公开(公告)号：US10048586B2

公开(公告)日：2018-08-14

申请号：US15056264

申请日：2016-02-29

申请人： JSR Corporation

发明人： Yuusuke Asano ,  Mitsuo Sato ,  Hiromitsu Nakashima ,  Kazuki Kasahara ,  Yoshifumi Oizumi ,  Masafumi Hori ,  Takanori Kawakami ,  Yasuhiko Matsuda ,  Kazuo Nakahara

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/30 ,  C08F20/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including an acid-labile group, an acid generator to generate an acid upon exposure to radiation, and a second polymer including a fluorine atom and a functional group shown by a general formula (x). The second polymer has a fluorine atom content higher than a fluorine atom content of the first polymer. R1 represents an alkali-labile group. A represents an oxygen atom, —NR′—, —CO—O—# or —SO2—O—##, wherein the oxygen atom represented by A is not an oxygen atom bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group, R′ represents a hydrogen atom or an alkali-labile group, and “#” and “##” each indicate a bonding hand bonded to R1. -A-R1  (x).

公开(公告)号：US20160179003A1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：US15056264

申请日：2016-02-29

申请人： JSR Corporation

发明人： Yuusuke ASANO ,  Mitsuo Sato ,  Hiromitsu Nakashima ,  Kazuki Kasahara ,  Yoshifumi Oizumi ,  Masafumi Hori ,  Takanori Kawakami ,  Yasuhiko Matsuda ,  Kazuo Nakahara

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including an acid-labile group, an acid generator to generate an acid upon exposure to radiation, and a second polymer including a fluorine atom and a functional group shown by a general formula (x). The second polymer has a fluorine atom content higher than a fluorine atom content of the first polymer. R1 represents an alkali-labile group. A represents an oxygen atom, —NR′—, —CO—O—# or —SO2—O—##, wherein the oxygen atom represented by A is not an oxygen atom bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group, R′ represents a hydrogen atom or an alkali-labile group, and “#” and “##” each indicate a bonding hand bonded to R1. -A-R1  (x)

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括包含酸不稳定基团的第一聚合物，暴露于辐射时产生酸的酸产生剂和包含氟原子的第二聚合物和由通式（x）表示的官能团。 第二聚合物的氟原子含量高于第一聚合物的氟原子含量。 R1表示碱不稳定基团。 A表示氧原子，-NR' - ， - CO-O - 或-SO 2 -O - ，其中由A表示的氧原子不是直接与芳环键合的氧原子，羰基或 磺酰基，R'表示氢原子或碱不稳定基团，“＃”和“##”表示与R1键合的键。 -A-R1（x）

公开(公告)号：US08609321B2

公开(公告)日：2013-12-17

申请号：US13789701

申请日：2013-03-08

申请人： JSR Corporation

发明人： Hiromitsu Nakashima ,  Reiko Kimura ,  Kazuo Nakahara ,  Mitsuo Sato

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07C69/716 ,  C07C69/72 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer having a structural unit represented by a formula (I). In the formula (I), R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. X represents a bivalent alicyclic hydrocarbon group not having or having a substituent. Y represents a bivalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. R2 represents a methyl group or a trifluoromethyl group.

摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括具有由式（I）表示的结构单元的聚合物。 在式（I）中，R 1表示氢原子或甲基。 X表示不具有或具有取代基的二价脂环族烃基。 Y表示碳原子数为1〜20的二价烃基。 R2表示甲基或三氟甲基。