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    Method for optical proximity correction of a reticle to be manufactured using variable shaped beam lithography
    9.
    发明授权
    Method for optical proximity correction of a reticle to be manufactured using variable shaped beam lithography 有权
    使用可变形光束光刻制造的掩模版的光学邻近校正方法

    公开(公告)号：US08263295B2

    公开(公告)日：2012-09-11

    申请号：US13161487

    申请日：2011-06-15

    申请人： Akira Fujimura ,  Lance Glasser

    发明人： Akira Fujimura ,  Lance Glasser

    IPC分类号： G03F1/20 ,  G03F1/36

    CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/20 ,  G03F1/36 ,  G03F1/78 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265 ,  Y10S430/143

    摘要： A method for optical proximity correction (OPC) of a desired pattern for a substrate is disclosed in which a plurality of variable shaped beam (VSB) shots are determined which can form on a surface an OPC-corrected version of the desired substrate pattern. Shots within the plurality of VSB shots are allowed to overlap each other. Dosages of the shots may also be allowed to vary with respect to each other. The union of the plurality of shots may deviate from the OPC-corrected version of the desired pattern for the substrate. In some embodiments, optimization may be used to minimize shot count. In other embodiments, the plurality of shots may be optionally selected from one or more pre-computed VSB shots or groups of VSB shots, that is, glyphs. A method for creating glyphs is also disclosed, in which patterns that would result on a surface from one or a group of VSB shots are pre-calculated.

    摘要翻译： 公开了一种用于衬底的期望图案的光学邻近校正（OPC）的方法，其中确定可以在表面上形成所需衬底图案的OPC校正版本的多个可变形波束（VSB）镜头。 在多个VSB拍摄之间的拍摄被允许彼此重叠。 镜头的剂量也可以被允许相对于彼此而变化。 多个镜头的联合可能偏离用于衬底的期望图案的OPC校正版本。 在一些实施例中，可以使用优化来最小化镜头计数。 在其他实施例中，多个镜头可以可选地选自一个或多个预先计算的VSB镜头或VSB镜头组，即字形。 还公开了一种用于创建字形的方法，其中将导致来自一个或一组VSB镜头的表面的图案被预先计算。

    Method for manufacturing a surface and integrated circuit using variable shaped beam lithography
    10.
    发明授权
    Method for manufacturing a surface and integrated circuit using variable shaped beam lithography 有权
    使用可变形光束光刻制造表面和集成电路的方法

    公开(公告)号：US08202673B2

    公开(公告)日：2012-06-19

    申请号：US13087336

    申请日：2011-04-14

    申请人： Akira Fujimura ,  Lance Glasser

    发明人： Akira Fujimura ,  Lance Glasser

    IPC分类号： G03C5/00

    CPC分类号： G03F1/36 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/144 ,  G03F1/20 ,  G03F1/78 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/2063 ,  G03F7/70441 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  H01J37/3174 ,  Y02P90/265 ,  Y10S430/143 ,  Y10T428/24479

    摘要： A method is disclosed in which a plurality of variable shaped beam (VSB) shots is used to form a desired pattern on a surface. In this method some shots within the plurality of shots overlap each other. Additionally, the union of any subset of the plurality of shots differ from the desired pattern. In some embodiments, dosages of the shots vary with respect to each other. In other embodiments, an optimization technique may be used to minimize shot count. In yet other embodiments, the plurality of shots may be optionally selected from one or more pre-computed VSB shots or groups of VSB shots. The method of the present disclosure may be used, for example, in the process of manufacturing an integrated circuit by optical lithography using a reticle, or in the process of manufacturing an integrated circuit using direct write.

    摘要翻译： 公开了一种方法，其中使用多个可变形波束（VSB）射击来在表面上形成期望的图案。 在该方法中，多个拍摄中的一些拍摄重叠。 此外，多个镜头的任何子集的联合与期望的图案不同。 在一些实施例中，镜头的剂量相对于彼此变化。 在其他实施例中，可以使用优化技术来最小化镜头计数。 在其他实施例中，多个镜头可以可选地从一个或多个预先计算的VSB镜头或VSB镜头组中选择。 本公开的方法可以用于例如通过使用光罩的光学光刻或在使用直接写入制造集成电路的过程中制造集成电路的过程中。