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1.发明申请METHOD AND SYSTEM FOR TONE INVERTING OF RESIDUAL LAYER TOLERANT IMPRINT LITHOGRAPHY 有权用于静止层容忍印刷图像的音调的方法和系统公开(公告)号：US20100230048A1
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：US12787429
申请日：2010-05-26
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A system for imprint lithography, which includes a substrate, a patterned mask, an imprint applying unit that imprints, via the patterned mask, a pattern into a resist layer on the substrate, and an overlay device that overlays a cladding layer over the substrate.
摘要翻译： 一种用于压印光刻的系统，其包括衬底，图案化掩模，压印施加单元，其通过图案化掩模将图案压印到衬底上的抗蚀剂层中，以及覆盖器件，覆盖衬底上的覆层。
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2.发明授权Method and system for tone inverting of residual layer tolerant imprint lithography 失效残余层容忍压印光刻的色调反转方法和系统公开(公告)号：US07776628B2
公开(公告)日：2010-08-17
申请号：US11600140
申请日：2006-11-16
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A method (and apparatus) of imprint lithography, includes imprinting, via a patterned mask, a pattern into a resist layer on a substrate, and overlaying a cladding layer over the imprinted resist layer. A portion of the cladding layer is used as a hard mask for a subsequent processing.
摘要翻译： 压印光刻的方法（和装置）包括通过图案化掩模将图案压印到衬底上的抗蚀剂层中，并在覆盖的抗蚀剂层上覆盖覆层。 包覆层的一部分用作后续处理的硬掩模。
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3.发明申请IMPRINT REFERENCE TEMPLATE FOR MULTILAYER OR MULTIPATTERN REGISTRATION AND METHOD THEREFOR 审中-公开用于多层或多层注册的引用参考模板及其方法公开(公告)号：US20080180646A1
公开(公告)日：2008-07-31
申请号：US12061904
申请日：2008-04-03
申请人： Matthew E. Colburn , Yves C. Martin , Charles T. Rettner , Theodore G. van Kessel , Hematha K. Wickramasinghe
发明人： Matthew E. Colburn , Yves C. Martin , Charles T. Rettner , Theodore G. van Kessel , Hematha K. Wickramasinghe
CPC分类号： G03F7/0002 , B01D2239/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7011 , G03F9/7019
摘要： A method (and resultant structure) of forming a plurality of masks, includes creating a reference template, using imprint lithography to print at least one reference template alignment mark on all of a plurality of mask blanks for a given chip set, and printing sub-patterns on each of the plurality of mask blanks, and aligning the sub-patterns to the at least one reference template alignment mark.
摘要翻译： 一种形成多个掩模的方法（和结果）包括使用压印光刻法创建参考模板以在给定芯片组的所有多个掩模坯料上打印至少一个参考模板对准标记， 所述多个掩模坯料中的每一个上的图案，以及将所述子图案对准所述至少一个参考模板对准标记。
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公开(公告)号：US20080116602A1
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：US11924651
申请日：2007-10-26
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A method (and apparatus) of replicating a pattern on a structure, includes using imprint lithography to replicate a pattern formed on a first structure onto a portion of a second structure.
摘要翻译： 在结构上复制图案的方法（和装置）包括使用压印光刻将形成在第一结构上的图案复制到第二结构的一部分上。
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5.发明申请PNEUMATIC METHOD AND APPARATUS FOR NANO IMPRINT LITHOGRAPHY HAVING A CONFORMING MASK 审中-公开用于具有一致性掩模的纳米印刷平版印刷术的气动方法和装置公开(公告)号：US20120321740A1
公开(公告)日：2012-12-20
申请号：US13599694
申请日：2012-08-30
CPC分类号： B29C43/021 , B29C43/003 , B29C43/3642 , B29C2043/025 , B29C2043/3647 , B29C2043/3649 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/0273
摘要： An apparatus for nano lithography includes a mask having a pattern formed thereon and a pneumatic pressure driving source for applying a pneumatic pressure to at least one of a surface of the mask and a surface of a workpiece, thereby to uniformly transfer the pattern from the mask to the workpiece.
摘要翻译： 纳米光刻装置包括具有形成在其上的图案的掩模和用于向掩模的表面和工件的表面中的至少一个施加气动压力的气动压力驱动源，从而均匀地将图案从掩模 到工件。
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6.发明授权Method and system for tone inverting of residual layer tolerant imprint lithography 有权残余层容忍压印光刻的色调反转方法和系统公开(公告)号：US08137997B2
公开(公告)日：2012-03-20
申请号：US12787429
申请日：2010-05-26
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A system for imprint lithography, which includes a substrate, a patterned mask, an imprint applying unit that imprints, via the patterned mask, a pattern into a resist layer on the substrate, and an overlay device that overlays a cladding layer over the substrate.
摘要翻译： 一种用于压印光刻的系统，其包括衬底，图案化掩模，压印施加单元，其通过图案化掩模将图案压印到衬底上的抗蚀剂层中，以及覆盖器件，覆盖衬底上的覆层。
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7.发明申请METHOD AND SYSTEM FOR NANOSTRUCTURE PLACEMENT USING IMPRINT LITHOGRAPHY 审中-公开使用IMPRINT LITHOGRAPHY的纳米结构放置方法和系统公开(公告)号：US20080131705A1
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：US11565952
申请日：2006-12-01
CPC分类号： G03F7/0002 , B32B38/06 , B32B38/145 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10T428/31504
摘要： A method (and system) of nanostructure placement using imprint lithography, includes applying a mixture containing an additive exhibiting predetermined properties, to a substrate, bringing one of the substrate and a template containing a relief structure into contact with the other of the substrate and the template containing the relief structure, transferring the relief structure of the template into the patternable material, one of curing and fixing the patternable material, and removing the template, thereby leaving a negative of the relief structure of the template.
摘要翻译： 使用压印光刻的纳米结构放置的方法（和系统）包括将含有表现出预定特性的添加剂的混合物施加到基底上，使基底和含有浮雕结构的模板中的一个与基底中的另一个接触， 包含浮雕结构的模板，将模板的浮雕结构转移到可图案材料中，固化和固定可图案材料之一，以及去除模板，从而留下模板的浮雕结构的负片。
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公开(公告)号：US07776709B2
公开(公告)日：2010-08-17
申请号：US11924651
申请日：2007-10-26
IPC分类号： H01L21/76
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A method (and apparatus) of replicating a pattern on a structure, includes using imprint lithography to replicate a pattern formed on a first structure onto a portion of a second structure.
摘要翻译： 在结构上复制图案的方法（和装置）包括使用压印光刻将形成在第一结构上的图案复制到第二结构的一部分上。
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9.发明授权Method and system for tone inverting of residual layer tolerant imprint lithography 有权残余层容忍压印光刻的色调反转方法和系统公开(公告)号：US08137996B2
公开(公告)日：2012-03-20
申请号：US12787417
申请日：2010-05-26
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： A method (and apparatus) of imprint lithography, includes imprinting, via a patterned mask, a pattern into a resist layer on a substrate, and overlaying a cladding layer over the imprinted resist layer. A portion of the cladding layer is used as a hard mask for a subsequent processing.
摘要翻译： 压印光刻的方法（和装置）包括通过图案化掩模将图案压印到衬底上的抗蚀剂层中，并在覆盖的抗蚀剂层上覆盖覆层。 包覆层的一部分用作后续处理的硬掩模。
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10.发明授权Method and apparatus for direct referencing of top surface of workpiece during imprint lithography 有权用于在压印光刻期间直接参考工件顶面的方法和装置公开(公告)号：US07883832B2
公开(公告)日：2011-02-08
申请号：US11028798
申请日：2005-01-04
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C33/20 , B29C33/30 , B29C33/303 , B29C43/021 , B29C2043/025 , B29C2043/5841 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/00 , G03F9/703 , G03F9/7042 , G03F9/7053
摘要： An apparatus (and method) for referencing a surface of a workpiece during imprint lithography, includes an air bearing for mechanically referencing a surface of the workpiece, and a lithographic template coupled to the air bearing.
摘要翻译： 在压印光刻期间用于参考工件表面的装置（和方法）包括用于机械地参考工件的表面的空气轴承和耦合到空气轴承的光刻模板。
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