公开(公告)号：US20120217474A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：US13405874

申请日：2012-02-27

申请人： Keyan ZANG ,  Soo Jin CHUA

发明人： Keyan ZANG ,  Soo Jin CHUA

IPC分类号： H01L33/04

CPC分类号： H01L33/24 ,  H01L31/035218 ,  H01L33/06 ,  H01L33/08

摘要： The present invention relates to a photonic device comprising a plurality of nanostructures that extend from a substrate, each nanostructure comprising a generally longitudinal nanostructure body formed of a semiconductor material. Each nanostructure has a proximal end portion of a first crystal lattice structure and a distal end portion of a second crystal lattice structure that is expanded relative to the proximal end portion. Each nanostructure further comprises an optically active material optically associated with the distal end portion to form a heterojunction therebetween. The present invention further relates to a method of making the disclosed nanostructures.

摘要翻译： 本发明涉及包括从衬底延伸的多个纳米结构的光子器件，每个纳米结构包括由半导体材料形成的大致纵向的纳米结构体。 每个纳米结构具有第一晶格结构的近端部分和相对于近端部分膨胀的第二晶格结构的远端部分。 每个纳米结构还包括与远端部分光学相关的光学活性材料，以在它们之间形成异质结。 本发明还涉及制备所公开的纳米结构的方法。

公开(公告)号：US20080047929A1

公开(公告)日：2008-02-28

申请号：US11843401

申请日：2007-08-22

申请人： Benzhong WANG ,  Soo Jin CHUA

发明人： Benzhong WANG ,  Soo Jin CHUA

IPC分类号： B29D11/00

CPC分类号： B29D11/00365 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0056 ,  Y10S977/888 ,  Y10T428/24165 ,  Y10T428/24893 ,  Y10T428/24909

摘要： A method of forming an array of selectively shaped optical elements on a substrate, the method including the steps of providing the substrate, the substrate having an optical layer placed thereon; placing a layer of particles on the optical layer; performing an etching cycle. The cycle includes the steps of: etching the layer of particles, using a first etching process so as to reduce the size of the particles within the layer, then; simultaneously etching the optical layer and the layer of particles, using a second etching process, the further reducing particles forming a mask over areas of the optical layer to create discrete optical elements from the optical layer.

摘要翻译： 一种在衬底上形成选择性地成形的光学元件的阵列的方法，所述方法包括以下步骤：提供衬底，所述衬底具有放置在其上的光学层; 在光学层上放置一层颗粒; 执行蚀刻循环。 该循环包括以下步骤：使用第一蚀刻工艺蚀刻颗粒层，以减小层内的颗粒的尺寸，然后; 使用第二蚀刻工艺同时蚀刻光学层和颗粒层，在光学层的区域上形成进一步的还原颗粒形成掩模以从光学层产生离散的光学元件。

公开(公告)号：US20110095324A1

公开(公告)日：2011-04-28

申请号：US12938973

申请日：2010-11-03

申请人： Benzhong WANG ,  Soo Jin CHUA

发明人： Benzhong WANG ,  Soo Jin CHUA

IPC分类号： H01L33/00 ,  H01L21/302 ,  H01L31/0216 ,  B29D11/00 ,  G02B1/00 ,  B32B3/10 ,  B32B3/12

CPC分类号： B29D11/00365 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0056 ,  Y10S977/888 ,  Y10T428/24165 ,  Y10T428/24893 ,  Y10T428/24909

摘要： A method of forming an array of selectively shaped optical elements on a substrate, the method including the steps of providing the substrate, the substrate having an optical layer placed thereon; placing a layer of particles on the optical layer; performing an etching cycle. The cycle includes the steps of: etching the layer of particles, using a first etching process so as to reduce the size of the particles within the layer, then; simultaneously etching the optical layer and the layer of particles, using a second etching process, the further reducing particles forming a mask over areas of the optical layer to create discrete optical elements from the optical layer.

摘要翻译： 一种在衬底上形成选择性地成形的光学元件的阵列的方法，所述方法包括以下步骤：提供衬底，所述衬底具有放置在其上的光学层; 在光学层上放置一层颗粒; 执行蚀刻循环。 该循环包括以下步骤：使用第一蚀刻工艺蚀刻颗粒层，以减小层内的颗粒的尺寸，然后; 使用第二蚀刻工艺同时蚀刻光学层和颗粒层，在光学层的区域上形成进一步的还原颗粒形成掩模以从光学层产生离散的光学元件。

公开(公告)号：US20130295325A1

公开(公告)日：2013-11-07

申请号：US13559533

申请日：2012-07-26

申请人： Kwok Wei SHAH ,  Xiaodi SU ,  Soo Jin CHUA ,  Hong Yee LOW

发明人： Kwok Wei SHAH ,  Xiaodi SU ,  Soo Jin CHUA ,  Hong Yee LOW

IPC分类号： G01N21/55 ,  B44C1/22

CPC分类号： G01N21/554 ,  B44C1/227 ,  Y10S977/888 ,  Y10T428/24331

摘要： The present invention relates to a method of forming polymer substrate with variable refractive index sensitivity, the method comprising the steps of: (a) contacting a metal-coated patterned mold with a polymer substrate at a temperature sufficient to deform said polymer substrate to thereby deposit a patterned mask of a metal film on the polymer substrate; and (b) etching away portions of said polymer substrate not covered by said patterned mask under conditions to form a region of variable refractive index sensitivity on said polymer substrate.

摘要翻译： 本发明涉及一种形成具有可变折射率灵敏度的聚合物基材的方法，所述方法包括以下步骤：（a）使金属涂覆的图案化模具与聚合物基材在足以使所述聚合物基材变形以使其沉积的温度下接触 在聚合物基材上的金属膜的图案化掩模; 和（b）在所述聚合物基材上形成可变折射率敏感区域的条件下，蚀刻除去未被所述图案化掩模覆盖的所述聚合物基材的部分。