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发明申请
METHODS OF FORMING FINE PATTERNS AND METHODS OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT DEVICES USING THE METHODS 有权
标题翻译：形成精细图案的方法和使用该方法制造集成电路器件的方法

公开(公告)号：US20160163547A1

公开(公告)日：2016-06-09

申请号：US14957777

申请日：2015-12-03

申请人： Eun-sung Kim , Dae-yong Kang , Seung-chul Kwon , Shi-yong Yi

发明人： Eun-sung Kim , Dae-yong Kang , Seung-chul Kwon , Shi-yong Yi

IPC分类号： H01L21/033

CPC分类号： H01L21/0337 , H01L21/0332 , H01L21/3086 , H01L21/31144 , H01L21/32139 , H01L27/10855

摘要： The present inventive concept provides a method of forming a fine pattern including forming a plurality of pillar-shaped guides that are regularly arranged on a feature layer.

摘要翻译： 本发明构思提供了一种形成精细图案的方法，包括形成规则地布置在特征层上的多个柱状引导件。