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    Cartridge of Electric Cigarette For Preventing Leakage
    1.
    发明申请
    Cartridge of Electric Cigarette For Preventing Leakage 审中-公开
    用于防止泄漏的电子烟盒

    公开(公告)号：US20130180533A1

    公开(公告)日：2013-07-18

    申请号：US13740238

    申请日：2013-01-13

    申请人： Han Ki Kim ,  Yong Yin Lee

    发明人： Han Ki Kim ,  Yong Yin Lee

    IPC分类号： A24F47/00

    CPC分类号： A24F47/008

    摘要： The present invention relates to a cartridge of electric cigarette for preventing leakage. The cartridge may comprise a storing container 11 to store liquid therein; an extending tube 12 to have a guide tube 121 installed within the storing container 11 and extending in a hollow cylindrical shape, a lower fixing plate 122 coupled to the lower part of the guide tube 121 and secured to the lower part of the storing container 11 and a fixing gap 123 formed at the upper part of the guide tube 121; a guide lid 16 coupled to the upper part of the extending tube 12 and introducing evaporated component; an evaporating unit 17 fixed at the fixing gap 123; and a mouth piece 13 communicating with the guide lid 16 and coupled to the upper part of the storing container 11.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于防止泄漏的电香烟盒。 墨盒可以包括用于在其中储存液体的储存容器11; 延伸管12具有安装在储存容器11内并延伸成中空圆柱形状的引导管121，连接到引导管121的下部并固定到存储容器11的下部的下固定板122 以及形成在导管121的上部的固定间隙123; 引导盖16，其连接到延伸管12的上部并且引入蒸发的部件; 固定在固定间隙123处的蒸发单元17; 以及与引导盖16连通并连接到存储容器11的上部的口部件13。

    TRANSEPIDERMAL DRUG DELIVERY SYSTEM CONTAINING TULOBUTEROL
    2.
    发明申请
    TRANSEPIDERMAL DRUG DELIVERY SYSTEM CONTAINING TULOBUTEROL 审中-公开
    包含TULOBUTEROL的转移药物递送系统

    公开(公告)号：US20110182971A1

    公开(公告)日：2011-07-28

    申请号：US12844538

    申请日：2010-07-27

    申请人： Dong Il Lee ,  Mun Seok Han ,  Tae Wan Lee ,  Jong Kyoo Lee ,  Han Ki Kim

    发明人： Dong Il Lee ,  Mun Seok Han ,  Tae Wan Lee ,  Jong Kyoo Lee ,  Han Ki Kim

    IPC分类号： A61F13/02 ,  A61K31/135

    CPC分类号： A61K9/7084 ,  A61K31/137 ,  A61K47/14

    摘要： Disclosed is a pharmaceutical composition containing tulobuterol. More specifically, disclosed is a transepidermal drug delivery system including a drug layer containing tulobuterol and a natural rubber-based adhesive material, and a supporter adhered to one surface of the drug layer to support the drug layer, wherein the natural rubber-based adhesive material comprises 10 to 40 parts by weight of a natural rubber, 54.5 to 85 parts by weight of a rosin ester resin and an acid value controller, and the drug layer has a thickness of 25 μm to 75 μm.

    摘要翻译： 公开了含有杜洛特罗的药物组合物。 更具体地，公开了一种经表皮药物递送系统，其包括含有杜洛特罗和天然橡胶基粘合剂材料的药物层，以及附着在药物层的一个表面以支撑药物层的支持物，其中天然橡胶基粘合剂材料 包含10〜40重量份的天然橡胶，54.5〜85重量份的松香酯树脂和酸值控制剂，所述药物层的厚度为25μm〜75μm。

    Method for in-situ polycrystalline thin film growth
    3.
    发明授权
    Method for in-situ polycrystalline thin film growth 有权
    原位多晶薄膜生长方法

    公开(公告)号：US07833579B2

    公开(公告)日：2010-11-16

    申请号：US11433176

    申请日：2006-05-12

    申请人： Han Ki Kim ,  Myoung Soo Kim ,  Myung Soo Huh ,  Seok Heon Jeong ,  Hee Cheol Kang

    发明人： Han Ki Kim ,  Myoung Soo Kim ,  Myung Soo Huh ,  Seok Heon Jeong ,  Hee Cheol Kang

    IPC分类号： C23C16/00

    CPC分类号： C23C16/24 ,  C23C16/44

    摘要： A method for in-situ polycrystalline thin film growth is provided. A catalyst enhanced chemical vapor deposition (CECVD) apparatus is used to grow the polycrystalline silicon thin film. No subsequent annealing or dehydrogenating process is needed. The method comprises exhausting a chamber to form a vacuum chamber, and then purging vacuum chamber and introducing a catalyst. A substrate is then placed in the vacuum chamber and reaction gas is injected into the chamber. The reaction gas reacts with the catalyst in the chamber to grow a polycrystalline thin film on the substrate. The inventive method reduces processing time and production cost and can be used to fabricate larger devices due to the elimination of bulky annealing equipment.

    摘要翻译： 提供了一种原位多晶薄膜生长的方法。 使用催化剂增强化学气相沉积（CECVD）装置来生长多晶硅薄膜。 不需要随后的退火或脱氢过程。 该方法包括排空室以形成真空室，然后净化真空室并引入催化剂。 然后将基板放置在真空室中，并将反应气体注入室中。 反应气体与室中的催化剂反应，以在衬底上生长多晶薄膜。 本发明的方法减少了处理时间和生产成本，并且由于消除了大型退火设备而可用于制造更大的装置。

    Catalyst enhanced chemical vapor deposition apparatus
    5.
    发明授权
    Catalyst enhanced chemical vapor deposition apparatus 有权
    催化剂增强化学气相沉积装置

    公开(公告)号：US07942968B2

    公开(公告)日：2011-05-17

    申请号：US11413927

    申请日：2006-04-28

    申请人： Hee Cheol Kang ,  Kazuo Furuno ,  Han Ki Kim ,  Myoung Soo Kim

    发明人： Hee Cheol Kang ,  Kazuo Furuno ,  Han Ki Kim ,  Myoung Soo Kim

    IPC分类号： C23C16/44 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306 ,  C23C16/06 ,  C23C16/22

    CPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/455

    摘要： A catalyst enhanced chemical vapor deposition (CECVD) apparatus is provided in which the showerhead and catalyst support are separated from each other. The CECVD apparatus has excellent spacing between the showerhead, catalyst wire and substrate and can be purged to prevent contaminants from forming on parts functioning at low temperatures. The CECVD apparatus comprises a reaction chamber, a showerhead for introducing reaction gas into the reaction chamber, a catalyst wire for decomposing the reaction gas, a catalyst support for supporting the catalyst wire, a substrate on which the decomposed gas is deposited, and a substrate support for supporting the substrate.

    摘要翻译： 提供催化剂增强化学气相沉积（CECVD）装置，其中喷头和催化剂载体彼此分离。 CECVD装置在喷头，催化剂丝和基材之间具有优异的间距，并且可以被清除以防止在低温下起作用的部件上形成污染物。 CECVD装置包括反应室，用于将反应气体引入反应室的喷头，用于分解反应气体的催化剂丝，用于负载催化剂丝的催化剂载体，沉积有分解气体的基板和基板 支持底物支撑。