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    Pattern-forming method, and radiation-sensitive resin composition
    1.
    发明授权
    Pattern-forming method, and radiation-sensitive resin composition 有权
    图案形成方法和辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US09164387B2

    公开(公告)日：2015-10-20

    申请号：US13855749

    申请日：2013-04-03

    申请人： JSR CORPORATION

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Masafumi Hori ,  Koji Ito ,  Reiko Kimura ,  Taiichi Furukawa

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/32 ,  C08F220/28

    CPC分类号： G03F7/20 ,  C08F20/28 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

    摘要： A pattern-forming method includes coating a radiation-sensitive resin composition on a substrate to provide a resist film. The resist film is exposed. The exposed resist film is developed. A developer solution used in developing the exposed resist film includes no less than 80% by mass of an organic solvent. The radiation-sensitive resin composition includes a first polymer and a radiation-sensitive acid generator. The first polymer includes a first structural unit having an acid-labile group and an alicyclic group. The alicyclic group is capable of avoiding dissociation from a molecular chain by an action of an acid.

    摘要翻译： 图案形成方法包括将辐射敏感性树脂组合物涂布在基材上以提供抗蚀剂膜。 抗蚀剂膜被曝光。 显影出抗蚀剂膜。 用于显影曝光的抗蚀剂膜的显影剂溶液包含不少于80质量％的有机溶剂。 辐射敏感性树脂组合物包括第一聚合物和辐射敏感性酸产生剂。 第一聚合物包括具有酸不稳定基团和脂环族基团的第一结构单元。 脂环族基团能够通过酸的作用避免与分子链的离解。

    Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive resin composition
    4.
    发明授权
    Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive resin composition 有权
    抗蚀剂图案形成方法和辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US09170488B2

    公开(公告)日：2015-10-27

    申请号：US14307296

    申请日：2014-06-17

    申请人： JSR CORPORATION

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Taiichi Furukawa ,  Reiko Kimura ,  Masafumi Hori

    IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

    CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

    摘要： A resist pattern-forming method includes coating a radiation-sensitive resin composition on a substrate to provide a resist film. The resist film is exposed. The exposed resist film is developed using a developer solution including no less than 80% by mass of an organic solvent. The radiation-sensitive resin composition includes a polymer, a radiation-sensitive acid generator, and an acid diffusion controller which includes a compound having an amide group. The polymer has a weight average molecular weight in terms of the polystyrene equivalent of greater than 6,000 and includes a first structural unit that includes an acid-labile group. The polymer includes less than 5 mol % or 0 mol % of a second structural unit that includes a hydroxyl group.

    摘要翻译： 抗蚀剂图案形成方法包括在基板上涂布辐射敏感性树脂组合物以提供抗蚀剂膜。 抗蚀剂膜被曝光。 使用包含不少于80质量％的有机溶剂的显影剂溶液显影曝光的抗蚀剂膜。 辐射敏感性树脂组合物包括聚合物，辐射敏感性酸产生剂和包含具有酰胺基的化合物的酸扩散控制剂。 聚合物的重均分子量以聚苯乙烯当量大于6000表示，并且包括包含酸不稳定基团的第一结构单元。 聚合物包含小于5mol％或0mol％的包含羟基的第二结构单元。

    Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive resin composition
    5.
    发明授权
    Resist pattern-forming method, and radiation-sensitive resin composition 有权
    抗蚀剂图案形成方法和辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US08795954B2

    公开(公告)日：2014-08-05

    申请号：US13861416

    申请日：2013-04-12

    申请人： JSR Corporation

    发明人： Hirokazu Sakakibara ,  Taiichi Furukawa ,  Reiko Kimura ,  Masafumi Hori

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

    摘要： A resist pattern-forming method includes coating a radiation-sensitive resin composition on a substrate to provide a resist film. The resist film is exposed. The exposed resist film is developed using a developer solution including no less than 80% by mass of an organic solvent. The radiation-sensitive resin composition includes a polymer and a radiation-sensitive acid generator. The polymer has a weight average molecular weight in terms of the polystyrene equivalent of greater than 6,000 and includes a first structural unit that includes an acid-labile group. The polymer includes less than 5 mol % or 0 mol % of a second structural unit that includes a hydroxyl group.

    摘要翻译： 抗蚀剂图案形成方法包括在基板上涂布辐射敏感性树脂组合物以提供抗蚀剂膜。 抗蚀剂膜被曝光。 使用包含不少于80质量％的有机溶剂的显影剂溶液显影曝光的抗蚀剂膜。 辐射敏感性树脂组合物包括聚合物和辐射敏感性酸产生剂。 聚合物的重均分子量以聚苯乙烯当量大于6000表示，并且包括包含酸不稳定基团的第一结构单元。 聚合物包含小于5mol％或0mol％的包含羟基的第二结构单元。

    Radiation-sensitive resin composition, polymer and compound
    6.
    发明授权
    Radiation-sensitive resin composition, polymer and compound 有权
    辐射敏感性树脂组合物，聚合物和化合物

    公开(公告)号：US08609321B2

    公开(公告)日：2013-12-17

    申请号：US13789701

    申请日：2013-03-08

    申请人： JSR Corporation

    发明人： Hiromitsu Nakashima ,  Reiko Kimura ,  Kazuo Nakahara ,  Mitsuo Sato

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07C69/716 ,  C07C69/72 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer having a structural unit represented by a formula (I). In the formula (I), R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. X represents a bivalent alicyclic hydrocarbon group not having or having a substituent. Y represents a bivalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. R2 represents a methyl group or a trifluoromethyl group.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括具有由式（I）表示的结构单元的聚合物。 在式（I）中，R 1表示氢原子或甲基。 X表示不具有或具有取代基的二价脂环族烃基。 Y表示碳原子数为1〜20的二价烃基。 R2表示甲基或三氟甲基。