公开(公告)号：US20030091941A1

公开(公告)日：2003-05-15

申请号：US10164425

申请日：2002-06-10

申请人： MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

发明人： Shinji Kishimura ,  Akiko Katsuyama ,  Masaru Sasago

IPC分类号： G03F007/00

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/146

摘要： A resist film is formed by applying, on a semiconductor substrate, a resist material including at least one atom or group selected from the group consisting of a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkoxy group, an amino group, an alkyl group, a trifluoromethyl group and a mercapto group. The resist film is irradiated with exposing light of a wavelength of a 1 nm through 180 nm band for pattern exposure, and the resist film is developed after the pattern exposure, so as to form a resist pattern.

摘要翻译： 通过在半导体衬底上施加包含至少一个选自卤原子，氰基，硝基，烷氧基，氨基， 烷基，三氟甲基和巯基。 用曝光的1nm〜180nm的波长的光照射抗蚀剂膜，进行图案曝光，在图案曝光后使抗蚀剂膜显影，形成抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US20030087184A1

公开(公告)日：2003-05-08

申请号：US10235945

申请日：2002-09-06

申请人： MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

发明人： Shinji Kishimura ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Mitsuru Ueda ,  Tsuyohiko Fujigaya

IPC分类号： G03F007/004 ,  G03F007/00

CPC分类号： C09D145/00 ,  C08F8/00 ,  C08F212/14 ,  C08F228/02 ,  C08F232/04 ,  C08F2800/10 ,  C08F2800/20 ,  C08K5/42 ,  C08L2203/206 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  C08L41/00

摘要： A pattern formation material of this invention contains a base polymer including a first unit represented by Chemical Formula 1 and a second unit represented by Chemical Formula 2, and an acid generator: 1 wherein R1 and R2 are the same or different and selected from the group consisting of a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, an alkyl group and an alkyl group including a fluorine atom; R3 is a protecting group released by an acid; m is an integer of 0 through 5; and a and b satisfy 0

摘要翻译： 本发明的图案形成材料含有包含由化学式1表示的第一单元和由化学式2表示的第二单元的基础聚合物和酸产生剂：其中R1和R2相同或不同，并且选自 的氢原子，氯原子，氟原子，烷基和含有氟原子的烷基; R3是由酸释放的保护基; m为0〜5的整数。 a和b满足0

公开(公告)号：US20030091930A1

公开(公告)日：2003-05-15

申请号：US10241758

申请日：2002-09-12

申请人： MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

发明人： Shinji Kishimura ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Mitsuru Ueda ,  Tsuyohiko Fujigaya

IPC分类号： G03F007/038

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A pattern formation material of this invention contains a base polymer including a unit represented by Chemical Formula 1 and an acid generator: 1 wherein R1 is a protecting group released by an acid.

摘要翻译： 本发明的图案形成材料含有包含由化学式1表示的单元和酸产生剂的基础聚合物：其中R1是被酸释放的保护基。