公开(公告)号：US20090220896A1

公开(公告)日：2009-09-03

申请号：US12392905

申请日：2009-02-25

申请人： Katsutoshi Kobayashi ,  Kotaro Sho ,  Daisuke Kawamura

发明人： Katsutoshi Kobayashi ,  Kotaro Sho ,  Daisuke Kawamura

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/095

摘要： A pattern forming method has forming a lower layer film on a film to be processed, forming a silicon-containing intermediate film containing a protecting group which is removed by an acid, on said lower layer film, forming a resist film on said silicon-containing intermediate film, exposing a predetermined region of said resist film to light, and developing said resist film with a developer.

摘要翻译： 图案形成方法在被处理膜上形成下层膜，在所述下层膜上形成含有被酸去除的保护基的含硅中间膜，在所述含硅物质上形成抗蚀剂膜 中间膜，将所述抗蚀剂膜的预定区域曝光，并用显影剂显影所述抗蚀剂膜。

公开(公告)号：US08084192B2

公开(公告)日：2011-12-27

申请号：US12260659

申请日：2008-10-29

申请人： Kotaro Sho ,  Yoshihiro Naka

发明人： Kotaro Sho ,  Yoshihiro Naka

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： H01L21/32139 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/11 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/033 ,  H01L21/31144

摘要： A method for forming a resist pattern, includes forming a lower layer film, forming an intermediate film on the lower layer film, forming a photoresist film containing a photoacid-generating agent on the intermediate film, exposing the photoresist film, and developing the photoresist film. The lower layer film contains at least any one of a free acid, a thermoacid-generating agent, and a photoacid-generating agent, on a substrate to be treated.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括形成下层膜，在下层膜上形成中间膜，在中间膜上形成含有光致产生剂的光致抗蚀剂膜，曝光光致抗蚀剂膜，并使光致抗蚀剂膜显影 。 下层膜在待处理的基材上含有游离酸，热生酸剂和光致酸产生剂中的至少任一种。