公开(公告)号：US5916738A

公开(公告)日：1999-06-29

申请号：US18729

申请日：1998-02-04

申请人： Hiroshi Takehana ,  Tetsuo Yamamoto ,  Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

发明人： Hiroshi Takehana ,  Tetsuo Yamamoto ,  Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  B24C1/04 ,  B24C3/32 ,  C08F290/00 ,  C08F299/06 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/12 ,  H01J9/02 ,  H01J9/14 ,  H05K3/04 ,  G03F7/00

CPC分类号： B24C3/322 ,  B24C1/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/12 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/112

摘要： Disclosed is a photosensitive resin composition suitable as a resist material against sandblasting for pattern-wise engraving of the surface of a body after photolithographic patterning, which comprises: (a) a urethane compound having a (meth)acrylate group at the molecular end, which is obtained from a polyether or polyester compound having a hydroxy group at the molecular chain end, a diisocyanate compound and a (meth)acrylate compound having a hydroxy group; (b) an alkali-soluble polymeric compound having an acid value in the range from 50 to 250 mg KOH/g; and (c) a photopolymerization initiator.

摘要翻译： 本发明公开了一种光刻树脂组合物，其特征在于，其特征在于，其特征在于，具有：（a）在分子末端具有（甲基）丙烯酸酯基的氨基甲酸酯化合物，其特征在于， 由分子链末端具有羟基的聚醚或聚酯化合物，二异氰酸酯化合物和具有羟基的（甲基）丙烯酸酯化合物获得; （b）酸值在50-250mg KOH / g范围内的碱溶性聚合物; 和（c）光聚合引发剂。

公开(公告)号：US5756261A

公开(公告)日：1998-05-26

申请号：US638189

申请日：1996-04-26

申请人： Hiroshi Takehana ,  Tetsuo Yamamoto ,  Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

发明人： Hiroshi Takehana ,  Tetsuo Yamamoto ,  Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  B24C1/04 ,  B24C3/32 ,  C08F290/00 ,  C08F299/06 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/12 ,  H01J9/02 ,  H01J9/14 ,  H05K3/04

CPC分类号： B24C3/322 ,  B24C1/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/12 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/112

摘要： Disclosed is a photosensitive resin composition suitable as a resist material against sandblasting for pattern-wise engraving of the surface of a body after photo-lithographic patterning, which comprises: (a) a urethane compound having a (meth)acrylate group at the molecular end, which is obtained from a polyether or polyester compound having a hydroxy group at the molecular chain end, a diisocyanate compound and a (meth)acrylate compound having a hydroxy group; (b) an alkali-soluble polymeric compound having an acid value in the range from 50 to 250 mg KOH/g; and (c) a photopolymerization initiator.

摘要翻译： 本发明涉及一种感光性树脂组合物，其特征在于，其特征在于，具有：（a）在分子末端具有（甲基）丙烯酸酯基的氨基甲酸酯化合物，其特征在于， 由具有分子链末端的羟基的聚醚或聚酯化合物得到，二异氰酸酯化合物和具有羟基的（甲基）丙烯酸酯化合物; （b）酸值在50-250mg KOH / g范围内的碱溶性聚合物; 和（c）光聚合引发剂。

公开(公告)号：US5924912A

公开(公告)日：1999-07-20

申请号：US18730

申请日：1998-02-04

申请人： Hiroshi Takehana ,  Tetsuo Yamamoto ,  Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

发明人： Hiroshi Takehana ,  Tetsuo Yamamoto ,  Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

IPC分类号： G03F7/004 ,  B24C1/04 ,  B24C3/32 ,  C08F290/00 ,  C08F299/06 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/12 ,  H01J9/02 ,  H01J9/14 ,  H05K3/04 ,  B24B1/00

CPC分类号： B24C3/322 ,  B24C1/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/12 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/112

摘要： Disclosed is a photosensitive resin composition suitable as a resist material against sandblasting for pattern-wise engraving of the surface of a body after photolithographic patterning, which comprises: (a) a urethane compound having a (meth)acrylate group at the molecular end, which is obtained from a polyether or polyester compound having a hydroxy group at the molecular chain end, a diisocyanate compound and a (meth)acrylate compound having a hydroxy group; (b) an alkali-soluble polymeric compound having an acid value in the range from 50 to 250 mg KOH/g; and (c) a photopolymerization initiator.

公开(公告)号：US06897011B2

公开(公告)日：2005-05-24

申请号：US10801449

申请日：2004-03-16

申请人： Akira Kumazawa ,  Ryuma Mizusawa ,  Syunji Nakazato ,  Hiroyuki Obiya

发明人： Akira Kumazawa ,  Ryuma Mizusawa ,  Syunji Nakazato ,  Hiroyuki Obiya

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08K5/00 ,  C08L33/00 ,  C08L75/08 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033

CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/033

摘要： A photosensitive composition for sandblasting comprising the components of: (A) a photopolymerizable urethane (meth)acrylate oligomer comprising (meth)acryloyl group; (B) an acrylic copolymer; and (C) a photopolymerization initiator, wherein the component (B) comprises, as a monomer unit, one of copolymerizable monomers comprising one of a benzene ring and a cyclohexyl group.

摘要翻译： 一种用于喷砂的感光组合物，其包含以下组分：（A）包含（甲基）丙烯酰基的可光聚氨酯（甲基）丙烯酸酯低聚物; （B）丙烯酸共聚物; 和（C）光聚合引发剂，其中组分（B）包含作为单体单元的包含苯环和环己基之一的可共聚单体之一。

公开(公告)号：US5919569A

公开(公告)日：1999-07-06

申请号：US971585

申请日：1997-11-17

申请人： Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

发明人： Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

IPC分类号： B24C1/04 ,  C08F2/46 ,  G03F7/027 ,  G03F7/09 ,  B32B27/12 ,  B32B27/16 ,  B32B27/28 ,  B32B27/40

CPC分类号： G03F7/093 ,  B24C1/04 ,  G03F7/027 ,  Y10S430/112 ,  Y10T428/31565 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31576 ,  Y10T428/31587 ,  Y10T428/31591 ,  Y10T428/31598

摘要： A photosensitive resin composition comprising the following components (A), (B), (C) and (D): (A) a photopolymerizable urethane (meth)acrylate compound containing at least two acryloyl or methacryloyl groups, (B) an alkali-soluble polymer compound having an acid value of from 50 to 250 mgKOH/g, and (C) a photopolymerization initiator, (D) a polymeric complex of an alkali thioxanate wherein the photosensitive resin composition has an electrical insulation resistance of 8.0.times.10.sup.9 to 1.0.times.10.sup.14 .OMEGA..multidot.cm after photocuring. A photosensitive resin laminated film comprising a flexible film, a photosensitive layer provided on the flexible film, and a releasable film layer provided on the photosensitive layer, wherein the photosensitive layer comprises the above photosensitive resin composition.

摘要翻译： 包含以下组分（A），（B），（C）和（D）的光敏树脂组合物：（A）含有至少两个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的光聚合氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物，（B） 酸性值为50〜250mgKOH / g的可溶性高分子化合物，（C）光聚合引发剂，（D）碱金属硫酸盐的聚合物络合物，其中，感光性树脂组合物的电绝缘电阻为8.0×10 9〜1.0×10 14 OMEGA xcm光固化后。 一种感光性树脂层合膜，其包括柔性膜，设置在柔性膜上的感光层和设置在感光层上的可剥离膜层，其中感光层包含上述感光性树脂组合物。

公开(公告)号：US07402376B2

公开(公告)日：2008-07-22

申请号：US11098429

申请日：2005-04-05

申请人： Syunji Nakazato ,  Ryuma Mizusawa ,  Hiroyuki Obiya ,  Takashi Ono ,  Yusuke Fujito

发明人： Syunji Nakazato ,  Ryuma Mizusawa ,  Hiroyuki Obiya ,  Takashi Ono ,  Yusuke Fujito

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/027 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： A photosensitive resin composition which gives a dry film having a sand blast proof property and a development property in a well-balanced manner. A photosensitive resin composition containing a carboxy group-containing urethane (meth)acrylate compound having two or more of (meth)acryloyl groups per molecule whose acid value of less than 10 mg KOH/g, an alkali soluble polymer compound, a photopolymerization initiator and a photopolymerizable compound (D) including in the structure thereof a structural unit represented by the formula (I) gives such a well-balanced properties. OCH2CH2   (I)

摘要翻译： 一种感光性树脂组合物，其以良好平衡的方式得到具有防砂性和显影性的干膜。 一种感光性树脂组合物，其含有每分子中具有两个以上（甲基）丙烯酰基的羧基的氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物，其酸值小于10mgKOH / g，碱溶性高分子化合物，光聚合引发剂和 在其结构中包含由式（I）表示的结构单元的光聚合化合物（D）给出了这种良好平衡的性质。 <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> OCH 2 2 “img id =”PRIVATE-USE-CHARACTER-00002“he =”7.20mm“wi =”8.47mm“file =”US07402376-20080722-Parenclosest.TIF“alt =”private use character Parenclosest“img-content =”character “img-format =”tif“/>（I）<？in-line-formula description =”In-line Formulas“end =”tail“？>

公开(公告)号：US5776995A

公开(公告)日：1998-07-07

申请号：US738079

申请日：1996-10-25

申请人： Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

发明人： Hiroyuki Obiya ,  Ryuma Mizusawa

IPC分类号： B24C1/04 ,  C08F2/46 ,  G03F7/027 ,  G03F7/09 ,  C08F2/50 ,  C08L75/16

CPC分类号： G03F7/093 ,  B24C1/04 ,  G03F7/027 ,  Y10S430/112 ,  Y10T428/31565 ,  Y10T428/31573 ,  Y10T428/31576 ,  Y10T428/31587 ,  Y10T428/31591 ,  Y10T428/31598

摘要： A photosensitive resin composition comprising the following components (A), (B) and (C): (A) a photopolymerizable urethane (meth)acrylate compound containing at least two acryloyl or methacryloyl groups, (B) an alkali-soluble polymer compound having an acid value of from 50 to 250 mgKOH/g, and (C) a photopolymerization initiator, wherein the photosensitive resin composition has an electrical insulation resistance of 8.0.times.10.sup.9 to 1.0.times.1.0.sup.14 .OMEGA..multidot.cm after photocuring. A photosensitive resin laminated film comprising a flexible film, a photosensitive layer provided on the flexible film, and a releasable film layer provided on the photosensitive layer, wherein the photosensitive layer comprises the above photosensitive resin composition.

摘要翻译： 包含以下成分（A），（B）和（C）的感光性树脂组合物：（A）含有至少两个丙烯酰基或甲基丙烯酰基的光聚合性氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物，（B） 酸值为50〜250mgKOH / g，（C）光聚合引发剂，其中感光性树脂组合物在光固化后的电绝缘电阻为8.0×10 9〜1.0×1.04ΩEGEGA×cm。 一种感光性树脂层合膜，其包括柔性膜，设置在柔性膜上的感光层和设置在感光层上的可剥离膜层，其中感光层包含上述感光性树脂组合物。

公开(公告)号：US20050238998A1

公开(公告)日：2005-10-27

申请号：US11098429

申请日：2005-04-05

申请人： Syunji Nakazato ,  Ryuma Mizusawa ,  Hiroyuki Obiya ,  Takashi Ono ,  Yusuke Fujito

发明人： Syunji Nakazato ,  Ryuma Mizusawa ,  Hiroyuki Obiya ,  Takashi Ono ,  Yusuke Fujito

IPC分类号： C08F290/06 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/027 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： A photosensitive resin composition which gives a dry film having a sand blast proof property and a development property in a well-balanced manner. A photosensitive resin composition containing a carboxy group-containing urethane (meth)acrylate compound having two or more of (meth)acryloyl groups per molecule whose acid value of less than 10 mg KOH/g, an alkali soluble polymer compound, a photopolymerization initiator and a photopolymerizable compound (D) including in the structure thereof a structural unit represented by the formula (I) gives such a well-balanced properties. OCH2CH2  (I)

摘要翻译： 一种感光性树脂组合物，其以良好平衡的方式得到具有防砂性和显影性的干膜。 一种感光性树脂组合物，其含有每分子中具有两个以上（甲基）丙烯酰基的羧基的氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物，其酸值小于10mgKOH / g，碱溶性高分子化合物，光聚合引发剂和 在其结构中包含由式（I）表示的结构单元的光聚合化合物（D）给出了这种良好平衡的性质。 <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> OCH 2 “img id =”PRIVATE-USE-CHARACTER-00002“he =”7.20mm“wi =”8.47mm“file =”US20050238998A1-20051027-Parenclosest.TIF“alt =”private use character Parenclosest“img-content =”character “img-format =”tif“/>（I）<？in-line-formula description =”In-line Formulas“end =”tail“？>

公开(公告)号：US06322947B1

公开(公告)日：2001-11-27

申请号：US09374162

申请日：1999-08-13

申请人： Ryuma Mizusawa ,  Shinkichi Asahi ,  Syunzi Nakazato ,  Hiroyuki Obiya

发明人： Ryuma Mizusawa ,  Shinkichi Asahi ,  Syunzi Nakazato ,  Hiroyuki Obiya

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： C08G18/3206 ,  B24C1/04 ,  C08G18/6492 ,  C08G18/672 ,  G03F7/027 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/112 ,  Y10S430/114

摘要： A photosensitive composition for sandblasting and a photosensitive film laminate having a photosensitive layer comprising the photosensitive composition are disclosed, the photosensitive composition comprising (A) a photopolymerizable urethane (meth)acrylate oligomer having at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups and a structural unit represented by formula: (B) an alkali-soluble compound, and (C) a photopolymerization initiator.

摘要翻译： 公开了一种用于喷砂的感光组合物和具有包含感光组合物的光敏层的感光膜层压体，该感光组合物包含（A）具有至少两个丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基的光聚合性氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯低聚物和 单元由式（B）表示：碱溶性化合物，（C）光聚合引发剂。

公开(公告)号：US06200733B1

公开(公告)日：2001-03-13

申请号：US09172074

申请日：1998-10-14

申请人： Ryuma Mizusawa ,  Syunji Nakazato ,  Hiroyuki Obiya

发明人： Ryuma Mizusawa ,  Syunji Nakazato ,  Hiroyuki Obiya

IPC分类号： G03F7032

CPC分类号： G03F7/0325 ,  B24C1/04 ,  G03F7/34 ,  H05K3/0076 ,  H05K3/04 ,  Y10S430/112

摘要： A photosensitive composition for sandblasting and a photosensitive film having a photosensitive layer comprising the photosensitive composition are disclosed, the photosensitive composition comprising a photopolymerizable urethane (meth)acrylate oligomer having at least two acryloyl groups and/or methacryloyl groups, a photopolymerization initiator, and at least one cellulose derivative selected from the group consisting of hydroxypropyl cellulose, ethylhydroxyethyl cellulose, hydroxypropylmethyl cellulose phthalate, and hydroxypropylmethyl cellulose acetate phthalate. The composition exhibits excellent adhesion to a substrate, high sensitivity, and high resistance to sandblasting.

摘要翻译： 公开了一种用于喷砂的感光组合物和具有包含该感光组合物的感光层的感光膜，该感光组合物包含具有至少两个丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基的光聚合性氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯低聚物，光聚合引发剂和 选自羟丙基纤维素，乙基羟乙基纤维素，羟丙基甲基纤维素邻苯二甲酸酯和羟丙基甲基纤维素乙酸酯邻苯二甲酸酯的至少一种纤维素衍生物。 该组合物对基材表现出优异的粘附性，高灵敏度和高耐喷砂性。