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公开(公告)号：US20070127005A1
公开(公告)日：2007-06-07
申请号：US11292275
申请日：2005-12-02
申请人： Huibert Visser , Jacob Klinkhamer , Lev Ryzhikov , Scott Coston , Adel Joobeur , Yevgeniy Konstantinovich Shmarev , HENRI JOHANNES VINK
发明人： Huibert Visser , Jacob Klinkhamer , Lev Ryzhikov , Scott Coston , Adel Joobeur , Yevgeniy Konstantinovich Shmarev , HENRI JOHANNES VINK
IPC分类号： G03B27/72
CPC分类号： G03F7/70583 , G02B27/0905 , G03F7/70075
摘要： A system and method are used to substantially homogenizing and removing at least some coherence from a beam of light.
摘要翻译： 使用系统和方法基本均匀化并从光束中去除至少一些相干性。
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公开(公告)号：US20070247606A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：US11606386
申请日：2006-11-30
申请人： Huibert Visser , Jacob Klinkhamer , Lev Ryzhikov , Scott Coston , Adel Joobeur , Henri Vink , Yevgeniy Shmarev
发明人： Huibert Visser , Jacob Klinkhamer , Lev Ryzhikov , Scott Coston , Adel Joobeur , Henri Vink , Yevgeniy Shmarev
IPC分类号： G03B27/54
CPC分类号： G03F7/70583 , G02B27/0905 , G03F7/70075
摘要： A system and method are used to substantially homogenize and remove at least some coherence from a beam of radiation.
摘要翻译： 使用系统和方法基本均匀化并从辐射束中去除至少一些相干性。
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公开(公告)号：US07187430B2
公开(公告)日：2007-03-06
申请号：US10896022
申请日：2004-07-22
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70091 , G03F7/70183
摘要： A system for microlithography comprises an illumination source; an illumination optical system including, in order from an objective side, (a) a first diffractive optical element that receives illumination from the illumination source, (b) a zoom lens, (c) a second diffractive optical element, (d) a condenser lens, (e) a relay lens, and (f) a reticle, and a projection optical system for imaging the reticle onto a substrate, wherein the system for microlithography provides a zoomable numerical aperture.
摘要翻译： 微光学系统包括照明源; 一种照明光学系统，其从物体方向依次包括：（a）从所述照明源接收照明的第一衍射光学元件，（b）变焦透镜，（c）第二衍射光学元件，（d）冷凝器 透镜，（e）中继透镜，以及（f）掩模版和用于将掩模版成像到基板上的投影光学系统，其中用于微光刻的系统提供可变倍数值孔径。
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公开(公告)号：US06775069B2
公开(公告)日：2004-08-10
申请号：US10270556
申请日：2002-10-16
申请人： Mark Oskotsky , Lev Ryzhikov , Scott Coston , James Tsacoyeanes , Peter J. Baumgartner , Walter Augustyn
发明人： Mark Oskotsky , Lev Ryzhikov , Scott Coston , James Tsacoyeanes , Peter J. Baumgartner , Walter Augustyn
IPC分类号： G02B2710
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70183
摘要： The present invention relates to an illumination system including an illumination source, a beam conditioner placed in an optical path with the illumination source, a first diffractive array, a condenser system and a second diffractive array. The illumination source directs light through the beam conditioner onto the first diffractive array. The light is then directed to the condenser system placed in an optical path between the first diffractive array and second diffractive array. The condenser system includes a plurality of stationary optical elements and a plurality of movable optical elements. The plurality of movable optical elements are placed in an optical path with the plurality of stationary optical elements. The movable optical elements are capable of translation between the plurality of stationary optical element to zoom the light received from the first diffractive array. The second diffractive array is optically coupled to the condenser system, receives light from the condenser system, which in turn generates an illumination field at a reticle.
摘要翻译： 本发明涉及一种照明系统，包括照明源，放置在与照明源的光路中的光束调节器，第一衍射阵列，冷凝器系统和第二衍射阵列。 照明源将光通过光束调节器引导到第一衍射阵列上。 然后将光导向放置在第一衍射阵列和第二衍射阵列之间的光路中的聚光系统。 冷凝器系统包括多个固定光学元件和多个可移动光学元件。 多个可移动光学元件被放置在具有多个固定光学元件的光路中。 可移动光学元件能够在多个固定光学元件之间平移以放大从第一衍射阵列接收的光。 第二衍射阵列光耦合到冷凝器系统，接收来自冷凝器系统的光，其又在光罩处产生照明场。
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公开(公告)号：US20070146674A1
公开(公告)日：2007-06-28
申请号：US11682573
申请日：2007-03-06
IPC分类号： G03B27/54
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70091 , G03F7/70183
摘要： A system for microlithography comprises an illumination source; an illumination optical system including, in order from an objective side, (a) a first diffractive optical element that receives illumination from the illumination source, (b) a zoom lens, (c) a second diffractive optical element, (d) a condenser lens, (e) a relay lens, and (f) a reticle, and a projection optical system for imaging the reticle onto a substrate, wherein the system for microlithography provides a zoomable numerical aperture.
摘要翻译： 微光学系统包括照明源; 一种照明光学系统，其从物体方向依次包括：（a）从所述照明源接收照明的第一衍射光学元件，（b）变焦透镜，（c）第二衍射光学元件，（d）冷凝器 透镜，（e）中继透镜，以及（f）掩模版和用于将掩模版成像到基板上的投影光学系统，其中用于微光刻的系统提供可变倍数值孔径。
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公开(公告)号：US06813003B2
公开(公告)日：2004-11-02
申请号：US10166062
申请日：2002-06-11
IPC分类号： G03B2752
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70091 , G03F7/70183
摘要： A system for microlithography comprises an illumination source; an illumination optical system including, in order from an objective side, (a) a first diffractive optical element that receives illumination from the illumination source, (b) a zoom lens, (c) a second diffractive optical element, (d) a condenser lens, (e) a relay lens, and (f) a reticle, and a projection optical system for imaging the reticle onto a substrate, wherein the system for microlithography provides a zoomable numerical aperture.
摘要翻译： 微光学系统包括照明源; 一种照明光学系统，其从物体方向依次包括：（a）从所述照明源接收照明的第一衍射光学元件，（b）变焦透镜，（c）第二衍射光学元件，（d）冷凝器 透镜，（e）中继透镜，以及（f）掩模版和用于将掩模版成像到基板上的投影光学系统，其中用于微光刻的系统提供可变倍数值孔径。
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公开(公告)号：US20060119947A1
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：US11335599
申请日：2006-01-20
IPC分类号： G02B27/10
CPC分类号： G03F7/70158 , B41J2/451 , G02B27/0905 , G03F7/70083 , G03F7/70183 , G03F7/70291
摘要： An illumination method and system use a light source and illumination optics to illuminate a pattern generator. The illumination optics can include at least two devices. For example, if first and second diffractive and/or refractive devices are used, one can be a pupil defining element (PDE) and one can be a field defining element (FDE). In another example, a third diffractive or refractive element can be used to make light entering the illumination system uniform. When only two are used, the PDE forms one or more light beams having a defined profile. The FDE directs the one or more light beams having the defined profile, such that each directed beam substantially corresponds in size and shape to a desired illumination area(s) on the pattern generator. The directed beams are directed to impinge substantially only on the desired illumination area(s). Thus, using the PDE and the FDE increases optical efficiency of light impinging on the pattern generator and substantially reduces or eliminates stray light caused by light impinging on undesired areas of the pattern generator.
摘要翻译： 照明方法和系统使用光源和照明光学器件来照亮图案发生器。 照明光学器件可以包括至少两个装置。 例如，如果使用第一和第二衍射和/或折射装置，则可以是瞳孔限定元件（PDE），并且可以是场限定元件（FDE）。 在另一示例中，可以使用第三衍射或折射元件来使进入照明系统的光均匀。 当仅使用两个时，PDE形成一个或多个具有确定的轮廓的光束。 FDE引导具有限定轮廓的一个或多个光束，使得每个定向光束在尺寸和形状上基本对应于图案发生器上的期望的照明区域。 定向光束被引导以基本上仅在期望的照明区域上照射。 因此，使用PDE和FDE提高了照射在图案发生器上的光的光学效率，并且基本上减少或消除了光照射在图案发生器的不需要的区域上的杂散光。
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公开(公告)号：US07158307B2
公开(公告)日：2007-01-02
申请号：US11335599
申请日：2006-01-20
IPC分类号： G02B27/10
CPC分类号： G03F7/70158 , B41J2/451 , G02B27/0905 , G03F7/70083 , G03F7/70183 , G03F7/70291
摘要： An illumination method and system use a light source and illumination optics to illuminate a pattern generator. The illumination optics can include at least two devices. For example, if first and second diffractive and/or refractive devices are used, one can be a pupil defining element (PDE) and one can be a field defining element (FDE). In another example, a third diffractive or refractive element can be used to make light entering the illumination system uniform. When only two are used, the PDE forms one or more light beams having a defined profile. The FDE directs the one or more light beams having the defined profile, such that each directed beam substantially corresponds in size and shape to a desired illumination area(s) on the pattern generator. The directed beams are directed to impinge substantially only on the desired illumination area(s). Thus, using the PDE and the FDE increases optical efficiency of light impinging on the pattern generator and substantially reduces or eliminates stray light caused by light impinging on undesired areas of the pattern generator.
摘要翻译： 照明方法和系统使用光源和照明光学器件来照亮图案发生器。 照明光学器件可以包括至少两个装置。 例如，如果使用第一和第二衍射和/或折射装置，则可以是瞳孔限定元件（PDE），并且可以是场限定元件（FDE）。 在另一示例中，可以使用第三衍射或折射元件来使进入照明系统的光均匀。 当仅使用两个时，PDE形成一个或多个具有确定的轮廓的光束。 FDE引导具有限定轮廓的一个或多个光束，使得每个定向光束在尺寸和形状上基本对应于图案发生器上的期望的照明区域。 定向光束被引导以基本上仅在期望的照明区域上照射。 因此，使用PDE和FDE提高了照射在图案发生器上的光的光学效率，并且基本上减少或消除了光照射在图案发生器的不需要的区域上的杂散光。
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9.发明授权Illumination system and method for efficiently illuminating a pattern generator 失效用于有效照明图案发生器的照明系统和方法公开(公告)号：US07006295B2
公开(公告)日：2006-02-28
申请号：US10808436
申请日：2004-03-25
IPC分类号： G02B27/10
CPC分类号： G03F7/70158 , B41J2/451 , G02B27/0905 , G03F7/70083 , G03F7/70183 , G03F7/70291
摘要： An illumination method and system use a light source and illumination optics to illuminate a pattern generator. The illumination optics can include at least two devices. For example, if first and second diffractive and/or refractive devices are used, one can be a pupil defining element (PDE) and one can be a field defining element (FDE). In another example, a third diffractive or refractive element can be used to make light entering the illumination system uniform. When only two are used, the PDE forms one or more light beams having a defined profile. The FDE directs the one or more light beams having the defined profile, such that each directed beam substantially corresponds in size and shape to a desired illumination area(s) on the pattern generator. The directed beams are directed to impinge substantially only on the desired illumination area(s). Thus, using the PDE and the FDE increases optical efficiency of light impinging on the pattern generator and substantially reduces or eliminates stray light caused by light impinging on undesired areas of the pattern generator.
摘要翻译： 照明方法和系统使用光源和照明光学器件来照亮图案发生器。 照明光学器件可以包括至少两个装置。 例如，如果使用第一和第二衍射和/或折射装置，则可以是瞳孔限定元件（PDE），并且可以是场限定元件（FDE）。 在另一示例中，可以使用第三衍射或折射元件来使进入照明系统的光均匀。 当仅使用两个时，PDE形成一个或多个具有确定的轮廓的光束。 FDE引导具有限定轮廓的一个或多个光束，使得每个定向光束在尺寸和形状上基本对应于图案发生器上的期望的照明区域。 定向光束被引导以基本上仅在期望的照明区域上照射。 因此，使用PDE和FDE提高了照射在图案发生器上的光的光学效率，并且基本上减少或消除了光照射在图案发生器的不需要的区域上的杂散光。
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10.发明申请公开(公告)号：US20050007677A1
公开(公告)日：2005-01-13
申请号：US10812978
申请日：2004-03-31
申请人： Scott Coston , Richard Guerra
发明人： Scott Coston , Richard Guerra
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F7/70183
摘要： A method and system allow for changing (continuously or variably) both a field height and pupil of a beam that illuminates an object field. In one example, the object field can have a pattern generator (e.g., one or more reticles, spatial light modulators, or the like) positioned therein. The system and method for changing both the field height and the pupil can include a field defining element, a pupil defining element, and first and second zoom systems. The field defining element (FDE) can generate a field height of an illumination beam. The first zoom system can allow for changing of the field height of the illumination beam. The pupil defining element (PDE) can generate a pupil of the illumination beam. The second zoom system can allow for changing of the pupil of the illumination beam.
摘要翻译： 一种方法和系统允许改变（连续地或可变地）照射对象场的光束的场高和光瞳。 在一个示例中，对象字段可以具有位于其中的图案生成器（例如，一个或多个掩模版，空间光调制器等）。 用于改变场高度和瞳孔的系统和方法可以包括场定义元件，光瞳定义元件以及第一和第二缩放系统。 场定义元件（FDE）可以产生照明光束的场高度。 第一变焦系统可以允许改变照明光束的场高度。 光瞳定义元件（PDE）可以产生照明光束的光瞳。 第二变焦系统可以允许改变照明光束的光瞳。
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