公开(公告)号：US20060007442A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：US11147114

申请日：2005-06-08

申请人： Gert-Jan Heerens ,  Anastasius Bruinsma ,  Jacob Klinkhamer ,  Bastiaan Lambertus Van De Ven ,  Hubert Van Mierlo ,  Willem Vliegenthart

发明人： Gert-Jan Heerens ,  Anastasius Bruinsma ,  Jacob Klinkhamer ,  Bastiaan Lambertus Van De Ven ,  Hubert Van Mierlo ,  Willem Vliegenthart

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7065 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088

摘要： An apparatus includes a first support structure configured to support an element that has an alignment marker provided with at least one height difference. The apparatus also includes an alignment sensor comprising a light source that is configured to provide a light beam that illuminates the alignment marker; and at least one detector configured to detect the at least one height difference of the alignment marker by analyzing the light beam reflected by the alignment marker. Such an apparatus may be used to align of the element with respect to the first support structure.

摘要翻译： 一种装置包括：第一支撑结构，其构造成支撑具有设置有至少一个高度差的对准标记的元件。 该装置还包括对准传感器，该对准传感器包括被配置为提供照射对准标记的光束的光源; 以及至少一个检测器，被配置为通过分析由所述对准标记物反射的光束来检测所述对准标记的所述至少一个高度差。 可以使用这样的装置来相对于第一支撑结构对准元件。

公开(公告)号：US20050275841A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US10863806

申请日：2004-06-09

申请人： Gert-Jan Heerens ,  Anastasius Bruinsma ,  Jacob Klinkhamer ,  Bastiaan Lambertus Marinus Van De Ven ,  Hubert Van Mierlo ,  Willem Vliegenthart

发明人： Gert-Jan Heerens ,  Anastasius Bruinsma ,  Jacob Klinkhamer ,  Bastiaan Lambertus Marinus Van De Ven ,  Hubert Van Mierlo ,  Willem Vliegenthart

IPC分类号： G03F9/00 ,  G01B11/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F9/7065 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088

摘要： An apparatus includes a first support structure configured to support an element that has an alignment marker provided with at least one height difference. The apparatus also includes an alignment sensor comprising a light source that is configured to provide a light beam that illuminates the alignment marker; and at least one detector configured to detect the at least one height difference of the alignment marker by analyzing the light beam reflected by the alignment marker. Such an apparatus may be used to align of the element with respect to the first support structure.

摘要翻译： 一种装置包括：第一支撑结构，其构造成支撑具有设置有至少一个高度差的对准标记的元件。 该装置还包括对准传感器，该对准传感器包括被配置为提供照射对准标记的光束的光源; 以及至少一个检测器，被配置为通过分析由所述对准标记物反射的光束来检测所述对准标记的所述至少一个高度差。 可以使用这样的装置来相对于第一支撑结构对准元件。