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公开(公告)号:US06359159B1
公开(公告)日:2002-03-19
申请号:US09729115
申请日:2000-12-04
IPC分类号: C07F702
CPC分类号: C07F15/065 , C07F7/0803 , C07F7/081 , C07F13/005 , Y10S977/84 , Y10S977/89 , Y10S977/891 , Y10S977/92
摘要: Chemical vapor deposition processes utilize as precursors volatile metal complexes with ligands containing metalloid elements silicon, germanium, tin or lead.
摘要翻译: 化学气相沉积工艺利用与含金属元素硅,锗,锡或铅的配体的前体挥发性金属配合物。
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公开(公告)号:US06184403B2
公开(公告)日:2001-02-06
申请号:US09314311
申请日:1999-05-19
IPC分类号: C07F702
CPC分类号: C07F15/065 , C07F7/0803 , C07F7/081 , C07F13/005 , Y10S977/84 , Y10S977/89 , Y10S977/891 , Y10S977/92
摘要: Chemical vapor deposition processes utilize as precursors volatile metal complexes with ligands containing metalloid elements silicon, germanium, tin or lead.
摘要翻译: 化学气相沉积工艺利用与含金属元素硅,锗,锡或铅的配体的前体挥发性金属配合物。
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3.
公开(公告)号:US6099903A
公开(公告)日:2000-08-08
申请号:US314762
申请日:1999-05-19
申请人: Alain E. Kaloyeros , John T. Welch , Paul J. Toscano , Rolf Claessen , Andrei Kornilov , Kulbinder Kumar Banger
发明人: Alain E. Kaloyeros , John T. Welch , Paul J. Toscano , Rolf Claessen , Andrei Kornilov , Kulbinder Kumar Banger
CPC分类号: C23C16/18 , C07F13/005 , C07F15/065 , C07F7/082
摘要: Chemical vapor deposition processes utilize as precursors volatile metal complexes with ligands containing metalloid elements silicon, germanium, tin or lead.
摘要翻译: 化学气相沉积工艺利用与含金属元素硅,锗,锡或铅的配体的前体挥发性金属配合物。
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公开(公告)号:US5986120A
公开(公告)日:1999-11-16
申请号:US21253
申请日:1998-02-10
申请人: John T. Welch , Rolf Claessen , Silvana Ngo
发明人: John T. Welch , Rolf Claessen , Silvana Ngo
CPC分类号: B01J31/143 , B01J31/1805 , B01J31/2295 , C07F17/00 , C08F12/04 , B01J2531/46 , B01J2531/48 , C08F2420/04 , Y10S526/943
摘要: A composition relating to metal-triflamide complexes useful as catalysts for the syndiotactic polymerization of styrene is disclosed.
摘要翻译: 公开了可用作苯乙烯间同立构聚合的催化剂的金属 - 三氟甲磺酸酯配合物的组合物。
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