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    PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND DEPOSITION METHOD AN ETCHING METHOD USING THE PLASMA PROCESSING APPARATUS
    1.
    发明申请
    PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND DEPOSITION METHOD AN ETCHING METHOD USING THE PLASMA PROCESSING APPARATUS 审中-公开
    等离子体处理装置和使用等离子体处理装置的蚀刻方法的沉积方法

    公开(公告)号：US20110312167A1

    公开(公告)日：2011-12-22

    申请号：US12995579

    申请日：2009-05-28

    申请人： Katsushi Kishimoto ,  Yusuke Fukuoka ,  Nobuyuki Tanigawa

    发明人： Katsushi Kishimoto ,  Yusuke Fukuoka ,  Nobuyuki Tanigawa

    IPC分类号： H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  C23C16/50

    CPC分类号： H01J37/32568 ,  C23C16/509 ,  H01J37/32091

    摘要： A plasma processing apparatus, comprising: a reaction chamber; a plurality of discharge portions each made up of a pair of a first electrode and a second electrode disposed inside the reaction chamber so as to oppose to each other and to cause a plasma discharge under an atmosphere of a reactant gas; and a dummy electrode, wherein a plurality of the first electrodes are connected to a power supply portion, a plurality of the second electrodes are grounded, and the dummy electrode is disposed so as to oppose to an outer surface side of an external first electrode in terms of a parallel direction out of the plurality of the first electrodes which are disposed in the parallel direction, and is grounded.

    摘要翻译： 一种等离子体处理装置，包括：反应室; 多个放电部分，每个由一对第一电极和第二电极构成，设置在反应室内部以彼此相对，并在反应气体的气氛下引起等离子体放电; 和虚拟电极，其中多个所述第一电极连接到电源部分，多个所述第二电极接地，并且所述虚拟电极被设置为与所述外部第一电极的外表面侧相对 并排设置在平行方向上的多个第一电极中的并联方向的接地。

    VACUUM DEVICE
    2.
    发明申请
    VACUUM DEVICE 审中-公开
    真空装置

    公开(公告)号：US20110283623A1

    公开(公告)日：2011-11-24

    申请号：US13147466

    申请日：2010-02-05

    申请人： Yusuke Ozaki ,  Katsushi Kishimoto ,  Nobuyuki Tanigawa ,  Yusuke Fukuoka

    发明人： Yusuke Ozaki ,  Katsushi Kishimoto ,  Nobuyuki Tanigawa ,  Yusuke Fukuoka

    IPC分类号： E06B3/46 ,  E05F11/54 ,  E05D15/06

    CPC分类号： C23C14/564

    摘要： A vacuum chamber has an opening. A door is to close the opening. A first rail extends in a first direction with a space between the first rail and the opening when viewed in a planar view. Further, the first rail supports the door to be movable in the first direction. Further, the first rail has a portion facing the opening in a second direction crossing the first direction when viewed in a planar view. Furthermore, the first rail has a first movable portion movable in the second direction.

    摘要翻译： 真空室具有开口。 门是关闭开口。 当在平面视图中观察时，第一轨道在第一方向上延伸有第一轨道和开口之间的空间。 此外，第一轨道支撑门能够沿第一方向移动。 此外，当从平面视图观察时，第一轨道具有与第一方向交叉的第二方向上面向开口的部分。 此外，第一轨道具有可沿第二方向移动的第一可移动部分。