公开(公告)号：US20110063598A1

公开(公告)日：2011-03-17

申请号：US12915785

申请日：2010-10-29

申请人： Damian Fiolka ,  Berndt Warm ,  Christian Steigerwald ,  Martin Endres ,  Ralf Stuetzle ,  Jens Ossmann ,  Ralf Scharnweber ,  Markus Hauf ,  Udo Dinger ,  Severin Waldis ,  Marc Kirch ,  Joachim Hartjes

发明人： Damian Fiolka ,  Berndt Warm ,  Christian Steigerwald ,  Martin Endres ,  Ralf Stuetzle ,  Jens Ossmann ,  Ralf Scharnweber ,  Markus Hauf ,  Udo Dinger ,  Severin Waldis ,  Marc Kirch ,  Joachim Hartjes

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70083

摘要： An illumination optics for EUV microlithography guides an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension and a shorter field dimension, where the ratio is considerably greater than 1. A field facet mirror has a plurality of field facets that set defined illumination conditions in the object field. A following optics downstream of the field facet mirror transmits the illumination light into the object field. The following optics includes a pupil facet mirror with a plurality of pupil facets. The field facets are in each case individually allocated to the pupil facets so that portions of the illumination light bundle impinging upon in each case one of the field facets are guided on to the object field via the associated pupil facet. The field facet mirror not only includes a plurality of basic illumination field facets which provide a basic illumination of the object field via associated basic illumination pupil facets, but also includes a plurality of correction illumination field facets which provide for a correction of the illumination of the object field via associated correction illumination pupil facets. The result is an illumination optics which allows unwanted variations of illumination parameters, for instance an illumination intensity distribution or an illumination angle distribution, to be corrected across the object field.

摘要翻译： 用于EUV微光刻的照明光学器件将照射光束从辐射源引导到物场，其具有在较大场尺寸和较短场尺寸之间的延伸比，其中该比率远大于1.场分面镜具有多个 的场面在场景中设置定义的照明条件。 在场面反射镜下游的以下光学器件将照明光透射到物体场中。 以下光学器件包括具有多个光瞳面的光瞳小面镜。 场分面在每种情况下分别被分配给光瞳面，使得在各种情况下照射的照明光束的一部分通过相关联的光瞳小面被引导到物场。 场面镜不仅包括多个基本照明场面，它们通过相关联的基本照明光瞳面提供物场的基本照明，而且还包括多个校正照明场面，其提供对照射的照明的校正 通过相关联的校正照明光瞳面进行物体场。 结果是照明光学元件允许在整个对象场校正照明参数的不期望的变化，例如照明强度分布或照明角度分布。

公开(公告)号：US08587767B2

公开(公告)日：2013-11-19

申请号：US12915785

申请日：2010-10-29

申请人： Damian Fiolka ,  Berndt Warm ,  Christian Steigerwald ,  Martin Endres ,  Ralf Stuetzle ,  Jens Ossmann ,  Ralf Scharnweber ,  Markus Hauf ,  Udo Dinger ,  Severin Waldis ,  Marc Kirch ,  Joachim Hartjes

发明人： Damian Fiolka ,  Berndt Warm ,  Christian Steigerwald ,  Martin Endres ,  Ralf Stuetzle ,  Jens Ossmann ,  Ralf Scharnweber ,  Markus Hauf ,  Udo Dinger ,  Severin Waldis ,  Marc Kirch ,  Joachim Hartjes

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/54 ,  G03B27/68 ,  G03B27/42 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70083

摘要： Illumination optics for EUV microlithography guide an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension and a shorter field dimension, where the ratio is considerably greater than 1.

摘要翻译： 用于EUV微光刻的照明光学器件将照射光束从辐射源引导到物场，其具有较长场尺寸和较短场尺寸之间的延伸比，其中该比率显着大于1。

公开(公告)号：US20060055909A1

公开(公告)日：2006-03-16

申请号：US11191925

申请日：2005-07-29

申请人： Damian Fiolka ,  Ralf Lindner ,  Ralf Scharnweber

发明人： Damian Fiolka ,  Ralf Lindner ,  Ralf Scharnweber

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G02B27/286 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70966

摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus has a first polarization manipulator, a second polarization manipulator and at least one optical element located between these manipulators. The polarization manipulators ensure that the direction of the electric field vector of a light ray varies in time between the polarization manipulators, whereas the polarization state is fixed outside the polarization manipulators. This prevents high energy light from inducing birefringence in optical elements arranged between the two polarization manipulators.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光装置的照明系统具有第一偏振操纵器，第二偏振操纵器和位于这些操纵器之间的至少一个光学元件。 偏振操纵器确保光线的电场矢量的方向在偏振操纵器之间在时间上变化，而偏振状态固定在偏振操纵器的外部。 这防止高能量光在布置在两个偏振操纵器之间的光学元件中引起双折射。

公开(公告)号：US08634060B2

公开(公告)日：2014-01-21

申请号：US12725223

申请日：2010-03-16

申请人： Ralf Scharnweber

发明人： Ralf Scharnweber

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70991

摘要： In a method for multiply exposing at least one substrate coated with a photosensitive layer, a first exposure is carried out in accordance with a first set of exposure parameters on a first projection system (17), and a second exposure is carried out in accordance with a second set of exposure parameters on a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17). The projection systems are integrated in a common projection exposure installation (1). The first exposure can be carried out, for example, with an amplitude mask (6), the second exposure with a phase mask (9). The use of a number of projection systems enables multiple exposure that is performed in parallel and is therefore timesaving.

摘要翻译： 在用感光层涂覆的至少一个基底进行多次曝光的方法中，根据第一投影系统（17）上的第一组曝光参数进行第一曝光，并且根据 在与第一投影系统（17）空间分离的第二投影系统（18）上的第二组曝光参数。 投影系统集成在通用投影曝光装置（1）中。 可以例如利用幅度掩模（6）进行第一曝光，用相位掩模（9）进行第二次曝光。 使用多个投影系统可以实现并行执行的多次曝光，因此节省时间。

公开(公告)号：US20090021716A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12190308

申请日：2008-08-12

申请人： Johannes Wangler ,  Heiko Siekmann ,  Kenneth Weible ,  Ralf Scharnweber ,  Manfred Maul ,  Markus Deguenther ,  Michael Layh ,  Axel Scholz ,  Uwe Spengler ,  Reinhard Voelkel

发明人： Johannes Wangler ,  Heiko Siekmann ,  Kenneth Weible ,  Ralf Scharnweber ,  Manfred Maul ,  Markus Deguenther ,  Michael Layh ,  Axel Scholz ,  Uwe Spengler ,  Reinhard Voelkel

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0911 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70158

摘要： Illumination systems for microlithographic projection exposure apparatus, as well as related systems, components and methods are disclosed. In some embodiments, an illumination system includes one or more scattering structures and an optical integrator that produces a plurality of secondary light sources.

摘要翻译： 公开了用于微光刻投影曝光装置的照明系统，以及相关系统，组件和方法。 在一些实施例中，照明系统包括一个或多个散射结构和产生多个次级光源的光学积分器。

公开(公告)号：US20050213070A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11080500

申请日：2005-03-16

申请人： Ralf Scharnweber

发明人： Ralf Scharnweber

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70991

摘要： In a method for multiply exposing at least one substrate coated with a photosensitive layer, a first exposure is carried out in accordance with a first set of exposure parameters on a first projection system (17), and a second exposure is carried out in accordance with a second set of exposure parameters on a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17). The projection systems are integrated in a common projection exposure installation (1). The first exposure can be carried out, for example, with an amplitude mask (6), the second exposure with a phase mask (9). The use of a number of projection systems enables multiple exposure that is performed in parallel and is therefore timesaving.

摘要翻译： 在用感光层涂覆的至少一个基底进行多次曝光的方法中，根据第一投影系统（17）上的第一组曝光参数进行第一曝光，并且根据 在与第一投影系统（17）空间分离的第二投影系统（18）上的第二组曝光参数。 投影系统集成在通用投影曝光装置（1）中。 可以例如利用幅度掩模（6）进行第一曝光，用相位掩模（9）进行第二次曝光。 使用多个投影系统可以实现并行执行的多次曝光，因此节省时间。

公开(公告)号：US20130148092A1

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：US13760268

申请日：2013-02-06

申请人： Johannes Wangler ,  Heiko Siekmann ,  Kenneth Weible ,  Ralf Scharnweber ,  Manfred Maul ,  Markus Deguenther ,  Michael Layh ,  Axel Scholz ,  Uwe Spengler ,  Reinhard Voelkel

发明人： Johannes Wangler ,  Heiko Siekmann ,  Kenneth Weible ,  Ralf Scharnweber ,  Manfred Maul ,  Markus Deguenther ,  Michael Layh ,  Axel Scholz ,  Uwe Spengler ,  Reinhard Voelkel

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0911 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70158

摘要： Illumination systems for microlithographic projection exposure apparatus, as well as related systems, components and methods are disclosed. In some embodiments, an illumination system includes one or more scattering structures and an optical integrator that produces a plurality of secondary light sources.

公开(公告)号：US20110083542A1

公开(公告)日：2011-04-14

申请号：US12973234

申请日：2010-12-20

申请人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

发明人： Oliver Wolf ,  Heiko Siekmann ,  Eva Kalchbrenner ,  Siegfried Rennon ,  Johannes Wangler ,  Andre Bresan ,  Michael Gerhard ,  Nils Haverkamp ,  Axel Scholz ,  Ralf Scharnweber ,  Michael Layh ,  Stefan Burkart

IPC分类号： B26D3/06 ,  B26D7/27

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

摘要： The disclosure relates to an optical integrator configured to produce a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus. The disclosure also relates to a method of manufacturing an array of elongated microlenses for use in such an illumination system. Arrays of elongated microlenses are often contained in optical integrators or scattering plates of such illumination systems.

摘要翻译： 本发明涉及一种被配置为在微光刻投影曝光设备的照明系统中产生多个次级光源的光学积分器。 本公开还涉及制造用于这种照明系统的细长微透镜阵列的方法。 细长微透镜的数组经常被包含在这种照明系统的光学积分器或散射板中。

公开(公告)号：US20100173250A1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：US12725223

申请日：2010-03-16

申请人： Ralf Scharnweber

发明人： Ralf Scharnweber

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70991

摘要： In a method for multiply exposing at least one substrate coated with a photosensitive layer, a first exposure is carried out in accordance with a first set of exposure parameters on a first projection system (17), and a second exposure is carried out in accordance with a second set of exposure parameters on a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17). The projection systems are integrated in a common projection exposure installation (1). The first exposure can be carried out, for example, with an amplitude mask (6), the second exposure with a phase mask (9). The use of a number of projection systems enables multiple exposure that is performed in parallel and is therefore timesaving.

摘要翻译： 在用感光层涂覆的至少一个基底进行多次曝光的方法中，根据第一投影系统（17）上的第一组曝光参数进行第一曝光，并且根据 在与第一投影系统（17）空间分离的第二投影系统（18）上的第二组曝光参数。 投影系统集成在通用投影曝光装置（1）中。 可以例如利用幅度掩模（6）进行第一曝光，用相位掩模（9）进行第二次曝光。 使用多个投影系统可以实现并行执行的多次曝光，因此节省时间。

公开(公告)号：US20080311526A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US12142138

申请日：2008-06-19

申请人： Ralf Scharnweber

发明人： Ralf Scharnweber

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70991

摘要： In a method for multiply exposing at least one substrate coated with a photosensitive layer, a first exposure is carried out in accordance with a first set of exposure parameters on a first projection system, and a second exposure is carried out in accordance with a second set of exposure parameters on a second projection system spatially separated from the first projection system. The projection systems are integrated in a common projection exposure installation. The first exposure can be carried out, for example, with an amplitude mask, the second exposure with a phase mask. The use of a number of projection systems enables multiple exposure that is performed in parallel and is therefore timesaving.

摘要翻译： 在用感光层涂覆的至少一个基底进行多次曝光的方法中，根据第一投影系统上的第一组曝光参数进行第一曝光，并且根据第二组执行第二曝光 在与第一投影系统空间分离的第二投影系统上的曝光参数。 投影系统集成在通用投影曝光装置中。 第一曝光可以例如用幅度掩模进行，第二次曝光是用相位掩模进行的。 使用多个投影系统可以实现并行执行的多次曝光，因此节省时间。