公开(公告)号：US06388402B1

公开(公告)日：2002-05-14

申请号：US09414462

申请日：1999-10-07

申请人： Marteijn De Jong ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Jacobus H. T. Jamar

发明人： Marteijn De Jong ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Jacobus H. T. Jamar

IPC分类号： G09G128

CPC分类号： H01J29/701 ,  H01J2229/5682

摘要： Color picture display device comprising a cathode ray tube and a deflection unit. The picture display device comprises compensation means for compensating picture errors. The compensation means is arranged on a side of a deflection unit facing the display screen and comprises four magnet systems which are arranged fourfold symmetrically with respect to the tube axis and extend through an angle &agr; ranging between 24 and 34 degrees or between 40 and 48 degrees.

摘要翻译： 彩色图像显示装置，包括阴极射线管和偏转单元。 图像显示装置包括用于补偿图像误差的补偿装置。 补偿装置布置在面向显示屏的偏转单元的一侧，并且包括相对于管轴对称布置四倍的四个磁体系统，并延​​伸通过在24度至34度之间或在40度与48度之间的角度α 。

公开(公告)号：US20080187845A1

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：US11701517

申请日：2007-02-02

申请人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Ewoud Vreugdenhil

发明人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Ewoud Vreugdenhil

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/405 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： A method of providing a pattern on a substrate is disclosed. The method includes providing a layer of photoresist on the substrate, providing a layer of top coating over the layer of photoresist, lithographically exposing the photoresist layer and developing the photoresist to form a structure, covering the structure with a coating layer, inducing a chemical reaction between the photoresist and the coating layer, which reaction does not occur in the top coating, to form regions of modified coating layer, and removing unmodified coating layer to leave behind a patterned structure formed from the regions of modified coating layer.

摘要翻译： 公开了一种在衬底上提供图案的方法。 该方法包括在衬底上提供一层光致抗蚀剂，在光致抗蚀剂层上提供顶层涂层，光刻曝光光致抗蚀剂层并显影光致抗蚀剂以形成结构，用涂层覆盖该结构，引起化学反应 在光致抗蚀剂和涂层之间，在顶涂层中不发生该反应，以形成改性涂层的区域，并除去未改性的涂层以留下由改性涂层的区域形成的图案化结构。

公开(公告)号：US20070187358A1

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：US11435296

申请日：2006-05-17

申请人： Richard Johannes Van Haren ,  Maurits Schaar ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Harry Sewell

发明人： Richard Johannes Van Haren ,  Maurits Schaar ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Harry Sewell

IPC分类号： C23F1/00 ,  G06F19/00 ,  B44C1/22 ,  G01L21/30

CPC分类号： H01L21/76816 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/31144

摘要： A method of forming features, e.g. contact holes, at a higher density than is possible with conventional lithographic techniques involves forming an array of sacrificial positive features, conformally depositing a sacrificial layer so that negative features are formed interleaved with the positive features, directionally etching the sacrificial layer and removing the sacrificial features. The result is an array of holes at a higher density than the original sacrificial features. These may then be transferred into the underlying substrate using a desired process. Also, the method may be repeated to create arrays at even higher densities.

摘要翻译： 形成特征的方法，例如 以比常规光刻技术更高的密度接触孔包括形成牺牲性特征阵列，从而保形地沉积牺牲层，使得负特征与正特征交错形成，定向蚀刻牺牲层并去除牺牲特征 。 结果是以比原始牺牲特征更高的密度的孔阵列。 然后可以使用所需的方法将这些物质转移到下面的基底中。 此外，可以重复该方法以以更高的密度创建阵列。

公开(公告)号：US08017310B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US11701517

申请日：2007-02-02

申请人： Richard Franciscus Johannes Van Haren ,  Ewoud Vreugdenhil

发明人： Richard Franciscus Johannes Van Haren ,  Ewoud Vreugdenhil

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F7/405 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： A method of providing a pattern on a substrate is disclosed. The method includes providing a layer of photoresist on the substrate, providing a layer of top coating over the layer of photoresist, lithographically exposing the photoresist layer and developing the photoresist to form a structure, covering the structure with a coating layer, inducing a chemical reaction between the photoresist and the coating layer, which reaction does not occur in the top coating, to form regions of modified coating layer, and removing unmodified coating layer to leave behind a patterned structure formed from the regions of modified coating layer.

摘要翻译： 公开了一种在衬底上提供图案的方法。 该方法包括在衬底上提供一层光致抗蚀剂，在光致抗蚀剂层上提供顶层涂层，光刻曝光光致抗蚀剂层并显影光致抗蚀剂以形成结构，用涂层覆盖该结构，引起化学反应 在光致抗蚀剂和涂层之间，在顶涂层中不发生该反应，以形成改性涂层的区域，并除去未改性的涂层以留下由改性涂层的区域形成的图案化结构。

公开(公告)号：US07897058B2

公开(公告)日：2011-03-01

申请号：US11435296

申请日：2006-05-17

申请人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Maurits Van Der Schaar ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Harry Sewell

发明人： Richard Johannes Franciscus Van Haren ,  Maurits Van Der Schaar ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Harry Sewell

IPC分类号： C23F1/00 ,  G06F19/00 ,  B44C1/22 ,  G01L21/30

CPC分类号： H01L21/76816 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/31144

摘要： A method of forming features, e.g. contact holes, at a higher density than is possible with conventional lithographic techniques involves forming an array of sacrificial positive features, conformally depositing a sacrificial layer so that negative features are formed interleaved with the positive features, directionally etching the sacrificial layer and removing the sacrificial features. The result is an array of holes at a higher density than the original sacrificial features. These may then be transferred into the underlying substrate using a desired process. Also, the method may be repeated to create arrays at even higher densities.

摘要翻译： 形成特征的方法，例如 以比常规光刻技术更高的密度接触孔包括形成牺牲性特征阵列，从而保形地沉积牺牲层，使得负特征与正特征交错形成，定向蚀刻牺牲层并去除牺牲特征 。 结果是以比原始牺牲特征更高的密度的孔阵列。 然后可以使用所需的方法将这些物质转移到下面的基底中。 此外，可以重复该方法以以更高的密度创建阵列。

公开(公告)号：US4771243A

公开(公告)日：1988-09-13

申请号：US891849

申请日：1986-08-01

申请人： Ewoud Vreugdenhil ,  Franciscus F. Van Der Vlugt

发明人： Ewoud Vreugdenhil ,  Franciscus F. Van Der Vlugt

IPC分类号： G01R33/3875 ,  A61B5/055 ,  A61B10/00 ,  G01R33/20 ,  G01R33/38 ,  G01R33/387 ,  G01R33/3873 ,  H01F7/20

CPC分类号： G01R33/3873

摘要： In a magnetic resonance imaging apparatus having a comparatively large measurement region, such as used for medical diagnosis, high-order contributions to the magnetic field are compensated for by the addition of pairs of rings made of a soft-magnetic material, so that the homogeneity of the magnetic field is locally increased to a high degree. This makes possible to use a substantially shorter coil while the field homogeneity in the measurement zone is still improved.

摘要翻译： 在用于医疗诊断的比较大的测量区域的磁共振成像设备中，通过添加由软磁性材料制成的环对来补偿对磁场的高阶贡献，使得均匀性 的磁场局部增加到很高程度。 这使得可以使用基本上较短的线圈，同时测量区域中的场均匀性仍得到改善。

公开(公告)号：US07889316B2

公开(公告)日：2011-02-15

申请号：US11433766

申请日：2006-05-15

申请人： Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Simon De Groot ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Johannes Wilhelmus De Klerk

发明人： Wilhelmus Petrus De Boeij ,  Simon De Groot ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Johannes Wilhelmus De Klerk

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/34 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70433

摘要： A multiple-die mask pattern is arranged with dies having the same pattern in mutually opposite orientations. The method for arranging the dies includes analyzing the pattern of a single die to identify a pattern characteristic property which is non uniformly distributed over the area of the die. If the distribution is found to be asymmetric, a line separating the die area into two half-die areas is defined with respect to which the asymmetry is apparent. Half-die areas of different dies with the same pattern characteristic property are grouped together in the mask pattern. The resulting enhanced symmetry of the distribution of the pattern characteristic property over the mask area increases lithographic processability and thereby improves die yield.

摘要翻译： 多模掩模图案布置成具有相同取向相同图案的模具。 用于布置模具的方法包括分析单个模具的图案以识别不均匀分布在模具区域上的图案特性。 如果发现分布是不对称的，则将裸片区域分成两个半裸片区域的线被定义为不对称性是显而易见的。 具有相同图案特性的不同模具的半裸片区域在掩模图案中分组在一起。 所得到的掩模区域上的图案特性分布分布的增强的对称增加了光刻加工性能，从而提高了模头产量。

公开(公告)号：US07507976B2

公开(公告)日：2009-03-24

申请号：US11443451

申请日：2006-05-31

申请人： Hako Botma ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Joe Sakai

发明人： Hako Botma ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Joe Sakai

IPC分类号： G02B5/04

CPC分类号： G03F7/70941 ,  G02B5/04 ,  G02B5/3066 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70566

摘要： A beam directing element configured to receive a substantially collimated input beam of predetermined wavelength propagating in a first direction and to output a substantially collimated output beam in a second direction includes a prism formed of a transparent material and having input and output faces, wherein the internal angle between the input face and the output face is such that when the input beam is incident on the input face substantially at Brewster's angle, it is internally incident on the output face at Brewster's angle. The beam directing element is useful in lithography, for example in beam delivery systems.

摘要翻译： 射束引导元件，被配置为接收在第一方向上传播的预定波长的基本上准直的输入光束并且沿第二方向输出基本准直的输出光束，包括由透明材料形成并具有输入和输出面的棱镜，其中内部 输入面和输出面之间的角度使得当输入光束以布鲁斯特角度入射在输入面上时，其以布鲁斯特角内部入射在输出面上。 光束引导元件在光刻中是有用的，例如在光束传送系统中。

公开(公告)号：US20080067424A1

公开(公告)日：2008-03-20

申请号：US11443451

申请日：2006-05-31

申请人： Hako Botma ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Joe Sakai

发明人： Hako Botma ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Joe Sakai

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70941 ,  G02B5/04 ,  G02B5/3066 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70566

摘要： A beam directing element configured to receive a substantially collimated input beam of predetermined wavelength propagating in a first direction and to output a substantially collimated output beam in a second direction includes a prism formed of a transparent material and having input and output faces, wherein the internal angle between the input face and the output face is such that when the input beam is incident on the input face substantially at Brewster's angle, it is internally incident on the output face at Brewster's angle. The beam directing element is useful in lithography, for example in beam delivery systems.

摘要翻译： 射束引导元件，被配置为接收在第一方向上传播的预定波长的基本上准直的输入光束并且沿第二方向输出基本准直的输出光束，包括由透明材料形成并具有输入和输出面的棱镜，其中内部 输入面和输出面之间的角度使得当输入光束以布鲁斯特角度入射在输入面上时，其以布鲁斯特角内部入射在输出面上。 光束引导元件在光刻中是有用的，例如在光束传送系统中。

公开(公告)号：US20070263190A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：US11433766

申请日：2006-05-15

申请人： Wilhelmus De Boeij ,  Simon De Groot ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Johannes De Klerk

发明人： Wilhelmus De Boeij ,  Simon De Groot ,  Ewoud Vreugdenhil ,  Johannes De Klerk

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/34 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70433

摘要： A multiple-die mask pattern is arranged with dies having the same pattern in mutually opposite orientations. The method for arranging the dies includes analyzing the pattern of a single die to identify a pattern characteristic property which is non uniformly distributed over the area of the die. If the distribution is found to be asymmetric, a line separating the die area into two half-die areas is defined with respect to which the asymmetry is apparent. Half-die areas of different dies with the same pattern characteristic property are grouped together in the mask pattern. The resulting enhanced symmetry of the distribution of the pattern characteristic property over the mask area increases lithographic processability and thereby improves die yield.

摘要翻译： 多模掩模图案布置成具有相同取向相同图案的模具。 用于布置模具的方法包括分析单个模具的图案以识别不均匀分布在模具区域上的图案特性。 如果发现分布是不对称的，则将裸片区域分成两个半裸片区域的线被定义为不对称性是显而易见的。 具有相同图案特性的不同模具的半裸片区域在掩模图案中分组在一起。 所得到的掩模区域上的图案特性分布分布的增强的对称增加了光刻加工性能，从而提高了模头产量。