公开(公告)号：US06511785B1

公开(公告)日：2003-01-28

申请号：US09709629

申请日：2000-11-13

申请人： Katsuya Takemura ,  Kenji Koizumi ,  Tatsushi Kaneko ,  Toyohisa Sakurada

发明人： Katsuya Takemura ,  Kenji Koizumi ,  Tatsushi Kaneko ,  Toyohisa Sakurada

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： A chemically amplified positive resist composition comprising a base resin and a compound containing two to six functional groups, specifically alkenyloxy, acetal and ortho-ester groups in the molecule is suitable for forming a contact hole pattern by the thermal flow process.

摘要翻译： 包含基础树脂和分子中含有2-6个官能团，特别是烯氧基，缩醛和原酯基的化合物的化学增幅正性抗蚀剂组合物适用于通过热流程形成接触孔图案。

公开(公告)号：US06395453B1

公开(公告)日：2002-05-28

申请号：US09514295

申请日：2000-02-28

申请人： Tatsushi Kaneko ,  Kenji Koizumi ,  Satoshi Watanabe ,  Yoshitaka Yanagi

发明人： Tatsushi Kaneko ,  Kenji Koizumi ,  Satoshi Watanabe ,  Yoshitaka Yanagi

IPC分类号： G03F7027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392

摘要： There are disclosed a photoresist composition containing at least an &agr;,&bgr;-unsaturated ketone compound, and a patterning method comprising a step of application of a photoresist composition containing at least an &agr;,&bgr;-unsaturated ketone compound to a substrate, a step of, after a heat treatment, exposure with a high energy ray having a wavelength of 500 nm or less, X-ray or electron ray through a photomask, and a step of development with a developer. According to the present invention, there are provided a photoresist composition exhibiting excellent stability as for sensitivity against long term storage and environmental temperature variation, and a patterning method utilizing the photoresist composition.

摘要翻译： 公开了至少含有α，β-不饱和酮化合物的光致抗蚀剂组合物，以及包含将至少含有α，β-不饱和酮化合物的光致抗蚀剂组合物涂布在基材上的步骤， 在热处理之后，用波长为500nm以下的高能射线照射X射线或通过光掩模的电子射线，以及用显影剂显影的步骤。 根据本发明，提供了对于长期储存和环境温度变化的敏感性表现出优异稳定性的光致抗蚀剂组合物，以及利用光致抗蚀剂组合物的图案化方法。

公开(公告)号：US5951913A

公开(公告)日：1999-09-14

申请号：US856710

申请日：1997-05-15

申请人： Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko ,  Kenji Koizumi ,  Mutsuo Nakashima

发明人： Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko ,  Kenji Koizumi ,  Mutsuo Nakashima

IPC分类号： C09K19/40 ,  C09K19/34 ,  C09K19/12

CPC分类号： C09K19/406

摘要： A liquid crystal composition having a liquid crystal component with a chemical structure of two saturated rings connected directly to one another, and an additional structural isomer thereof having a silane atom in a different position from the first component and having the structure set forth in formula (1) hereinbelow. ##STR1## This composition provides an improved effect with respect to enhancement in both response speed and T.sub.NI (nematic-isotropic transition temperature) as a high voltage hold ratio as required for TFT driving in addition to also lowering the voltage.

摘要翻译： 一种具有两个饱和环的化学结构的液晶组分的液晶组合物，其两个直接相互连接，并且其另外的结构异构体具有与第一组分不同位置的硅烷原子并且具有式（ 1）。 除了降低电压之外，该组合物还提供了作为TFT驱动所需的高电压保持率的响应速度和TNI（向列 - 各向同性转变温度）的增强效果。

公开(公告)号：US08921025B2

公开(公告)日：2014-12-30

申请号：US12793284

申请日：2010-06-03

申请人： Tatsushi Kaneko ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi

发明人： Tatsushi Kaneko ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. Resin component (A) is a polymer comprising recurring units of formula (1) wherein R1 is H, CH2 or CF3, R2 is an acid labile group, R3 is H or CO2CH3, X is O, S, CH2 or CH2CH2, 0.01≦a

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含（A）在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂的树脂组分和（B）酸产生剂。 树脂组分（A）是包含式（1）的重复单元的聚合物，其中R 1是H，CH 2或CF 3，R 2是酸不稳定基团，R 3是H或CO 2 CH 3，X是O，S，CH 2或CH 2 CH 2，0.01＆ ; a <1和0.01＆nlE; b <1。 当通过ArF光刻处理时，组合物形成具有令人满意的掩模保真度和最小LWR的图案。

公开(公告)号：US5730902A

公开(公告)日：1998-03-24

申请号：US700970

申请日：1996-08-21

申请人： Mutsuo Nakashima ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko

发明人： Mutsuo Nakashima ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko

IPC分类号： C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  C09K19/40 ,  C09K19/34 ,  C09K19/30

CPC分类号： C07F7/0896 ,  C07F7/0818 ,  C07F7/12 ,  C09K19/406

摘要： An optically active silacyclohexane compound of the formula (I) ##STR1## wherein R represents an organic residue, X represents --CH.sub.2 -- or --O--; Z represents a chiral group having at least one chiral carbon atom; L.sub.1 and L.sub.2 independently represent H or F, n is 0 or 1; ##STR2## represents a trans-1-sila-1,4-cyclohexylene group or trans-4-sila-1,4-cyclohexylene group whose silicon atom at the 1 or 4 position has H, F, Cl or CH.sub.3, or a 1,4-cyclohexylene group; and ##STR3## represents a trans-1-sila-1,4-cyclohexylene group or trans-4-sila-1,4-cyclohexylene group whose silicon atom at the 1 or 4 position has H, F, Cl or CH.sub.3, a 1,4-cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group provided that at least one of ##STR4## represents the trans-1-sila-1,4-cyclohexylene group or trans-4-sila-1,4-cyclohexylene group defined above. A liquid crystal composition comprising the compound defined above and a liquid crystal display device comprising the composition are also described.

摘要翻译： 式（I）的光学活性硅环己烷化合物其中R表示有机残基，X表示-CH 2 - 或-O-; Z表示具有至少一个手性碳原子的手性基团; L1和L2独立地表示H或F，n为0或1; 表示1或4位的硅原子具有H，F，Cl或CH 3的反式-1-硅烷-1,4-亚环己基或反式-4-硅烷-1,4-亚环己基，或 1,4-亚环己基; 代表1或4位的硅原子具有H，F，Cl或CH 3的反式-1-硅烷-1,4-亚环己基或反式-4-硅烷-1,4-亚环己基，a， 1,4-亚环己基或1,4-亚苯基，条件是中的至少一个表示反式-1-硅烷-1,4-亚环己基或反式-4-硅烷-1,4-亚环己基 以上定义。 还描述了包含上述定义的化合物的液晶组合物和包含该组合物的液晶显示装置。

公开(公告)号：US5725797A

公开(公告)日：1998-03-10

申请号：US742626

申请日：1996-10-31

申请人： Kazuyuki Asakura ,  Takanobu Takeda ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko

发明人： Kazuyuki Asakura ,  Takanobu Takeda ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko

IPC分类号： C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  C09K19/40 ,  C09K19/34 ,  C09K19/30 ,  G02F1/13

CPC分类号： C07F7/0896 ,  C07F7/0818 ,  C07F7/12 ,  C09K19/406

摘要： For the purpose of improving the characteristics of a liquid crystal substance, there is provided a silacyclohexane compound represented by the general formula (I): ##STR1## wherein R represents a specific straight-chain alkyl group, mono or difluoro alkyl group, branched-chain alkyl group, alkoxyalkyl group, and alkenyl group; at least one of rings A and B represent a trans-1-sila-1,4-cyclohexylene group or a trans-4-sila-1,4-cyclohexylene group both having a substituent group H, F, Cl, CH.sub.3 or Ar (Ar stands for a phenyl or tolyl group) on silicon at the 1 or 4 position, and the other group, if any, represents a trans-1,4-cyclohexylene group or ##STR2## Z represents CN, F, Cl, CF.sub.3, CClF.sub.2, CHClF, OCF.sub.3, OCClF.sub.2, OCHF.sub.2, OCHClF, R, or OR; L.sub.1 represents H, F or Cl; L.sub.2 and L.sub.3 stand independently for H or F; i represents an integer of 0 to 2; m is 1 or 2; n is 0 or 1; and if m is 2, the two rings may be the same or different.

摘要翻译： 为了改善液晶物质的特性，提供了由通式（I）表示的硅环己烷化合物：其中R表示特定的直链烷基，单或二氟烷基 ，支链烷基，烷氧基烷基和烯基; 环A和B中的至少一个表示具有取代基H，F，Cl，CH 3或Ar的反式-1-硅烷-1,4-亚环己基或反式-4-硅烷-1,4-亚环己基 （Ar表示苯基或甲苯基），另一组（如果有的话）表示反式-1,4-亚环己基或Z表示CN，F，Cl，CF 3 ，CClF 2，CHClF，OCF 3，OCClF 2，OCHF 2，OCHClF，R或OR; L 1表示H，F或Cl; L2和L3独立地用于H或F; i表示0〜2的整数， m为1或2; n为0或1; 如果m为2，则两个环可以相同或不同。

公开(公告)号：US5693841A

公开(公告)日：1997-12-02

申请号：US483034

申请日：1995-06-07

申请人： Takeshi Kinsho ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Mutsuo Nakashima ,  Tatsushi Kaneko

发明人： Takeshi Kinsho ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Mutsuo Nakashima ,  Tatsushi Kaneko

IPC分类号： C07F7/08 ,  C09K19/40 ,  C07F7/02

CPC分类号： C09K19/406 ,  C07F7/0818 ,  C07F7/0896

摘要： A cyclohexanone compound of the following general formula (I) is provided ##STR1## wherein Ar represents a phenyl group or a tolyl group, and R represents a phenyl group, a tolyl group, a linear alkyl group having from 1 to 10 carbon atoms, a mono or difluoroalkyl group having from 1 to 10 carbon atoms, a branched alkyl group having from 3 to 8 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having from 2 to 7 carbon atoms. The preparation of the cyclohexanone compound is also described along with processes for preparing liquid crystal compounds from the cyclohexanone compound.

摘要翻译： 提供以下通式（I）的环己酮化合物：其中Ar表示苯基或甲苯基，R表示苯基，甲苯基，具有1至10个直链烷基的直链烷基 碳原子，具有1至10个碳原子的单或二氟烷基，具有3至8个碳原子的支链烷基或具有2至7个碳原子的烷氧基烷基。 还描述了环己酮化合物的制备以及从环己酮化合物制备液晶化合物的方法。

公开(公告)号：US5578244A

公开(公告)日：1996-11-26

申请号：US415858

申请日：1995-04-03

申请人： Takaaki Shimizu ,  Takeshi Kinsho ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko ,  Mutsuo Nakashima ,  Hideshi Kurihara

发明人： Takaaki Shimizu ,  Takeshi Kinsho ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko ,  Mutsuo Nakashima ,  Hideshi Kurihara

IPC分类号： C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  C09K19/40 ,  C09K19/34 ,  C09K19/12 ,  G02F1/13

CPC分类号： C09K19/406 ,  C07F7/0818 ,  C07F7/0896 ,  C07F7/12

摘要： A silacyclohexane compound represented by the following general formula (I) ##STR1## wherein R denotes a linear-chain alkyl group with a carbon number of 1-10, a fluoroalkyl group with a carbon number of 1-10 in which a fluorine atom(s) is substituted for one or two hydrogen atoms, a branched-chain alkyl group with a carbon number of 3-8, an alkoxyalkyl group with a carbon number of 2-7, or an alkenyl group with a carbon number of 2-8. ##STR2## denotes a trans-1-sila-1,4-cyclohexylene or trans-4-sila-1,4-cyclohexylene group whose silicon at position 1 or position 4 has a substitutional group(s) of H, F, Cl or CH.sub.3. L.sub.1 and L.sub.2 independently denote H or F. L.sub.3 and L.sub.4 independently denote H, F or Cl. X denotes a H, CN, F, Cl, CF.sub.3, CF.sub.2 Cl, CHFCl, OCF.sub.3, OCF.sub.2 Cl, OCHFCl, OCHF.sub.2, or a linear-chain alkyl or alkoxy group with a carbon number of 1-10. i, j and k respectively denote 0 or 1, where (i+j+k) is 0 or 1. n denotes 0, 1 or 2.

摘要翻译： 由以下通式（I）表示的硅环己烷化合物其中R表示碳数为1-10的直链烷基，碳数为1-10的氟代烷基，其中a 氟原子取代一个或两个氢原子，碳数为3-8的支链烷基，碳数为2-7的烷氧基烷基或碳数为 2-8。 表示1位或4位的硅具有H，F，Cl取代基的反式-1-硅烷-1,4-亚环己基或反式-4-硅烷-1,4-亚环己基 或CH3。 L1和L2独立地表示H或F.L3和L4独立地表示H，F或Cl。 X表示H，CN，F，Cl，CF 3，CF 2 Cl，CHFCl，OCF 3，OCF 2 Cl，OCHFCl，OCHF 2或碳数为1-10的直链烷基或烷氧基。 i，j和k分别表示0或1，其中（i + j + k）为0或1.n表示0,1或2。

公开(公告)号：US5498737A

公开(公告)日：1996-03-12

申请号：US377961

申请日：1995-01-25

申请人： Tsutomu Ogihara ,  Takaaki Shimizu ,  Takeshi Kinsho ,  Tatsushi Kaneko ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

发明人： Tsutomu Ogihara ,  Takaaki Shimizu ,  Takeshi Kinsho ,  Tatsushi Kaneko ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

IPC分类号： C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  C09K19/40

CPC分类号： C07F7/0818 ,  C07F7/0896 ,  C07F7/12 ,  C09K19/406

摘要： A silacyclohexane compound represented by the following general formula (1): ##STR1## wherein R denotes a linear-chain alkyl group with a carbon number of 1-10, a mono- or di-fluoroalkyl group with a carbon number of 1-10, a branched-chain alkyl group with a carbon number of 3-8, an alkoxyalkyl group with a carbon number of 2-7, or an alkenyl group with a carbon number of 2-8, and at least one of ##STR2## denotes a trans-1-sila-1,4-cyclohexylene or a trans-4-sila-1,4-cyclohexylene group whose silicon at position 1 or position 4 has a substitutional group(s) of H, F, Cl or CH.sub.3 and the other is a trans-1,4-cyclohexylene group, X denotes a CN, F, F, Cl, CF.sub.3, OCF.sub.3, OCHF.sub.2, OCHFCl, CF.sub.2 Cl, OCF.sub.2 Cl, R or OR group, Z.sub.1 denotes H, F or Cl, and Z.sub.2 denotes H or F.

摘要翻译： 由以下通式（1）表示的硅环己烷化合物：其中R表示碳原子数为1〜10的直链烷基，碳数为1的单或二氟烷基 1-10，碳数为3-8的支链烷基，碳数为2-7的烷氧基烷基或碳数为2-8的烯基，以及至少一个 “IMAGE”和“IMAGE”表示反式-1-硅烷-1,4-亚环己基或反式-4-硅烷-1,4-亚环己基，其位置1或位置4的硅的取代基为H ，F，Cl或CH 3，另一个是反式-1,4-亚环己基，X表示CN，F，F，Cl，CF 3，OCF 3，OCHF 2，OCHFCl，CF 2 Cl，OCF 2 Cl，R或OR基， H，F或Cl，Z2表示H或F.

公开(公告)号：US20050227174A1

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：US11101591

申请日：2005-04-08

申请人： Jun Hatakeyama ,  Tatsushi Kaneko

发明人： Jun Hatakeyama ,  Tatsushi Kaneko

IPC分类号： G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： A polymer which is obtained from a combination of (meth)acrylate having a bridged ring lactone group and (meth)acrylate having an acid leaving group with a hexafluoroalcohol group is used as a base resin to formulate a positive resist composition which when exposed to high-energy radiation and developed, exhibits a high sensitivity, a high resolution, and a minimal line edge roughness due to controlled swell during development. The composition also has excellent dry etching resistance.

摘要翻译： 使用由具有桥环内酯基的（甲基）丙烯酸酯与具有酸性离去基团的具有六氟醇基的（甲基）丙烯酸酯）组合获得的聚合物作为基础树脂，以配制正极抗蚀剂组合物 能量辐射和发展，显示出高灵敏度，高分辨率和最小的线边缘粗糙度由于开发过程中控制膨胀。 该组合物还具有优异的耐干蚀刻性。