公开(公告)号：US20050030512A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10896367

申请日：2004-07-22

申请人： Koen Jacobus Maria Zaal ,  Tjarko Van Empel ,  Joost Ottens ,  Jan Hopman

发明人： Koen Jacobus Maria Zaal ,  Tjarko Van Empel ,  Joost Ottens ,  Jan Hopman

IPC分类号： H01L21/683 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70708 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes an illuminator for conditioning a beam of radiation, and an article holder. The article holder includes a plurality of protrusions arranged to provide a substantially flat plane of support for supporting an article to be placed in a beam path of the beam of radiation, and at least one clamping electrode for generating an electrostatic clamping force for clamping the article against the article holder. The clamping electrode includes an electric field changer for locally changing the electrostatic clamping force for leveling local height variations of the substrate.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于调节辐射束的照明器和物品保持器。 物品保持器包括多个突起，其被布置成提供基本平坦的支撑平面，用于支撑待放置在辐射束的光束路径中的物品;以及至少一个夹紧电极，用于产生用于夹紧物品的静电夹紧力 反对文章持有人。 夹持电极包括用于局部地改变静电夹持力的电场改变器，用于调平衬底的局部高度变化。

公开(公告)号：US20060102277A1

公开(公告)日：2006-05-18

申请号：US10988832

申请日：2004-11-16

申请人： Koen Jacobus Maria Zaal ,  Joost Ottens ,  Jan Hopman

发明人： Koen Jacobus Maria Zaal ,  Joost Ottens ,  Jan Hopman

IPC分类号： B32B37/00

CPC分类号： G03F7/70716 ,  B32B38/0012 ,  B32B38/06 ,  B32B2315/02 ,  G03F7/70708 ,  Y10T428/24479

摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes an illumination system arranged to condition a radiation beam, and an article support configured to support an article to be placed in a beam path of the radiation beam. The article support includes a plurality of bonded layers. At least one of the bonded layers includes a plurality of recesses facing another of the bonded layers, so as to reduce a bonding surface between the bonded layers.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备。 该装置包括布置成调节辐射束的照明系统和被配置为支撑要放置在辐射束的光束路径中的物品的物品支撑件。 物品支撑件包括多个粘合层。 至少一个接合层包括面对另一个接合层的多个凹槽，以便减少接合层之间的接合表面。

公开(公告)号：US20050219499A1

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：US10814815

申请日：2004-04-01

申请人： Koen Jacobus Maria Zaal ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Joost Ottens

发明人： Koen Jacobus Maria Zaal ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Joost Ottens

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70691

摘要： A burl plate for use in immersion lithography has a higher burl density in a peripheral portion than in a medial portion so that when a higher pressure differential is applied in the peripheral portion the compression of the burls in the peripheral portion is substantially the same as in the medial portion.

摘要翻译： 用于浸没式光刻的凸缘板在周边部分中具有比在中间部分更高的凸起密度，使得当在周边部分中施加较高的压差时，周边部分中的毛边的压缩基本上与 内侧部分。