公开(公告)号：US5596266A

公开(公告)日：1997-01-21

申请号：US232235

申请日：1994-06-23

申请人： Akira Mori ,  Ikuo Uchino ,  Atsuhiko Hirosawa ,  Kunihiro Yamazaki

发明人： Akira Mori ,  Ikuo Uchino ,  Atsuhiko Hirosawa ,  Kunihiro Yamazaki

IPC分类号： G01B7/12 ,  G01N15/02 ,  G01N15/10 ,  G01N33/28 ,  G01V3/00 ,  G06M11/00 ,  G01N27/06

CPC分类号： G01N15/1031 ,  G01N33/2858

摘要： A metal particle detecting sensor (10), having a simple structure, can perform in-line analysis for metal particles in fluid and also can precisely estimate or detect the number of metal particles for each particle size. Metal films (1) and insulating films (2) are alternately laminated one upon another, and every other metal film (1) in the laminate is connected in parallel with one another to one of two lead wires (3a, 3b) so as to form comb electrodes in the laminate of the sensor, and one end face of the laminate is immersed in a fluid (4) containing metal particles so as to detect the metal particles.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP92 / 01436 Sec。 371日期1994年6月23日 102（e）日期1994年6月23日PCT提交于1992年11月6日PCT公布。 第WO93 / 09425号公报 日期：1993年5月13日具有简单结构的金属颗粒检测传感器（10）可以对流体中的金属颗粒进行在线分析，并且可以精确地估计或检测每个粒度的金属颗粒的数量。 金属膜（1）和绝缘膜（2）彼此交替层叠，并且层叠体中的每隔一层的金属膜（1）彼此并联连接到两条引线（3a，3b）中的一条，以便 在传感器的叠层中形成梳电极，并且将层压体的一个端面浸入含有金属颗粒的流体（4）中以检测金属颗粒。

公开(公告)号：US5457396A

公开(公告)日：1995-10-10

申请号：US119067

申请日：1993-09-14

申请人： Akira Mori ,  Ikuo Uchino ,  Atsuhiko Hirosawa ,  Kunihiro Yamasaki

发明人： Akira Mori ,  Ikuo Uchino ,  Atsuhiko Hirosawa ,  Kunihiro Yamasaki

IPC分类号： G01V3/08 ,  G01N15/02 ,  G01N15/10 ,  G01N27/06

CPC分类号： G01N15/1031 ,  G01N15/0266

摘要： An electrode structure of a metallic particle detecting sensor capable of detecting with high efficiency metal powders floating in a wide range in an oil tank. The electrode structure is formed by opposing, on a substrate, a pair of electrodes (1, 2), formed of thin film metals of such as Ta, W, Pt, Cr, Au or the like, having combed (toothed) structures with their respective teeth being meshed or interdigitated with each other.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP92 / 00356 Sec。 371日期：1993年9月14日 102（e）日期1993年9月14日PCT 1992年3月24日PCT公布。 公开号WO92 / 17772 日期：1992年10月15日。一种金属颗粒检测传感器的电极结构，其能够在油箱中在宽范围内浮动的高效金属粉末检测。 电极结构通过在基板上相对地形成有由诸如Ta，W，Pt，Cr，Au等的薄膜金属形成的一对电极（1,2），其具有梳形（齿形）结构， 它们各自的齿互相啮合或相互交错。

公开(公告)号：US20100298186A1

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：US12679577

申请日：2008-09-23

申请人： Hirohiko Otsu ,  Toshiharu Abekawa ,  Atsuhiko Hirosawa

发明人： Hirohiko Otsu ,  Toshiharu Abekawa ,  Atsuhiko Hirosawa

IPC分类号： C10M145/14

CPC分类号： C10M145/14 ,  C10M169/044 ,  C10M2203/1025 ,  C10M2209/084 ,  C10M2215/08 ,  C10M2223/045 ,  C10N2220/021 ,  C10N2220/022 ,  C10N2230/02 ,  C10N2230/06 ,  C10N2230/08 ,  C10N2240/08 ,  C10N2240/10 ,  C10N2210/02

摘要： Hydraulic oil for use in construction machinery, wherein the hydraulic oil comprises a poly(meth)acrylate of weight average molecular weight in the range of from 30,000 to 100,000 in a highly refined base oil but does not incorporate an oiliness agent, and wherein the kinetic viscosity at 60° C. is in the range of from 25 to 60 mm{hacek over ( )}/s, the kinetic viscosity at 80° C. is in the range of from 15 to 34 mm{hacek over ( )}/s, the viscosity index is in the range of from 200 to 220, and the low temperature cranking viscosity at 25° C. is in the range of from 1000 to 8000 mPa·s. The hydraulic oil of the present invention not only has a high kinetic viscosity in the high-temperature domain even though the incorporation of an oiliness agent is omitted, and can thereby effect satisfactory operation efficiently and which has excellent braking characteristics, but which also has a low viscosity in the low-temperature domain and so has excellent low-temperature performance.

摘要翻译： 用于工程机械的液压油，其中所述液压油包含在高度精炼的基础油中重均分子量为30,000至100,000的聚（甲基）丙烯酸酯，但不包含油性剂，并且其中所述动力学 在60℃下的粘度在25至60mm的范围内（hacek over（）} / s），80℃下的动力粘度在15至34mm的范围内（hacek over（）} / s，粘度指数在200〜220的范围内，25℃下的低温起动粘度在1000〜8000mPa·s的范围内。 本发明的液压油即使省略了油性剂的结合，也不仅在高温区域具有高动力粘度，因此能够有效地实现令人满意的操作，并且具有优异的制动特性，但也具有 在低温区域粘度低，所以具有优异的低温性能。

公开(公告)号：US20090031954A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：US12278650

申请日：2007-02-08

申请人： Kouichi Nishikido ,  Motonori Nakamura ,  Atsuhiko Hirosawa ,  Noboru Iida ,  Norihiko Sato ,  Atsushi Nagato ,  Toshiyuki Kamei

发明人： Kouichi Nishikido ,  Motonori Nakamura ,  Atsuhiko Hirosawa ,  Noboru Iida ,  Norihiko Sato ,  Atsushi Nagato ,  Toshiyuki Kamei

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67115 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4585 ,  C30B25/12 ,  H01L21/68735

摘要： A susceptor capable of reducing unevenness in a film-thickness of an epitaxial film on an outer surface of a substrate wafer and a manufacturing apparatus of an epitaxial wafer are provided. The susceptor includes a wafer placement and a peripheral portion. The wafer placement is greater in size than the substrate wafer W and substantially disc-shaped. The peripheral portion is substantially in a ring-plate shape and includes: an inner circumference standing in a fashion surrounding a peripheral portion of the wafer placement; and an upper surface outwardly extending from an upper end of the inner circumference in parallel to the placement surface of the wafer placement. In the chemical vapor deposition control unit, an inner circumference has a curvature substantially similar to a curvature of the inner circumference of the peripheral portion, and the upper surface is leveled with the upper surface) of the peripheral portion. The chemical vapor deposition control unit is made of SiO2 which is less reactive with a reaction gas than a SiC film.

摘要翻译： 提供一种能够减小衬底晶片的外表面上的外延膜的膜厚度和外延晶片的制造装置的基座。 感受体包括晶片放置和周边部分。 晶片放置的尺寸大于衬底晶片W并且基本上是圆盘形。 周边部分基本上是环形的，并且包括：以围绕晶片放置的周边部分的方式站立的内圆周; 以及从内圆周的上端平行于晶片放置的放置表面向外延伸的上表面。 在化学气相沉积控制单元中，内圆周具有与周边部分的内周的曲率大致相似的曲率，并且上表面与上表面平齐）。 化学气相沉积控制单元由与SiC膜反应气反应性较低的SiO 2制成。

公开(公告)号：US20070281084A1

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：US11806091

申请日：2007-05-30

申请人： Atsuhiko Hirosawa ,  Noboru Iida ,  Norihiko Sato ,  Atsushi Nagato ,  Toshiyuki Kamei ,  Kouichi Nishikido ,  Motonori Nakamura

发明人： Atsuhiko Hirosawa ,  Noboru Iida ,  Norihiko Sato ,  Atsushi Nagato ,  Toshiyuki Kamei ,  Kouichi Nishikido ,  Motonori Nakamura

IPC分类号： C23C16/00 ,  B05C11/00

CPC分类号： C23C16/45565 ,  C23C16/52

摘要： A reactant gas is supplied to a gas inlet port 40B of a reaction chamber 20A from a plurality of gas flow paths 36A. The number of gas flow paths 36A is five or more within a range of one side of the gas inlet port 40B divided in two at the center thereof. The pitch between adjacent gas flow paths 36A is 10 mm or more. A baffle 38 having a plurality of slit holes 38A is disposed upstream of the gas flow paths 36A. The gas flow rates of the respective gas flow paths 36A are adjusted by recurrent calculation using layer growth sensitivity data that defines the relation between the gas flow rates of the respective gas flow paths 36A.

摘要翻译： 反应气体从多个气体流路36A供给到反应室20A的气体导入口40B。气体流路36A的数量在气体入口的一侧的范围内为5以上 端口40B在其中心分为两个。 相邻气体流路36A之间的间距为10mm以上。 具有多个狭缝孔38A的挡板38设置在气体流路36A的上游。各气体流路36A的气体流量通过使用层生长敏感性数据的复数计算进行调整，该层生长敏感性数据定义了 各气体流路36A的气体流量。