公开(公告)号：US07955784B2

公开(公告)日：2011-06-07

申请号：US11554194

申请日：2006-10-30

申请人： Hi-Kuk Lee ,  Woo-Seok Jeon ,  Doo-Hee Jung ,  Jeong-Min Park ,  Deok-Man Kang ,  Si-Young Jung ,  Jae-Young Choi

发明人： Hi-Kuk Lee ,  Woo-Seok Jeon ,  Doo-Hee Jung ,  Jeong-Min Park ,  Deok-Man Kang ,  Si-Young Jung ,  Jae-Young Choi

IPC分类号： G03F7/30

CPC分类号： H01L27/1288 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  H01L27/1214

摘要： A photoresist composition includes about 100 parts by weight of resin mixture including novolak resin and acryl resin and about 10 parts to about 50 parts by weight of naphthoquinone diazosulfonic acid ester. A weight-average molecular weight of the novolak resin is no less than about 30,000. A weight-average molecular weight of the acryl resin is no less than about 20,000. The acryl resin makes up about 1% to about 15% of the total weight of the resin mixture. When a photoresist film formed using the photoresist composition is heated, a profile variation of the photoresist composition is relatively small. Therefore, a residual photoresist film has a uniform thickness, and a short circuit and/or an open defect in a TFT substrate may be reduced.

摘要翻译： 光致抗蚀剂组合物包括约100重量份的包括酚醛清漆树脂和丙烯酸树脂的树脂混合物和约10重量份至约50重量份的萘醌重氮磺酸酯。 酚醛清漆树脂的重均分子量不小于约30,000。 丙烯酸树脂的重均分子量不小于约20,000。 丙烯酸树脂占树脂混合物总重量的约1％至约15％。 当使用光致抗蚀剂组合物形成的光致抗蚀剂膜被加热时，光致抗蚀剂组合物的轮廓变化相对较小。 因此，残留的光致抗蚀剂膜具有均匀的厚度，并且可能减小TFT基板中的短路和/或开路缺陷。

公开(公告)号：US08475840B2

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：US10599729

申请日：2005-04-08

申请人： Jong Soo Woo ,  Hong-Gi Yi ,  Moon-Hyuk Chi ,  Jae-Kuk Ryu ,  Si-Young Jung ,  Yong-Il Kim

发明人： Jong Soo Woo ,  Hong-Gi Yi ,  Moon-Hyuk Chi ,  Jae-Kuk Ryu ,  Si-Young Jung ,  Yong-Il Kim

IPC分类号： A61K47/00

CPC分类号： A61K9/2077 ,  A61K9/145 ,  A61K9/146 ,  A61K9/16 ,  A61K31/366

摘要： The sustained release formulation for oral administration of an HMG-CoA reductase inhibitor of the present invention can be easily and economically prepared and is capable of maintaining a constant drug level in blood by slowly releasing the HMG-CoA reductase inhibitor at a uniform rate for 24 hrs. Accordingly, the sustained release formulation of the present invention can be effectively used for lowering blood cholesterol and triglyceride levels.

摘要翻译： 用于口服本发明的HMG-CoA还原酶抑制剂的缓释制剂可以容易且经济地制备，并且通过以均匀的速率缓慢释放HMG-CoA还原酶抑制剂24，能够维持血液中恒定的药物水平 小时 因此，本发明的缓释制剂可以有效地用于降低血液胆固醇和甘油三酯水平。

公开(公告)号：US20070196480A1

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：US10599729

申请日：2005-04-08

申请人： Jong Woo ,  Hong-Gi Yi ,  Moon-Hyuk Chi ,  Jae-Kuk Ryu ,  Si-Young Jung ,  Yong-II Kim

发明人： Jong Woo ,  Hong-Gi Yi ,  Moon-Hyuk Chi ,  Jae-Kuk Ryu ,  Si-Young Jung ,  Yong-II Kim

IPC分类号： A61K31/401 ,  A61K31/366 ,  A61K31/22 ,  A61K9/22

CPC分类号： A61K9/2077 ,  A61K9/145 ,  A61K9/146 ,  A61K9/16 ,  A61K31/366

摘要： The sustained release formulation for oral administration of an HMG-CoA reductase inhibitor of the present invention can be easily and economically prepared and is capable of maintaining a constant drug level in blood by slowly releasing the HMG-CoA reductase inhibitor at a uniform rate for 24 hrs. Accordingly, the sustained release formulation of the present invention can be effectively used for lowering blood cholesterol and triglyceride levels.

摘要翻译： 用于口服本发明的HMG-CoA还原酶抑制剂的缓释制剂可以容易且经济地制备，并且通过以均匀的速率缓慢释放HMG-CoA还原酶抑制剂24，能够维持血液中恒定的药物水平 小时 因此，本发明的缓释制剂可以有效地用于降低血液胆固醇和甘油三酯水平。

公开(公告)号：US20100307184A1

公开(公告)日：2010-12-09

申请号：US12740387

申请日：2008-10-17

申请人： Si-Young Jung

发明人： Si-Young Jung

IPC分类号： F25D3/00 ,  F25D23/02

CPC分类号： F25D23/126 ,  F25D2331/81

摘要： A dispenser and a refrigerator with the same are provided, the dispenser comprising a dispenser housing with an accommodating space therein, and a water supply unit disposed in the accommodating space, and implemented to adjust at least one of height and direction thereof, whereby the position of water outlet can be varied so as to facilitate a water reception.

摘要翻译： 提供了一种分配器和具有该分配器的冰箱，所述分配器包括其中具有容纳空间的分配器壳体和设置在所述容纳空间中的供水单元，并且被实施为调节其高度和方向中的至少一个， 的出水口可以变化，以便于接收水。