利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

3 条记录 (耗时 0.024 秒)

    Reactive sputter deposition processes and equipment
    1.
    发明申请
    Reactive sputter deposition processes and equipment 有权
    反应溅射沉积工艺和设备

    公开(公告)号：US20070131536A1

    公开(公告)日：2007-06-14

    申请号：US11590438

    申请日：2006-10-31

    申请人： Klaus Hartig ,  Soren Berg ,  Tomas Nyberg

    发明人： Klaus Hartig ,  Soren Berg ,  Tomas Nyberg

    IPC分类号： C23C14/32

    CPC分类号： C23C14/3414 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/0068 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3426

    摘要： The invention is a method for obtaining a reactive sputtering process with a reduced or eliminated hysteresis behavior. This is achieved by employing a target made from a mixture of metal and compound materials. In the method according to the present invention, the fraction of compound material is large enough to eliminate or significantly reduce the hysteresis behavior of the reactive sputtering process and enable a stable deposition of compound films at a rate significantly higher than what is possible from a target completely made from compound material.

    摘要翻译： 本发明是用于获得具有减小或消除的滞后行为的反应溅射工艺的方法。 这是通过使用由金属和复合材料的混合物制成的靶来实现的。 在根据本发明的方法中，化合物材料的分数足够大以消除或显着降低反应性溅射工艺的滞后性能，并能够使化合物膜的稳定沉积速度明显高于目标可能的速率 完全由复合材料制成。

    Method and an apparatus for generation of a discharge in own vapors of a radio frequency electrode for sustained self-sputtering and evaporation of the electrode
    2.
    发明授权
    Method and an apparatus for generation of a discharge in own vapors of a radio frequency electrode for sustained self-sputtering and evaporation of the electrode 失效
    用于在用于持续自溅射和蒸发电极的射频电极的自身蒸气中产生放电的方法和装置

    公开(公告)号：US5716500A

    公开(公告)日：1998-02-10

    申请号：US628694

    申请日：1996-06-21

    申请人： Ladislav Bardos ,  Hana Barankova ,  Soren Berg

    发明人： Ladislav Bardos ,  Hana Barankova ,  Soren Berg

    IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/22 ,  C23C14/35 ,  C23C14/40 ,  H01J37/34 ,  C23C16/00

    CPC分类号： C23C14/228 ,  C23C14/22 ,  H01J37/32596 ,  H01J37/34

    摘要： A method and apparatus for generation of a discharge in own vapors of a radio frequency electrode for sustained self-sputtering and evaporation comprising the steps of: (a) generation of a radio frequency discharge by a radio frequency electrode of a hollow geometry in an auxiliary gas introduced into the discharge area at a pressure necessary for an initiation of a hollow cathode discharge inside the hollow electrode causing sputtering and/or evaporation of the electrode surface; (b) increasing the radio frequency power to said hollow electrode to enhance density of vapors containing particles released from the electrode by the sputtering and/or evaporation in the radio frequency generated hollow cathode discharge up to a density at which a self-sustained discharge remains after the inflow of said auxiliary gas is closed and the pumping of gas is adjusted to a value necessary for the maintenance of the discharge. The hollow radio frequency electrode may serve as an inlet of said auxiliary gas. ##STR1##

    摘要翻译： PCT No.PCT / SE94 / 00959 Sec。 371日期：1996年6月21日 102（e）日期1996年6月21日PCT 1994年10月12日PCT PCT。 公开号WO95 / 11322 日期：1995年04月27日一种用于产生用于持续自溅射和蒸发的射频电极的自身蒸气中的放电的方法和装置，包括以下步骤：（a）通过射频电极产生射频放电 以引起中空电极内的空心阴极放电所需的压力引入到放电区域中的引起溅射和/或蒸发电极表面的辅助气体中的空心几何形状; （b）增加对所述中空电极的射频功率，以通过溅射和/或在射频产生的中空阴极放电中的蒸发来增加含有从电极释放的颗粒的蒸气的密度，直至达到自持放电保持的密度 在关闭所述辅助气体的流入之后，将气体的泵送调节到维持放电所需的值。 中空射频电极可以用作所述辅助气体的入口。 + Z