公开(公告)号：US09048189B2

公开(公告)日：2015-06-02

申请号：US13044891

申请日：2011-03-10

申请人： Hyun-Su Jun ,  Ki-Sang Kim ,  Seung-Heong Lee ,  Jong-Bum Kim ,  Min-Woung Choi ,  In-Joong Kim

发明人： Hyun-Su Jun ,  Ki-Sang Kim ,  Seung-Heong Lee ,  Jong-Bum Kim ,  Min-Woung Choi ,  In-Joong Kim

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/461 ,  H01L21/3065 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01L21/3065 ,  H01J37/32091

摘要： Plasma processing methods of a semiconductor manufacturing apparatus which can minimize the amount of impurities adhered to the surface of a wafer, when a desired process using plasma is performed. According to the plasma processing methods of the semiconductor manufacturing apparatus, after the desired process is completed, the plasma generated over the wafer is diffused, and then the wafer is de-chucked.

摘要翻译： 当进行使用等离子体的所需工艺时，可以使附着到晶片表面的杂质的量最小化的半导体制造装置的等离子体处理方法。 根据半导体制造装置的等离子体处理方法，在所需工艺完成之后，在晶片上产生的等离子体扩散，然后晶片脱卡。

公开(公告)号：US20120006351A1

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：US13176868

申请日：2011-07-06

申请人： Hyun-Su Jun ,  Hun-Jung Yi ,  Sang-jean Jeon ,  Se-Yeon Kim ,  In-Joong Kim

发明人： Hyun-Su Jun ,  Hun-Jung Yi ,  Sang-jean Jeon ,  Se-Yeon Kim ,  In-Joong Kim

IPC分类号： B08B7/00

CPC分类号： H01J37/32862

摘要： A cleaning method for cleaning a semiconductor manufacturing apparatus may include generating plasma from a cleaning gas. The semiconductor manufacturing apparatus may be cleaned with the plasma. A positive direct-current voltage may be applied to an ESC of the semiconductor manufacturing apparatus during a cleaning of the semiconductor manufacturing apparatus. A negative direct-current voltage may be applied to the ESC during the cleaning of the semiconductor manufacturing apparatus. Also, a wall of the process chamber may be cleaned by applying the positive direct-current voltage to the ESC.

摘要翻译： 用于清洁半导体制造装置的清洁方法可以包括从清洁气体产生等离子体。 可以用等离子体清洁半导体制造装置。 在半导体制造装置的清洁期间，可以向半导体制造装置的ESC施加正的直流电压。 在清洁半导体制造装置期间，可以向ESC施加负的直流电压。 此外，可以通过将正的直流电压施加到ESC来清洁处理室的壁。

公开(公告)号：US08230287B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US13234430

申请日：2011-09-16

申请人： Hyun-Su Jun

发明人： Hyun-Su Jun

IPC分类号： G01R31/28

CPC分类号： G06F11/277

摘要： An image data test unit includes a data acquisition unit configured to acquire image data having individual frames, an image data temporary storage unit configured to receive the acquired image data from the data acquisition unit to store a certain amount of the image data, and a test calculation unit configured to sequentially receive the image data from the image data temporary storage unit to store a certain amount of the image data, and compare the stored image data with pre-set test elements. In addition, an image apparatus having the image data test unit and a method of testing image data using the image data test unit are also provided.

摘要翻译： 图像数据测试单元包括：数据获取单元，被配置为获取具有单独帧的图像数据;图像数据临时存储单元，被配置为从数据获取单元接收所获取的图像数据以存储一定量的图像数据;以及测试 计算单元，被配置为从图像数据临时存储单元顺序地接收图像数据以存储一定量的图像数据，并将存储的图像数据与预设的测试元素进行比较。 此外，还提供了具有图像数据测试单元的图像设备和使用图像数据测试单元测试图像数据的方法。

公开(公告)号：US08046654B2

公开(公告)日：2011-10-25

申请号：US12358589

申请日：2009-01-23

申请人： Hyun-Su Jun

发明人： Hyun-Su Jun

IPC分类号： G01R31/28

CPC分类号： G06F11/277

摘要： An image data test unit includes a data acquisition unit configured to acquire image data having individual frames, an image data temporary storage unit configured to receive the acquired image data from the data acquisition unit to store a certain amount of the image data, and a test calculation unit configured to sequentially receive the image data from the image data temporary storage unit to store a certain amount of the image data, and compare the stored image data with pre-set test elements. In addition, an image apparatus having the image data test unit and a method of testing image data using the image data test unit are also provided.

摘要翻译： 图像数据测试单元包括：数据获取单元，被配置为获取具有单独帧的图像数据;图像数据临时存储单元，被配置为从数据获取单元接收所获取的图像数据以存储一定量的图像数据;以及测试 计算单元，被配置为从图像数据临时存储单元顺序地接收图像数据以存储一定量的图像数据，并将存储的图像数据与预设的测试元素进行比较。 此外，还提供了具有图像数据测试单元的图像设备和使用图像数据测试单元测试图像数据的方法。