公开(公告)号：US20070216881A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：US11377636

申请日：2006-03-17

申请人： Harmen Van Der Schoot ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Godfried Franciscus Geelen

发明人： Harmen Van Der Schoot ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Godfried Franciscus Geelen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

摘要： A moveable member is provided which extends the top surface of a substrate table, in plan, beyond a bumper which protects the substrate table during collision. The moveable member may be retracted to a retracted position in which it no longer extends beyond the bumper. In this way it is possible to move two substrate tables together and to allow the retractable member to pass under a liquid supply system which normally provides liquid between the projection system and a substrate without turning off of the liquid supply system.

摘要翻译： 提供了可移动构件，其以平面方式延伸衬底台的顶表面超过在碰撞期间保护衬底台的保险杠。 可移动构件可以缩回到缩回位置，在缩回位置，其不再延伸超过保险杠。 以这种方式，可以将两个基板台移动到一起，并允许可伸缩构件在液体供应系统之下通过，该液体供应系统通常在投影系统和基板之间提供液体而不关闭液体供应系统。

公开(公告)号：US20070188723A1

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：US11353232

申请日：2006-02-14

申请人： Bernardus Luttikhuis ,  Erik Loopstra ,  Harmen Schoot ,  Fransicus Jacobs

发明人： Bernardus Luttikhuis ,  Erik Loopstra ,  Harmen Schoot ,  Fransicus Jacobs

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： The mask in a lithographic apparatus is clamped on a first side using a first clamping device and on a second side, different from the first side, using a second clamping device. The clamping forces are preferably applied using thin membranes. The first clamp clamps the substrate in directions parallel to the plane of the patterning device, perpendicular to the plane of the patterning device and rotationally. The second clamping device clamps the patterning device only in directions parallel to the plane of the substrate.

摘要翻译： 光刻设备中的掩模使用第一夹紧装置夹紧在第一侧上，并使用第二夹紧装置夹紧在不同于第一侧的第二侧上。 夹紧力优选使用薄膜施加。 第一夹具将基板平行于图案形成装置的平面垂直于图案形成装置的平面并旋转夹紧基板。 第二夹紧装置仅在平行于基板的平面的方向上夹持图案形成装置。

公开(公告)号：US20070188724A1

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：US11353249

申请日：2006-02-14

申请人： Fransicus Jacobs ,  Marcel Baggen ,  Erik Loopstra ,  Harmen Schoot ,  Arjan Bakker ,  Arjan Wel ,  Krijn Bustraan

发明人： Fransicus Jacobs ,  Marcel Baggen ,  Erik Loopstra ,  Harmen Schoot ,  Arjan Bakker ,  Arjan Wel ,  Krijn Bustraan

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/707

摘要： A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device. The patterning device is capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam. The support includes a force actuator device to exert a force onto the patterning device in a direction of movement of the support. The force actuator device includes a movable part which is pivotably about a pivot axis and thereby connected to the support. The movable part is in the direction of movement of the support substantially balanced with respect to the pivot axis. The force actuator device further includes an actuator to exert via the movable part the force onto the patterning device, to at least partly compensate for the information or a risk of slippage due to acceleration of the support in the direction of movement.

摘要翻译： 光刻设备包括构造成支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置能够在其横截面中赋予具有图案的辐射束以形成图案化的辐射束。 该支撑件包括一个力促动器装置，以在支撑件的移动方向上向图案形成装置施加力。 力致动器装置包括可枢转地围绕枢转轴线并由此连接到支撑件的可移动部件。 可移动部分在支撑件的运动方向上相对于枢转轴线基本平衡。 力致动器装置还包括致动器，其经由可移动部件施加力到图案形成装置上，以至少部分地补偿信息或由于支撑件沿着移动方向的加速而导致的滑动的风险。

公开(公告)号：US20070178704A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：US11343219

申请日：2006-01-31

申请人： Erik Loopstra ,  Bernardus Luttikhuis ,  Herman Van Der Schoot ,  Fransicus Jacobs

发明人： Erik Loopstra ,  Bernardus Luttikhuis ,  Herman Van Der Schoot ,  Fransicus Jacobs

IPC分类号： H01L21/302

CPC分类号： G03F7/707

摘要： The invention provides a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a transmissive patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, wherein the patterning device support is configured to hold a patterning device and wherein the lithographic apparatus includes a clamping device, the clamping device being configured to clamp the patterning device at the top side.

摘要翻译： 本发明提供一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑透射式图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面上赋予辐射束图案以形成 图案化的辐射束，构造成保持衬底的衬底台，以及被配置为将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统，其中，图案形成装置支撑件构造成保持图案形成装置，并且其中光刻装置包括 夹持装置，夹持装置构造成将图案形成装置夹在顶侧。

公开(公告)号：US20070114655A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11281901

申请日：2005-11-18

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Angelo Cesar De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Angelo Cesar De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten

IPC分类号： H01L23/34

CPC分类号： G03F7/70875 ,  F28D11/02 ,  G03F7/70758 ,  H02K9/22 ,  H02N13/00

摘要： A cooling apparatus is disclosed that has a first cooling structure, in thermal contact with a heat source having a temperature greater than a cool structure, comprising a channel through which a cooling fluid is passed, an isolator between the heat source and the cool structure, the isolator in thermal contact with the first cooling structure and comprising a material of low thermal conductivity, and a second cooling structure between the isolator and the cool structure, the second cooling structure comprising a channel through which cooling fluid is passed.

摘要翻译： 公开了一种冷却装置，其具有与具有大于冷结构的温度的热源热接触的第一冷却结构，包括冷却流体通过的通道，在热源和冷结构之间的隔离器， 所述隔离器与所述第一冷却结构热接触并且包括低导热性的材料，以及在所述隔离器和所述冷结构之间的第二冷却结构，所述第二冷却结构包括冷却流体通过的通道。

公开(公告)号：US20070108848A1

公开(公告)日：2007-05-17

申请号：US11273634

申请日：2005-11-15

申请人： Sven Hol ,  Angelo De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten ,  Arjan Bakker

发明人： Sven Hol ,  Angelo De Klerk ,  Erik Loopstra ,  Fransicus Jacobs ,  Mark Scholten ,  Arjan Bakker

IPC分类号： H02K41/00 ,  G03B27/42

CPC分类号： H02K41/03 ,  G03F7/70758 ,  H02K2201/18

摘要： A motor includes a magnet assembly to generate a magnetic field. The field includes along the first direction parts which are alternately orientated in the first and the second direction. The parts extend in a third direction which is perpendicular to the first and the second direction. The motor further includes a first coil winding to carry a first current. The first coil winding to extend in the first direction between parts of the magnetic field orientated in the second direction, to generate the force in the first direction. The motor also includes a second coil winding to carry a second current. The second coil winding to extend in the first direction between parts of the magnetic field substantially orientated in the first direction, to generate the force in the second direction.

摘要翻译： 电动机包括用于产生磁场的磁体组件。 该场包括沿着第一方向的部分，其沿第一方向和第二方向交替取向。 这些部件在垂直于第一和第二方向的第三方向上延伸。 电动机还包括用于承载第一电流的第一线圈绕组。 所述第一线圈绕组在所述磁场的部分之间沿所述第一方向在所述第二方向上定向，以在所述第一方向上产生力。 电动机还包括用于承载第二电流的第二线圈绕组。 所述第二线圈绕组在所述磁场的各部分之间沿所述第一方向沿所述第一方向大致取向，以在所述第二方向上产生所述力。