公开(公告)号：US5504015A

公开(公告)日：1996-04-02

申请号：US309087

申请日：1994-09-20

申请人： Daniele Margadonna ,  Valter Pasqua ,  Mariano Zarcone

发明人： Daniele Margadonna ,  Valter Pasqua ,  Mariano Zarcone

IPC分类号： H01L31/042 ,  H01L31/048 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L31/1876 ,  H01L31/048 ,  H01L31/0508 ,  H01L31/0512 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： A process for preparing low-cost photovoltaic modules based on crystalline silicon. The silicon wafers are treated while supported on a substrate having properties compatible with the process.

摘要翻译： 一种制备基于晶体硅的低成本光伏组件的方法。 在支撑在具有与该方法相容的性质的基板上的同时处理硅晶片。

公开(公告)号：US09236509B2

公开(公告)日：2016-01-12

申请号：US14260687

申请日：2014-04-24

申请人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, Jr. ,  Theodore Zubil

发明人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, Jr. ,  Theodore Zubil

IPC分类号： H01L21/76 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/068 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L31/02363 ,  H01L31/068 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： Systems and methods for producing nanoscale textured low reflectivity surfaces may be utilized to fabricate solar cells. A substrate may be patterned with a resist prior to an etching process that produces a nanoscale texture on the surface of the substrate. Additionally, the substrate may be subjected to a dopant diffusion process. Prior to dopant diffusion, the substrate may be optionally subjected to liquid phase deposition to deposit a material that allows for patterned doping. The order of the nanoscale texture etching and dopant diffusion may be modified as desired to produce post-nano emitters or pre-nano emitters.

摘要翻译： 用于生产纳米级织构的低反射率表面的系统和方法可用于制造太阳能电池。 可以在蚀刻工艺之前用抗蚀剂图案化衬底，其在衬底的表面上产生纳米尺度的纹理。 此外，可以对衬底进行掺杂剂扩散处理。 在掺杂剂扩散之前，衬底可以任选地进行液相沉积以沉积允许图案化掺杂的材料。 可以根据需要修改纳米尺度纹理蚀刻和掺杂剂扩散的顺序以产生纳米后发射体或预纳米发射体。

公开(公告)号：US20140322858A1

公开(公告)日：2014-10-30

申请号：US14260687

申请日：2014-04-24

申请人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, JR. ,  Theodore Zubil

发明人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, JR. ,  Theodore Zubil

IPC分类号： H01L31/18

CPC分类号： H01L31/02363 ,  H01L31/068 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： Systems and methods for producing nanoscale textured low reflectivity surfaces may be utilized to fabricate solar cells. A substrate may be patterned with a resist prior to an etching process that produces a nanoscale texture on the surface of the substrate. Additionally, the substrate may be subjected to a dopant diffusion process. Prior to dopant diffusion, the substrate may be optionally subjected to liquid phase deposition to deposit a material that allows for patterned doping. The order of the nanoscale texture etching and dopant diffusion may be modified as desired to produce post-nano emitters or pre-nano emitters.

摘要翻译： 用于生产纳米级织构的低反射率表面的系统和方法可用于制造太阳能电池。 可以在蚀刻工艺之前用抗蚀剂图案化衬底，其在衬底的表面上产生纳米尺度的纹理。 此外，可以对衬底进行掺杂剂扩散处理。 在掺杂剂扩散之前，衬底可以任选地进行液相沉积以沉积允许图案化掺杂的材料。 可以根据需要修改纳米尺度纹理蚀刻和掺杂剂扩散的顺序以产生纳米后发射体或预纳米发射体。

公开(公告)号：US09449824B2

公开(公告)日：2016-09-20

申请号：US14260514

申请日：2014-04-24

申请人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, Jr. ,  Theodore Zubil

发明人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, Jr. ,  Theodore Zubil

IPC分类号： H01L21/22 ,  H01L21/38 ,  H01L21/223 ,  H01L31/068 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L21/223 ,  H01L31/068 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： A method for an improved doping process allows for improved control of doping concentrations on a substrate. The method may comprise printing a polymeric material on a substrate in a desired pattern; and depositing a barrier layer on the substrate with a liquid phase deposition process, wherein a pattern of the barrier layer is defined by the polymeric material. The method further comprises removing the polymeric material, and doping the substrate. The barrier layer substantially prevents or reduces doping of the substrate to allow patterned doping regions to be formed on the substrate. The method can be repeated to allow additional doping regions to be formed on the substrate.

摘要翻译： 改进掺杂工艺的方法允许改进对衬底上掺杂浓度的控制。 该方法可以包括以期望的图案在基底上印刷聚合物材料; 以及通过液相沉积工艺在衬底上沉积阻挡层，其中阻挡层的图案由聚合物材料限定。 该方法还包括去除聚合物材料并掺杂基底。 阻挡层基本上防止或减少衬底的掺杂以允许在衬底上形成图案化的掺杂区域。 可以重复该方法以允许在衬底上形成额外的掺杂区域。

公开(公告)号：US20140322906A1

公开(公告)日：2014-10-30

申请号：US14260514

申请日：2014-04-24

申请人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, JR. ,  Theodore Zubil

发明人： David H. Levy ,  Daniele Margadonna ,  Dennis Flood ,  Wendy G. Ahearn ,  Richard W. Topel, JR. ,  Theodore Zubil

IPC分类号： H01L21/223 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L21/223 ,  H01L31/068 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： A method for an improved doping process allows for improved control of doping concentrations on a substrate. The method may comprise printing a polymeric material on a substrate in a desired pattern; and depositing a barrier layer on the substrate with a liquid phase deposition process, wherein a pattern of the barrier layer is defined by the polymeric material. The method further comprises removing the polymeric material, and doping the substrate. The barrier layer substantially prevents or reduces doping of the substrate to allow patterned doping regions to be formed on the substrate. The method can be repeated to allow additional doping regions to be formed on the substrate.

摘要翻译： 改进掺杂工艺的方法允许改进对衬底上掺杂浓度的控制。 该方法可以包括以期望的图案在基底上印刷聚合物材料; 以及通过液相沉积工艺在衬底上沉积阻挡层，其中阻挡层的图案由聚合物材料限定。 该方法还包括去除聚合物材料并掺杂基底。 阻挡层基本上防止或减少衬底的掺杂以允许在衬底上形成图案化的掺杂区域。 可以重复该方法以允许在衬底上形成额外的掺杂区域。