公开(公告)号：US20050255405A1

公开(公告)日：2005-11-17

申请号：US11124224

申请日：2005-05-06

申请人： Bong-gi Kim ,  Sung-mun Ryu ,  Seong-mo Park ,  Chan-seok Park

发明人： Bong-gi Kim ,  Sung-mun Ryu ,  Seong-mo Park ,  Chan-seok Park

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  G03F7/11 ,  H01J9/02 ,  H01J11/22 ,  H01J11/34 ,  H01J11/36

CPC分类号： G03F7/027 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125

摘要： The invention provides photoresist resin compositions and in particular, a photoresist resin compositions comprising a) an acrylate monomer having two urethane bonds, b) a crosslinkable urethane monomer having at least two ethylene double bonds, c) an alkali-soluble compound, d) a photopolymerization initiator and e) a solvent, and a photoresist dry film resists using the photoresist resins. The photoresist resin compositions and the photoresist dry film resists using the same in accordance with the invention have excellent adhesion to a substrate and sandblast resistance and at the same time, they have high sensitivity as well as high resolution, thereby enabling fine pattern formation on substrates.

摘要翻译： 本发明提供了光致抗蚀剂树脂组合物，特别是光致抗蚀剂树脂组合物，其包含a）具有两个氨基甲酸酯键的丙烯酸酯单体，b）具有至少两个乙烯双键的交联性氨基甲酸酯单体，c）碱溶性化合物，d） 光聚合引发剂和e）溶剂，并且光致抗蚀剂干膜抗蚀使用光致抗蚀剂树脂。 根据本发明的光致抗蚀剂树脂组合物和使用其的光致抗蚀剂干膜具有优异的对基材的粘合性和耐喷砂性，同时它们具有高灵敏度和高分辨率，从而能够在基板上形成精细的图案 。

公开(公告)号：US07378223B2

公开(公告)日：2008-05-27

申请号：US11124224

申请日：2005-05-06

申请人： Bong-gi Kim ,  Sung-mun Ryu ,  Seong-mo Park ,  Chan-seok Park

发明人： Bong-gi Kim ,  Sung-mun Ryu ,  Seong-mo Park ,  Chan-seok Park

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03C1/76 ,  G03F7/028 ,  G03F7/09

CPC分类号： G03F7/027 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125

摘要： The invention provides photoresist resin compositions and in particular, a photoresist resin compositions comprising a) an acrylate monomer having two urethane bonds, b) a crosslinkable urethane monomer having at least two ethylene double bonds, c) an alkali-soluble compound, d) a photopolymerization initiator and e) a solvent, and a photoresist dry film resists using the photoresist resins. The photoresist resin compositions and the photoresist dry film resists using the same in accordance with the invention have excellent adhesion to a substrate and sandblast resistance and at the same time, they have high sensitivity as well as high resolution, thereby enabling fine pattern formation on substrates.

摘要翻译： 本发明提供了光致抗蚀剂树脂组合物，特别是光致抗蚀剂树脂组合物，其包含a）具有两个氨基甲酸酯键的丙烯酸酯单体，b）具有至少两个乙烯双键的交联性氨基甲酸酯单体，c）碱溶性化合物，d） 光聚合引发剂和e）溶剂，并且光致抗蚀剂干膜抗蚀使用光致抗蚀剂树脂。 根据本发明的光致抗蚀剂树脂组合物和使用其的光致抗蚀剂干膜具有优异的对基材的粘合性和耐喷砂性，同时它们具有高灵敏度和高分辨率，从而能够在基板上形成精细图案 。