公开(公告)号：US20140011946A9

公开(公告)日：2014-01-09

申请号：US11788344

申请日：2007-04-19

申请人： Kirill Bakeev ,  Sung Gun Chu ,  Tara Lyn Everett ,  Dirk Kruythoff ,  Dekai Loo ,  Tuyen Thanh Nguyen ,  Willemina Geesien Salomons ,  Dirk Kruythoff

发明人： Kirill Bakeev ,  Sung Gun Chu ,  Tara Lyn Everett ,  Dirk Kruythoff ,  Dekai Loo ,  Tuyen Thanh Nguyen ,  Willemina Geesien Salomons ,  Dirk Kruythoff

IPC分类号： C08F16/36 ,  C08F8/14 ,  C08F16/12

CPC分类号： C08G65/331 ,  C08G65/22 ,  C08G65/2609 ,  C08G65/3346 ,  C08G65/337 ,  C08G2650/34 ,  C08L53/00 ,  C08L71/02 ,  C08L2666/02 ,  C09D5/024 ,  C09D7/43 ,  C09D153/00 ,  C09D171/02 ,  C09J153/00

摘要： A stabilizer composition comprising an AB type polymer for use in increasing Open Time of aqueous coating compositions is disclosed. The stabilizers compositions are of utility in many aqueous compositions including paints, stains, varnishes, adhesives and inks. Of particular interest is the use of the stabilizer compositions for in increasing the Open Time of latex paints as well as alkyd emulsion paints.

公开(公告)号：US20070249780A1

公开(公告)日：2007-10-25

申请号：US11788344

申请日：2007-04-19

申请人： Kirill Bakeev ,  Sung Chu ,  Tara Everett ,  Dirk Kruythoff ,  Dekai Loo ,  Tuyen Nguyen ,  Willemina Salomons ,  Dirk Kruythoff

发明人： Kirill Bakeev ,  Sung Chu ,  Tara Everett ,  Dirk Kruythoff ,  Dekai Loo ,  Tuyen Nguyen ,  Willemina Salomons ,  Dirk Kruythoff

IPC分类号： C08F16/36 ,  C08F16/12 ,  C08F8/14

CPC分类号： C08G65/331 ,  C08G65/22 ,  C08G65/2609 ,  C08G65/3346 ,  C08G65/337 ,  C08G2650/34 ,  C08L53/00 ,  C08L71/02 ,  C08L2666/02 ,  C09D5/024 ,  C09D7/43 ,  C09D153/00 ,  C09D171/02 ,  C09J153/00

摘要： A stabilizer composition comprising an AB type polymer for use in increasing Open Time of aqueous coating compositions is disclosed. The stabilizers compositions are of utility in many aqueous compositions including paints, stains, varnishes, adhesives and inks. Of particular interest is the use of the stabilizer compositions for in increasing the Open Time of latex paints as well as alkyd emulsion paints.

摘要翻译： 公开了一种包含用于增加水性涂料组合物的开放时间的AB型聚合物的稳定剂组合物。 稳定剂组合物可用于许多含水组合物，包括油漆，污渍，清漆，粘合剂和油墨。 特别令人感兴趣的是使用稳定剂组合物来增加乳胶漆的开放时间以及醇酸乳液漆。

公开(公告)号：US5391678A

公开(公告)日：1995-02-21

申请号：US983450

申请日：1992-12-03

申请人： John K. Bard ,  Richard L. Brady ,  Raymond T. Leibfried, Sr. ,  Dekai Loo

发明人： John K. Bard ,  Richard L. Brady ,  Raymond T. Leibfried, Sr. ,  Dekai Loo

IPC分类号： C08G77/50 ,  C08L83/14 ,  C08G77/04

CPC分类号： C08L83/14 ,  C08G77/50

摘要： Curable compositions including epoxy-functional compounds and polyenes, as well as cyclic polysiloxanes, and/or tetrahedral siloxysilanes, and/or linear polysiloxanes; along with, or instead of these polyenes and silicon compositions, crosslinkable prepolymers prepared from such polyenes and silicon compounds may be included. A curing agent, and yet additionally, a curing accelerator, may also be included. These compositions can be thermally cured, in the presence of hydrosilation catalysts.

摘要翻译： 包括环氧官能化合物和多烯，以及环状聚硅氧烷和/或四面体硅氧烷硅烷，和/或线性聚硅氧烷的可固化组合物; 连同或替代这些多烯和硅组合物，可以包括由这种多烯和硅化合物制备的可交联预聚物。 还可以包括固化剂，另外还包括固化促进剂。 在硅氢化催化剂存在下，这些组合物可以热固化。

公开(公告)号：US08623977B2

公开(公告)日：2014-01-07

申请号：US12621621

申请日：2009-11-19

申请人： Sung G. Chu ,  Dekai Loo ,  Hong Yang

发明人： Sung G. Chu ,  Dekai Loo ,  Hong Yang

IPC分类号： C08F220/06 ,  C08F220/24

CPC分类号： C08F290/068 ,  C08F216/125 ,  C08F220/24 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2222/1026 ,  C08F220/06

摘要： The present invention involves a cross-linked carboxylic acid hydrophobically modified copolymer product in which cross-linked carboxylic acid is modified with a non-hydrocarbyl hydrophobe, namely, poly(dimethyl siloxane) or fluoronated alkyl methacrylates.

摘要翻译： 本发明涉及交联羧酸疏水改性共聚物产物，其中交联羧酸用非烃基疏水物，即聚（二甲基硅氧烷）或氟代烷基甲基丙烯酸酯改性。

公开(公告)号：US06342332B1

公开(公告)日：2002-01-29

申请号：US08562316

申请日：1996-02-05

申请人： Dekai Loo ,  Richard T. Mayes

发明人： Dekai Loo ,  Richard T. Mayes

IPC分类号： G03C176

CPC分类号： H05K3/0079 ,  G03F7/031 ,  H05K3/0076 ,  H05K2203/0759 ,  H05K2203/1105

摘要： A liquid applied photoresist composition is disclosed which exhibits a favorable balance of photospeed and overall physical properties. The photoresist composition includes a binder, a multifunctional monomer, a photoinitiator, and a solvent. The photoinitiator is present in the photoresist in an amount of greater than about 10% by weight of the photoresist without solvent. The photoresist when applied is relatively resistant to blocking when applied to a substrate. A process for producing a negative resist image on a surface using the photoresist is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种液体涂敷的光致抗蚀剂组合物，其表现出良好的光速平衡和整体物理性能。 光致抗蚀剂组合物包括粘合剂，多官能单体，光引发剂和溶剂。 光致抗蚀剂中存在的光引发剂的量大于不含溶剂的光致抗蚀剂的约10重量％。 当施加到光刻胶上时，光致抗蚀剂在施加到基底上时相对于阻挡相对抗性。还公开了使用光致抗蚀剂在表面上产生负性抗蚀剂图像的方法。