摘要翻译： 含有肽，例如γ-Glu-X和γ-Glu-X-Gly的酵母提取物，其中X可以代表除Cys及其衍生物之外的氨基酸或氨基酸衍生物，其通过在 含有γ-Glu-X，γ-Glu-X-Gly和X-Gly等肽的培养基，从得到的细胞中制备酵母提取物。

公开(公告)号：US20100330507A1

公开(公告)日：2010-12-30

申请号：US12825088

申请日：2010-06-28

申请人： Hideaki TSUBAKI ,  Shinji Tarutani ,  Kazuyoshi Mizuyoshi ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

发明人： Hideaki TSUBAKI ,  Shinji Tarutani ,  Kazuyoshi Mizuyoshi ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A pattern forming method includes (a) coating a substrate with a resist composition including a resin that includes a repeating unit represented by a following general formula (NGH-1), and, by the action of an acid, increases the polarity and decreases the solubility in a negative developing solution; (b) exposing; and (d) developing with a negative developing solution: wherein RNGH1 represents a hydrogen atom or an alkyl group; and RNGH2 to RNGH4 each independently represents a hydrogen atom or a hydroxyl group, provided that at least one of RNGH2 to RNGH4 represents a hydroxyl group.

摘要翻译： 图案形成方法包括：（a）用包含由以下通式（NGH-1）表示的重复单元的树脂的抗蚀剂组合物涂布基材，并且通过酸的作用增加极性，并降低 在负显影液中的溶解度; （b）曝光; 和（d）用负显影液显影：其中RNGH1表示氢原子或烷基; 并且RNGH 2至RNGH 4各自独立地表示氢原子或羟基，条件是RNGH 2至RNGH 4中的至少一个表示羟基。

公开(公告)号：US08603733B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13196530

申请日：2011-08-02

申请人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

发明人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40

摘要： A pattern forming method comprising a step of applying a resist composition whose solubility in a negative tone developer decreases upon irradiation with an actinic ray or radiation and which contains a resin having an alicyclic hydrocarbon structure and a dispersity of 1.7 or less and being capable of increasing the polarity by the action of an acid, an exposure step, and a development step using a negative tone developer; a resist composition for use in the method; and a developer and a rinsing solution for use in the method, are provided, whereby a pattern with reduced line edge roughness and high dimensional uniformity can be formed.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括施加抗蚀剂组合物的步骤，所述抗蚀剂组合物在负光谱显影剂中的溶解度随着光化射线或辐射的照射而降低，并且其含有具有脂环族烃结构和分散性为1.7以下并且能够增加的树脂 通过酸的作用的极性，曝光步骤和使用负色调显影剂的显影步骤; 用于该方法的抗蚀剂组合物; 并且提供了用于该方法的显影剂和冲洗溶液，由此可以形成线边缘粗糙度降低且尺寸均匀性高的图案。

公开(公告)号：US08431330B2

公开(公告)日：2013-04-30

申请号：US13307813

申请日：2011-11-30

申请人： Wataru Hoshino ,  Hideaki Tsubaki ,  Masahiro Yoshidome

发明人： Wataru Hoshino ,  Hideaki Tsubaki ,  Masahiro Yoshidome

IPC分类号： G03F7/30

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

摘要： A surface-treating agent for forming a resist pattern, includes: a compound represented by formula (1) as defined in the specification, wherein the surface-treating agent is used in a step between a formation of a first resist pattern on a first resist film and a formation of a second resist film on the first resist pattern to form a second resist pattern, and a pattern-forming method uses the surface-treating agent.

摘要翻译： 用于形成抗蚀剂图案的表面处理剂包括：如说明书中所定义的由式（1）表示的化合物，其中所述表面处理剂用于在第一抗蚀剂上形成第一抗蚀剂图案之间的步骤 膜和第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂膜以形成第二抗蚀剂图案，并且图案形成方法使用表面处理剂。

公开(公告)号：US20130045305A1

公开(公告)日：2013-02-21

申请号：US13593974

申请日：2012-08-24

申请人： Hiroaki NISHIUCHI ,  Wataru Hoshino ,  Junko Yamazaki ,  Toshimi Mizukoshi ,  Vsevolod Aleksandovich Serebryanyy ,  Olga Aleksandrovna Sofyanovich ,  Dmitriy Aleksandrovich Cheshev ,  V. Elena Matrosova

发明人： Hiroaki NISHIUCHI ,  Wataru Hoshino ,  Junko Yamazaki ,  Toshimi Mizukoshi ,  Vsevolod Aleksandovich Serebryanyy ,  Olga Aleksandrovna Sofyanovich ,  Dmitriy Aleksandrovich Cheshev ,  V. Elena Matrosova

IPC分类号： A23L1/28 ,  C12P21/02 ,  C12N1/16

CPC分类号： C12P21/02 ,  C07K14/395 ,  C12N1/18

摘要： A yeast extract containing a peptide, such as γ-Glu-X and γ-Glu-X-Gly, wherein X can represent an amino acid or an amino acid derivative other than Cys and derivatives thereof, is prepared by culturing a yeast in a medium containing a peptide such as γ-Glu-X, γ-Glu-X-Gly and X-Gly, and preparing a yeast extract from the obtained cells.same

摘要翻译： 含有肽，例如γ-Glu-X和γ-Glu-X-Gly的酵母提取物，其中X可以代表除Cys及其衍生物之外的氨基酸或氨基酸衍生物，其通过在 含有γ-Glu-X，γ-Glu-X-Gly和X-Gly等肽的培养基，从得到的细胞中制备酵母提取物。 相同

公开(公告)号：US20120076991A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13307813

申请日：2011-11-30

申请人： Wataru HOSHINO ,  Hideaki Tsubaki ,  Masahiro Yoshidome

发明人： Wataru HOSHINO ,  Hideaki Tsubaki ,  Masahiro Yoshidome

IPC分类号： B32B3/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

摘要： A surface-treating agent for forming a resist pattern, includes: a compound represented by formula (1) as defined in the specification, wherein the surface-treating agent is used in a step between a formation of a first resist pattern on a first resist film and a formation of a second resist film on the first resist pattern to form a second resist pattern, and a pattern-forming method uses the surface-treating agent.

摘要翻译： 用于形成抗蚀剂图案的表面处理剂包括：如说明书中所定义的由式（1）表示的化合物，其中所述表面处理剂用于在第一抗蚀剂上形成第一抗蚀剂图案之间的步骤 膜和第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂膜以形成第二抗蚀剂图案，并且图案形成方法使用表面处理剂。

公开(公告)号：US08017304B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US12578520

申请日：2009-10-13

申请人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

发明人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A pattern forming method comprising a step of applying a resist composition whose solubility in a negative tone developer decreases upon irradiation with an actinic ray or radiation and which contains a resin having an alicyclic hydrocarbon structure and a dispersity of 1.7 or less and being capable of increasing the polarity by the action of an acid, an exposure step, and a development step using a negative tone developer; a resist composition for use in the method; and a developer and a rinsing solution for use in the method, are provided, whereby a pattern with reduced line edge roughness and high dimensional uniformity can be formed.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括施加抗蚀剂组合物的步骤，所述抗蚀剂组合物在负光谱显影剂中的溶解度随着光化射线或辐射的照射而降低，并且其含有具有脂环族烃结构和分散性为1.7以下并且能够增加的树脂 通过酸的作用的极性，曝光步骤和使用负色调显影剂的显影步骤; 用于该方法的抗蚀剂组合物; 并且提供了用于该方法的显影剂和冲洗溶液，由此可以形成线边缘粗糙度降低且尺寸均匀性高的图案。

公开(公告)号：US20100203445A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12679974

申请日：2008-09-22

申请人： Wataru Hoshino ,  Masahiro Yoshidome

发明人： Wataru Hoshino ,  Masahiro Yoshidome

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F220/24 ,  C08F230/08 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045

摘要： An object of the present invention is to solve the technical task of enhancing the performance in micro-photofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser at a wavelength of 193 nm, and more specifically, provide a negative resist composition hardly allowing occurrence of pattern collapse and exhibiting good resolution even in the formation of a fine pattern, and a resist pattern forming method using the composition, which are a negative resist composition comprising (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound that contains a low molecular compound having a molecular weight of 2,000 or less and having an oxetane structure, and (C) a cationic photopolymerization initiator, and a resist pattern forming method using the composition.

摘要翻译： 本发明的目的是解决使用远紫外光，特别是波长193nm的ArF准分子激光器来提高微光制造性能的技术任务，更具体地说，提供几乎不发生图案的负光刻胶组合物 崩溃并且即使形成精细图案也表现出良好的分辨率，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法，该抗蚀剂图案形成方法是含有（A）碱溶性树脂的负型抗蚀剂组合物，（B）含有低分子量的化合物 分子量为2,000以下且具有氧杂环丁烷结构的化合物，（C）阳离子光聚合引发剂，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。

公开(公告)号：US20100040972A1

公开(公告)日：2010-02-18

申请号：US12578520

申请日：2009-10-13

申请人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

发明人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A pattern forming method comprising a step of applying a resist composition whose solubility in a negative tone developer decreases upon irradiation with an actinic ray or radiation and which contains a resin having an alicyclic hydrocarbon structure and a dispersity of 1.7 or less and being capable of increasing the polarity by the action of an acid, an exposure step, and a development step using a negative tone developer; a resist composition for use in the method; and a developer and a rinsing solution for use in the method, are provided, whereby a pattern with reduced line edge roughness and high dimensional uniformity can be formed.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括施加抗蚀剂组合物的步骤，所述抗蚀剂组合物在负光谱显影剂中的溶解度随着光化射线或辐射的照射而降低，并且其含有具有脂环族烃结构和分散性为1.7以下并且能够增加的树脂 通过酸的作用的极性，曝光步骤和使用负色调显影剂的显影步骤; 用于该方法的抗蚀剂组合物; 并且提供了用于该方法的显影剂和冲洗溶液，由此可以形成线边缘粗糙度降低且尺寸均匀性高的图案。

公开(公告)号：US20080241742A1

公开(公告)日：2008-10-02

申请号：US12053653

申请日：2008-03-24

申请人： Wataru HOSHINO ,  Hideaki TSUBAKI ,  Masahiro YOSHIDOME

发明人： Wataru HOSHINO ,  Hideaki TSUBAKI ,  Masahiro YOSHIDOME

IPC分类号： G03F7/26 ,  C07D407/00 ,  C07D303/02 ,  C07D331/04 ,  G03F7/004 ,  C07D409/00 ,  C07D331/02 ,  C07D305/06

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

摘要： A surface-treating agent for forming a resist pattern, includes: a compound represented by formula (1) as defined in the specification, wherein the surface-treating agent is used in a step between a formation of a first resist pattern on a first resist film and a formation of a second resist film on the first resist pattern to form a second resist pattern, and a pattern-forming method uses the surface-treating agent.

摘要翻译： 用于形成抗蚀剂图案的表面处理剂包括：如说明书中所定义的由式（1）表示的化合物，其中所述表面处理剂用于在第一抗蚀剂上形成第一抗蚀剂图案之间的步骤 膜和第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂膜以形成第二抗蚀剂图案，并且图案形成方法使用表面处理剂。