公开(公告)号：US20120234575A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：US13413695

申请日：2012-03-07

申请人： Hyung-Sam CHOI ,  Joon-Hee LEE ,  Sun-Joo PARK

发明人： Hyung-Sam CHOI ,  Joon-Hee LEE ,  Sun-Joo PARK

IPC分类号： H01B3/18 ,  C09D101/08 ,  C09D179/08

CPC分类号： C08G73/14 ,  C09D7/20 ,  C09D7/45 ,  C09D7/62 ,  C09D179/08 ,  H01B3/305 ,  H01B3/306 ,  C08K3/36

摘要： Disclosed is an insulating varnish composition including an organo silica sol containing a silica covered with a dispersant in a solvent containing N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a main component and a polyamidimide resin dispersed in a solvent containing NMP as a main component. An insulated layer formed from the insulating varnish composition containing inorganic insulating particles of silica uniformly dispersed therein may have excellent corona discharge resistance, thereby preventing the insulation breakdown.

摘要翻译： 公开了一种绝缘漆组合物，其包含在含有以N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP）为主要成分的溶剂中含有分散剂覆盖的二氧化硅的有机二氧化硅溶胶和分散在含有NMP作为主要成分的溶剂中的聚酰胺酰亚胺树脂 。 由包含均匀分散在其中的二氧化硅的无机绝缘颗粒的绝缘漆组合物形成的绝缘层可以具有优异的电晕放电电阻，从而防止绝缘击穿。

公开(公告)号：US20100151610A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：US12564019

申请日：2009-09-21

申请人： Jong-Hyun CHOUNG ,  Bong-Kyun KIM ,  Hong-Sick PARK ,  Sun-Young HONG ,  Young-Joo CHOI ,  Byeong-Jin LEE ,  Nam-Seok SUH ,  Byung-Uk KIM ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Sung-Gun SHIN ,  Soon-Beom HUH ,  Se-Hwan JUNG ,  Doo-Young JANG ,  Sun-Joo PARK ,  Oh-Hwan KWEON

发明人： Jong-Hyun CHOUNG ,  Bong-Kyun KIM ,  Hong-Sick PARK ,  Sun-Young HONG ,  Young-Joo CHOI ,  Byeong-Jin LEE ,  Nam-Seok SUH ,  Byung-Uk KIM ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Sung-Gun SHIN ,  Soon-Beom HUH ,  Se-Hwan JUNG ,  Doo-Young JANG ,  Sun-Joo PARK ,  Oh-Hwan KWEON

IPC分类号： H01L21/30 ,  G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288

摘要： A composition for a photoresist stripper and a method of fabricating a thin film transistor array substrate are provided according to one or more embodiments. In one or more embodiments, the composition includes about 5-30 weight % of a chain amine compound, about 0.5-10 weight % of a cyclic amine compound, about 10-80 weight % of a glycol ether compound, about 5-30 weight % of distilled water, and about 0.1-5 weight % of a corrosion inhibitor.

摘要翻译： 根据一个或多个实施方案提供了用于光致抗蚀剂剥离剂的组合物和制造薄膜晶体管阵列基板的方法。 在一个或多个实施方案中，组合物包含约5-30重量％的链胺化合物，约0.5-10重量％的环胺化合物，约10-80重量％的二醇醚化合物，约5-30重量％ ％的蒸馏水和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：US20130017636A1

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：US13439418

申请日：2012-04-04

申请人： Bong-Kyun KIM ,  Shin-Il CHOI ,  Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Seok-Jun JANG ,  Byung-Uk KIM ,  Sun-Joo PARK ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Soon-Beom HUR

发明人： Bong-Kyun KIM ,  Shin-Il CHOI ,  Hong-Sick PARK ,  Wang-Woo LEE ,  Seok-Jun JANG ,  Byung-Uk KIM ,  Sun-Joo PARK ,  Suk-Il YOON ,  Jong-Hyun JEONG ,  Soon-Beom HUR

IPC分类号： H01L33/08 ,  G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66765

摘要： A composition for removing a photoresist, the composition including about 1% by weight to about 10% by weight of tetramethyl ammonium hydroxide (“TMAH”), about 1% by weight to about 10% by weight of an alkanol amine, about 50% by weight to about 70% by weight of a glycol ether compound, about 0.01% by weight to about 1% by weight of a triazole compound, about 20% by weight to about 40% by weight of a polar solvent, and water, each based on a total weight of the composition.

摘要翻译： 用于除去光致抗蚀剂的组合物，该组合物包含约1重量％至约10重量％的四甲基氢氧化铵（TMAH），约1重量％至约10重量％的烷醇胺，约50重量％ 至约70重量％的二醇醚化合物，约0.01重量％至约1重量％的三唑化合物，约20重量％至约40重量％的极性溶剂，以及基于 组合物的总重量。