公开(公告)号：US20120008121A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13196592

申请日：2011-08-02

申请人： Armin Werber ,  Norbert Muehlberger ,  Almut Czap ,  Juergen Fischer

发明人： Armin Werber ,  Norbert Muehlberger ,  Almut Czap ,  Juergen Fischer

IPC分类号： G03B27/42 ,  H01F7/00

CPC分类号： G03F7/7095 ,  G02B26/085 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70291 ,  H01F7/0221 ,  H01F7/1623 ,  H01F7/1638

摘要： The present disclosure relates to an actuator for projection exposure systems that include a magnet. The magnet is encapsulated and/or supported in a magnet holding plate that is produced by microtechnical production methods so that a moving manipulator surface is held in the magnet holding plate via monolithic or bonded connections without additional connecting material so that there is a secure connection.

摘要翻译： 本公开涉及一种包括磁体的用于投影曝光系统的致动器。 磁体被封装和/或支撑在通过微技术生产方法制造的磁体保持板中，使得移动的操纵器表面通过单片或粘合的连接件被保持在磁体保持板中，而没有附加的连接材料，使得存在安全的连接。

公开(公告)号：US09025128B2

公开(公告)日：2015-05-05

申请号：US13196592

申请日：2011-08-02

申请人： Armin Werber ,  Norbert Muehlberger ,  Almut Czap ,  Juergen Fischer

发明人： Armin Werber ,  Norbert Muehlberger ,  Almut Czap ,  Juergen Fischer

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/08 ,  G02B27/00 ,  H01F7/02 ,  H01F7/16

CPC分类号： G03F7/7095 ,  G02B26/085 ,  G02B27/0006 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70291 ,  H01F7/0221 ,  H01F7/1623 ,  H01F7/1638

摘要： The present disclosure relates to an actuator for projection exposure systems that include a magnet. The magnet is encapsulated and/or supported in a magnet holding plate that is produced by microtechnical production methods so that a moving manipulator surface is held in the magnet holding plate via monolithic or bonded connections without additional connecting material so that there is a secure connection.

摘要翻译： 本公开涉及一种包括磁体的用于投影曝光系统的致动器。 磁体被封装和/或支撑在通过微技术生产方法制造的磁体保持板中，使得移动的操纵器表面通过单片或粘合的连接件被保持在磁体保持板中，而没有附加的连接材料，使得存在安全的连接。

公开(公告)号：US08477285B2

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：US12973844

申请日：2010-12-20

申请人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

发明人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062

摘要： An optical assembly is mounted in a projection exposure apparatus (101) for EUV microlithography and includes at least one vacuum chamber (70, 71, 68a), at least one optical element (6, 7; 65, 66; 63) arranged in the vacuum chamber (70, 71, 68a), the optical element (6, 7; 65, 66; 63) having an optical surface (18) arranged to be impinged upon by a useful beam bundle (3) of the projection exposure apparatus (101), and a cleaning device (72) configured to clean the optical surface (18). The cleaning device (72) is configured to perform particle cleaning of the optical surface (18) at a gas pressure within the vacuum chamber (70,71, 68a) which is higher than a vacuum pressure (po) for performing an exposure operation with the projection exposure apparatus (101). As a result, optical elements having respective optical surfaces arranged to be impinged upon by a useful beam bundle can be cleaned reliably of foreign particles.

摘要翻译： 光学组件安装在用于EUV微光刻的投影曝光设备（101）中，并且包括至少一个真空室（70,71,68a），至少一个光学元件（6,7; 65,66,63） 所述光学元件（6,7; 65,66,63）具有光学表面（18），所述光学表面被布置成被所述投影曝光设备的有用束束（3）撞击 101）和被构造成清洁光学表面（18）的清洁装置（72）。 清洁装置（72）构造成在真空室（70,71,68a）内的气体压力下进行光学表面（18）的粒子清洁，该气体压力高于用于进行曝光操作的真空压力（po） 投影曝光装置（101）。 结果，可以可靠地清洁具有布置成被有用的束束撞击的各个光学表面的光学元件的外来颗粒。

公开(公告)号：US20100071720A1

公开(公告)日：2010-03-25

申请号：US12234447

申请日：2008-09-19

申请人： Dirk Heinrich Ehm ,  Stefan Schmidt ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Hin Yiu Anthony Chung

发明人： Dirk Heinrich Ehm ,  Stefan Schmidt ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Hin Yiu Anthony Chung

IPC分类号： B08B5/04 ,  B08B7/00 ,  C03C25/70

CPC分类号： B08B7/00 ,  B08B7/0071 ,  G03F7/70925

摘要： Inside a vacuum chamber 200 a cleaning unit 204 provides atomic hydrogen or atomic deuterium for cleaning a surface 202 at a pressure of less than 10−4 Torr or of more than 10−3 Torr. The surface 202 is heated by the heating unit 203 to a temperature of at least 50° C. This allows achieving cleaning rates of more than 60 Å/h. Preferably, the surface 202 is the surface of a multilayer mirror 201 as used in an EUV lithography apparatus.

摘要翻译： 在真空室200内，清洁单元204提供原子氢或原子氘，以在小于10-4乇或大于10-3乇的压力下清洁表面202。 表面202由加热单元203加热到至少50℃的温度。这样可实现大于60埃/小时的清洁率。 优选地，表面202是在EUV光刻设备中使用的多层反射镜201的表面。

公开(公告)号：US20110058147A1

公开(公告)日：2011-03-10

申请号：US12893762

申请日：2010-09-29

申请人： Dirk Heinrich Ehm ,  Julian Kaller ,  Stefan Schmidt ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Almut Czap ,  Hin-Yiu Anthony Chung ,  Stefan Koehler

发明人： Dirk Heinrich Ehm ,  Julian Kaller ,  Stefan Schmidt ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Almut Czap ,  Hin-Yiu Anthony Chung ,  Stefan Koehler

IPC分类号： G03B27/52 ,  C23F1/08

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B08B7/0035

摘要： A cleaning module for an EUV lithography device with a supply (206) for molecular hydrogen, a heating filament (210) and a line (212) for atomic and/or molecular hydrogen. The line (212) has at least one bend with a bending angle of less than 120 degrees, and has a material on its inner surface which has a low recombination rate for atomic hydrogen. The supply (206) is of flared shape at its end, which faces the heating filament (210). A gentler cleaning of optical elements is achieved with such a cleaning module, or also by exciting a cleaning gas with a cold cathode or a plasma, or by filtering out charged particles via of electrical and/or magnetic fields.

摘要翻译： 一种用于EUV光刻设备的清洁模块，其具有用于分子氢的供应（206），用于原子和/或分子氢的加热丝（210）和线（212）。 线（212）具有弯曲角度小于120度的至少一个弯曲部，并且在其内表面上具有原子氢复合率低的材料。 电源（206）在其端部处具有扩口形状，其面向加热丝（210）。 通过这种清洁模块或者通过用冷阴极或等离子体激发清洁气体，或者通过电场和/或磁场过滤掉带电粒子，实现对光学元件的温和清洁。

公开(公告)号：US08885141B2

公开(公告)日：2014-11-11

申请号：US13088299

申请日：2011-04-15

申请人： Wolfgang Singer ,  Yim-Bun-Patrick Kwan ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Dirk Heinrich Ehm ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Hin Yiu Anthony Chung

发明人： Wolfgang Singer ,  Yim-Bun-Patrick Kwan ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Dirk Heinrich Ehm ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Hin Yiu Anthony Chung

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20 ,  G03F1/86 ,  G03F1/82

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F1/82 ,  G03F1/86 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866

摘要： An EUV lithography device including an illumination device for illuminating a mask at an illumination position in the EUV lithography device and a projection device for imaging a structure provided on the mask onto a light-sensitive substrate. The EUV lithography device has a processing device (15) for processing an optical element (6a), in particular the mask, preferably in a locally resolved manner, at a processing position in the EUV lithography device. For activating at least one gas component of the gas stream (27), the processing device (15) includes a particle generator (30) for generating a particle beam, in particular an electron beam (30a), and/or a high-frequency generator.

摘要翻译： 一种EUV光刻设备，包括用于在EUV光刻设备中的照明位置处照射掩模的照明设备和用于将设置在掩模上的结构成像到感光基板上的投影设备。 EUV光刻设备具有处理装置（15），用于在EUV光刻设备中的处理位置优选地以局部分辨的方式处理光学元件（6a），特别是掩模。 为了激活气体流（27）的至少一种气体成分，处理装置（15）包括用于产生粒子束（特别是电子束（30a））和/或高频的粒子发生器（30） 发电机。

公开(公告)号：US09046794B2

公开(公告)日：2015-06-02

申请号：US12883247

申请日：2010-09-16

申请人： Stefan Hembacher ,  Dieter Kraus ,  Dirk Heinrich Ehm ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Stefan Wiesner ,  Hin Yiu Anthony Chung

发明人： Stefan Hembacher ,  Dieter Kraus ,  Dirk Heinrich Ehm ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Stefan Wiesner ,  Hin Yiu Anthony Chung

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： In order to clean optical components (35) inside an EUV lithography device in a gentle manner, a cleaning module for an EUV lithography device includes a supply line for molecular hydrogen and a heating filament for producing atomic hydrogen and hydrogen ions for cleaning purposes. The cleaning module also has an element, (33) arranged to apply an electric and/or magnetic field, downstream of the heating filament (29) in the direction of flow of the hydrogen (31, 32). The element can be designed as a deflection unit, as a filter unit and/or as an acceleration unit for the ion beam (32).

摘要翻译： 为了以平缓的方式清洗EUV光刻设备内的光学元件（35），用于EUV光刻设备的清洁模块包括用于分子氢的供应管线和用于产生原子氢和氢离子用于清洁目的的加热丝。 清洁模块还具有一个元件（33），其布置成沿着氢气（31,32）的流动方向在加热丝（29）的下游施加电场和/或磁场。 元件可以设计为偏转单元，作为过滤器单元和/或用作离子束（32）的加速单元。

公开(公告)号：US20110279799A1

公开(公告)日：2011-11-17

申请号：US13088299

申请日：2011-04-15

申请人： Wolfgang Singer ,  Yim-Bun-Patrick Kwan ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Dirk Heinrich Ehm ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Hin Yiu Anthony Chung

发明人： Wolfgang Singer ,  Yim-Bun-Patrick Kwan ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Dirk Heinrich Ehm ,  Dieter Kraus ,  Stefan Wiesner ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Hin Yiu Anthony Chung

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F1/82 ,  G03F1/86 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866

摘要： An EUV lithography device including an illumination device for illuminating a mask at an illumination position in the EUV lithography device and a projection device for imaging a structure provided on the mask onto a light-sensitive substrate. The EUV lithography device has a processing device (15) for processing an optical element (6a), in particular the mask, preferably in a locally resolved manner, at a processing position in the EUV lithography device. For activating at least one gas component of the gas stream (27), the processing device (15) comprises a particle generator (30) for generating a particle beam, in particular an electron beam (30a), and/or a high-frequency generator.

摘要翻译： 一种EUV光刻设备，包括用于在EUV光刻设备中的照明位置处照射掩模的照明设备和用于将设置在掩模上的结构成像到感光基板上的投影设备。 EUV光刻设备具有处理装置（15），用于在EUV光刻设备中的处理位置优选地以局部分辨的方式处理光学元件（6a），特别是掩模。 为了激活气流（27）的至少一种气体成分，处理装置（15）包括用于产生粒子束，特别是电子束（30a）和/或高频的粒子发生器（30） 发电机。

公开(公告)号：US20110188011A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：US12973844

申请日：2010-12-20

申请人： Dirk Heinrich EHM ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

发明人： Dirk Heinrich EHM ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/52 ,  B08B5/04

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062

摘要： An optical assembly is mounted in a projection exposure apparatus (101) for EUV microlithography and includes at least one vacuum chamber (70, 71, 68a), at least one optical element (6, 7; 65, 66; 63) arranged in the vacuum chamber (70, 71, 68a), the optical element (6, 7; 65, 66; 63) having an optical surface (18) arranged to be impinged upon by a useful beam bundle (3) of the projection exposure apparatus (101), and a cleaning device (72) configured to clean the optical surface (18). The cleaning device (72) is configured to perform particle cleaning of the optical surface (18) at a gas pressure within the vacuum chamber (70,71, 68a) which is higher than a vacuum pressure (po) for performing an exposure operation with the projection exposure apparatus (101). As a result, optical elements having respective optical surfaces arranged to be impinged upon by a useful beam bundle can be cleaned reliably of foreign particles.

摘要翻译： 光学组件安装在用于EUV微光刻的投影曝光设备（101）中，并且包括至少一个真空室（70,71,68a），至少一个光学元件（6,7; 65,66,63） 所述光学元件（6,7; 65,66,63）具有光学表面（18），所述光学表面被布置成被所述投影曝光设备的有用束束（3）撞击 101）和被构造成清洁光学表面（18）的清洁装置（72）。 清洁装置（72）构造成在真空室（70,71,68a）内的气体压力下进行光学表面（18）的粒子清洁，该气体压力高于用于进行曝光操作的真空压力（po） 投影曝光装置（101）。 结果，可以可靠地清洁具有布置成被有用的束束撞击的各个光学表面的光学元件的外来颗粒。

公开(公告)号：US20110043774A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12883247

申请日：2010-09-16

申请人： Stefan HEMBACHER ,  Dieter Kraus ,  Dirk Heinrich EHM ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Stefan Wiesner ,  Hin Yiu Anthony Chung

发明人： Stefan HEMBACHER ,  Dieter Kraus ,  Dirk Heinrich EHM ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Stefan Wiesner ,  Hin Yiu Anthony Chung

IPC分类号： G03B27/52 ,  G21G5/00

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： In order to clean optical components (35) inside an EUV lithography device in a gentle manner, a cleaning module for an EUV lithography device includes a supply line for molecular hydrogen and a heating filament for producing atomic hydrogen and hydrogen ions for cleaning purposes. The cleaning module also has an element, (33) arranged to apply an electric and/or magnetic field, downstream of the heating filament (29) in the direction of flow of the hydrogen (31, 32). The element can be designed as a deflection unit, as a filter unit and/or as an acceleration unit for the ion beam (32).

摘要翻译： 为了以平缓的方式清洗EUV光刻设备内的光学元件（35），用于EUV光刻设备的清洁模块包括用于分子氢的供应管线和用于产生原子氢和氢离子用于清洁目的的加热丝。 清洁模块还具有一个元件（33），其布置成沿着氢气（31,32）的流动方向在加热丝（29）的下游施加电场和/或磁场。 元件可以设计为偏转单元，作为过滤器单元和/或用作离子束（32）的加速单元。