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    Multi-layer electro-optic polymer modulators with reduced optical coupling loss
    4.
    发明授权
    Multi-layer electro-optic polymer modulators with reduced optical coupling loss 失效
    具有降低的光耦合损耗的多层电光聚合物调制器

    公开(公告)号：US06895162B2

    公开(公告)日：2005-05-17

    申请号：US10370785

    申请日：2003-02-20

    申请人： Louis J. Bintz ,  Raluca Dinu

    发明人： Louis J. Bintz ,  Raluca Dinu

    IPC分类号： G02B6/12 ,  G02B6/132 ,  G02B6/138 ,  G02F1/065 ,  G02B6/00 ,  G02B6/10

    CPC分类号： G02F1/3558 ,  G02B6/132 ,  G02B6/138 ,  G02B2006/121 ,  G02F1/065 ,  G02F1/365 ,  G02F2201/07 ,  G02F2202/07 ,  G02F2202/38

    摘要： An electro-optic waveguide device, comprising (a) a first polymer buffer clad having a refractive index of about 1.445 to about 1.505 and a thickness of about 2.2 μm to about 3.2 μm; (b) a first polymer clad having a refractive index of about 1.53 to about 1.61 and a thickness of about 1.0 μm to about 3.0 μm; (c) an electro-optic polymer core having a refractive index of about 1.54 to about 1.62 and a thickness of about 1.0 μm to about 3.0 μm; and (d) a second polymer buffer clad having a refractive index of about 1.445 to about 1.505 and a thickness of about 2.2 μm to about 3.2 μm.

    摘要翻译： 一种电光波导装置，包括（a）第一聚合物缓冲包层，其折射率为约1.445至约1.505，厚度为约2.2μm至约3.2μm; （b）折射率为约1.53至约1.61且厚度为约1.0μm至约3.0μm的第一聚合物包层; （c）具有约1.54至约1.62的折射率和约1.0μm至约3.0μm的厚度的电光聚合物芯; 和（d）折射率为约1.445至约1.505且厚度为约2.2μm至约3.2μm的第二聚合物缓冲包层。

    Method for manufacturing polymer microstructures and polymer waveguides
    5.
    发明授权
    Method for manufacturing polymer microstructures and polymer waveguides 失效
    制造聚合物微观结构和聚合物波导的方法

    公开(公告)号：US06902871B2

    公开(公告)日：2005-06-07

    申请号：US10264461

    申请日：2002-10-03

    申请人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach ,  Louis J. Bintz

    发明人： Raluca Dinu ,  Jeffrey K. Kressbach ,  Louis J. Bintz

    IPC分类号： G02B6/12 ,  G02B6/136 ,  G02B6/138 ,  G02F1/065 ,  G03F7/09

    CPC分类号： G02B6/138 ,  G02B6/136 ,  G02B2006/12097 ,  G02B2006/121 ,  G02F1/065

    摘要： A microfabrication process for preparing articles in which a precursor article that includes (a) a substrate, (b) a first polymer layer overlying the substrate, (c) a second polymer layer overlying the first polymer layer, (d) a metal hardmask layer overlying the second polymer layer, and (e) a photodefinable layer overlying the metal hardmask layer is subjected to photolithographic imaging, developing, and plasma etching steps to form an article that includes the substrate and portions of the first polymer layer arranged in a pattern corresponding to the pattern of the photomask used for photolithographic imaging.

    摘要翻译： 一种用于制备制品的微加工方法，其中包括（a）基材，（b）覆盖所述基材的第一聚合物层，（c）覆盖所述第一聚合物层的第二聚合物层，（d）金属硬掩模层 覆盖第二聚合物层，和（e）覆盖在金属硬掩模层上的可光限定层进行光刻成像，显影和等离子体蚀刻步骤，以形成包括基板的第一聚合物层的部分和以对应的图案排列的第一聚合物层的部分 涉及用于光刻成像的光掩模的图案。

    Linear optical modulators and method of linear optical modulation
    6.
    发明授权
    Linear optical modulators and method of linear optical modulation 失效
    线性光学调制器和线性光学调制方法

    公开(公告)号：US07161726B2

    公开(公告)日：2007-01-09

    申请号：US10981920

    申请日：2004-11-05

    申请人： Louis J. Bintz ,  Raluca Dinu

    发明人： Louis J. Bintz ,  Raluca Dinu

    IPC分类号： G02F1/03 ,  G02F1/07

    CPC分类号： G02F1/065 ,  G02F1/0147 ,  G02F1/3134 ,  G02F2203/20

    摘要： A device that comprises: a) a first optical waveguide; b) a second optical waveguide; c) an optical coupling region including the first and second optical waveguides, the optical coupling region characterized as having at least one coupling length and comprising a first bias section, a modulation section, and a second bias section arranged such that light propagates serially through the first bias section, the modulation section, and the second bias section; d) a first bias electrode for biasing the first bias section; e) a modulating electrode for applying a modulating voltage to the modulation section, the modulating electrode being positioned to control the refractive index of the first optical waveguide; and f) a second bias electrode for biasing the second bias section.

    摘要翻译： 一种装置，包括：a）第一光波导; b）第二光波导; c）包括所述第一和第二光波导的光耦合区域，所述光耦合区域的特征在于具有至少一个耦合长度，并且包括第一偏压部分，调制部分和第二偏置部分， 第一偏置部分，调制部分和第二偏置部分; d）用于偏置第一偏压部分的第一偏置电极; e）用于向调制部分施加调制电压的调制电极，调制电极被定位成控制第一光波导的折射率; 以及f）用于偏置第二偏压部分的第二偏置电极。