公开(公告)号：US20080011987A1

公开(公告)日：2008-01-17

申请号：US11665746

申请日：2005-10-11

申请人： Hiroki Arao ,  Miki Egami ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

发明人： Hiroki Arao ,  Miki Egami ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

IPC分类号： H01B3/20 ,  C04B41/50

CPC分类号： H01L21/02216 ,  C08L83/08 ,  C09C1/30 ,  C09C1/3081 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1295 ,  C23C18/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/316 ,  C08L2666/02

摘要： Disclosed is a coating liquid for forming an amorphous silica-based coating film having a low dielectric constant of 3.0 or below and low leakage current, and a method for preparing the coating liquid. The coating liquid is a liquid composition comprising (a) silicon compound obtained by hydrolyzing tetraalkyl orthosilicate (TAOS) and alkoxysilane (AS) in the presence of tetraalkyl ammonium hydroxide (TAAOH) and water, or a silicon compound obtained by hydrolyzing or partially hydrolyzing tetraalkyl orthosilicate (TAOS) in the presence of tetraalkyl ammonium hydroxide (TAAOH) and water, mixing the hydrolyzed or partially hydrolyzed product with alkoxysilane (AS) or a hydrolyzed or partially hydrolyzed product thereof, and hydrolyzing all or a portion of the mixture, (b) an organic solvent, and (c) water. The coating liquid is characterized in that a quantity of water contained in the liquid composition is in the range from 30 to 60% by weight.

摘要翻译： 公开了一种形成低介电常数为3.0以下，低漏电流的无定形二氧化硅系涂膜的涂布液及其制备方法。 涂布液是一种液体组合物，其包含（a）在四烷基氢氧化铵（TAAOH）和水的存在下水解四烷基原硅酸酯（TAOS）和烷氧基硅烷（AS）而获得的硅化合物，或通过水解或部分水解四烷基 在四烷基氢氧化铵（TAAOH）和水的存在下，将水解或部分水解的产物与烷氧基硅烷（AS）或其水解或部分水解产物混合，并水解所有或部分混合物，（b） ）有机溶剂，和（c）水。 涂布液的特征在于，液体组合物中所含的水的量为30〜60重量％。

公开(公告)号：US08686101B2

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：US12086745

申请日：2006-12-15

申请人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

发明人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

IPC分类号： C08G77/08

CPC分类号： H01L21/316 ,  C01B33/12 ,  C08G77/50 ,  C09D183/14 ,  H01B3/08 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

摘要： A coating liquid for forming a low dielectric constant amorphous silica-based coating film with a dielectric constant of 3.0 or below and a film strength (Young's modulus) of 3.0 GPa or more, and also having a smooth surface with an excellent hydrophobicity. The coating liquid contains (1) a silicon compound obtained by hydrolyzing bis(trialkoxysilyl)alkane (BTASA) and alkoxysilane (AS) in the presence of tetraalkylammoniumhydroxide (TAAOH), or (2) a silicon compound obtained by hydrolyzing bis(trialkoxysilyl)alkane (BTASA), alkoxysilane (AS) and tetraalkylorthosilicate (TAOS) in the presence of tetraalkylammoniumhydroxide (TAAOH).

摘要翻译： 一种用于形成介电常数为3.0以下，膜强度（杨氏模量）为3.0GPa以上的低介电常数无定形二氧化硅系涂膜的涂布液，并且还具有疏水性优异的光滑表面。 涂布液含有（1）在四烷基氢氧化铵（TAAOH）存在下水解双（三烷氧基甲硅烷基）烷烃（BTASA）和烷氧基硅烷（AS））得到的硅化合物，或（2）通过水解双（三烷氧基甲硅烷基）烷烃获得的硅化合物 （BTASA），烷氧基硅烷（AS）和四烷基原硅酸盐（TAOS）在四烷基氢氧化铵（TAAOH）存在下。

公开(公告)号：US07998567B2

公开(公告)日：2011-08-16

申请号：US11665747

申请日：2005-10-11

申请人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

发明人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

IPC分类号： B32B3/26

CPC分类号： H01L21/02126 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02351 ,  H01L21/3121 ,  Y10T428/249953

摘要： Disclosed is a coating liquid for forming a protective film having high film strength and a low specific dielectric constant for semiconductor processing, and a method for preparing the coating liquid. The coating liquid is a liquid composition comprising (a) silicon compound obtained by hydrolyzing tetraalkyl orthosilicate (TAOS) and alkoxysilane (AS) in the presence of tetraalkyl ammonium hydroxide (TAAOH) and water, or a silicon compound obtained by hydrolyzing or partially hydrolyzing tetraalkyl orthosilicate (TAOS) in the presence of tetraalkyl ammonium hydroxide (TAAOH) and water, mixing the hydrolyzed or partially hydrolyzed product with alkoxysilane (AS) or a hydrolyzed or partially hydrolyzed product thereof, and hydrolyzing all or a portion of the mixture, (b) an organic solvent, and (c) water. The coating liquid is characterized in that a quantity of water contained in the liquid composition is in the range from 35 to 65% by weight.

摘要翻译： 公开了一种用于形成用于半导体加工的具有高膜强度和低比介电常数的保护膜的涂布液，以及一种制备涂布液的方法。 涂布液是一种液体组合物，其包含（a）在四烷基氢氧化铵（TAAOH）和水的存在下水解四烷基原硅酸酯（TAOS）和烷氧基硅烷（AS）而获得的硅化合物，或通过水解或部分水解四烷基 在四烷基氢氧化铵（TAAOH）和水的存在下，将水解或部分水解的产物与烷氧基硅烷（AS）或其水解或部分水解产物混合，并水解所有或部分混合物，（b） ）有机溶剂，和（c）水。 涂布液的特征在于，液体组合物中含有的水的量在35至65重量％的范围内。

公开(公告)号：US20090061199A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：US11665747

申请日：2005-10-11

申请人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

发明人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

IPC分类号： B32B3/26 ,  C09D7/12

CPC分类号： H01L21/02126 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02351 ,  H01L21/3121 ,  Y10T428/249953

摘要： Disclosed is a coating liquid for forming a protective film having high film strength and a low specific dielectric constant for semiconductor processing, and a method for preparing the coating liquid. The coating liquid is a liquid composition comprising (a) silicon compound obtained by hydrolyzing tetraalkyl orthosilicate (TAOS) and alkoxysilane (AS) in the presence of tetraalkyl ammonium hydroxide (TAAOH) and water, or a silicon compound obtained by hydrolyzing or partially hydrolyzing tetraalkyl orthosilicate (TAOS) in the presence of tetraalkyl ammonium hydroxide (TAAOH) and water, mixing the hydrolyzed or partially hydrolyzed product with alkoxysilane (AS) or a hydrolyzed or partially hydrolyzed product thereof, and hydrolyzing all or a portion of the mixture, (b) an organic solvent, and (c) water. The coating liquid is characterized in that a quantity of water contained in the liquid composition is in the range from 35 to 65% by weight.

摘要翻译： 公开了一种用于形成用于半导体加工的具有高膜强度和低比介电常数的保护膜的涂布液，以及一种制备涂布液的方法。 涂布液是一种液体组合物，其包含（a）在四烷基氢氧化铵（TAAOH）和水的存在下水解四烷基原硅酸酯（TAOS）和烷氧基硅烷（AS）而获得的硅化合物，或通过水解或部分水解四烷基 在四烷基氢氧化铵（TAAOH）和水的存在下，将水解或部分水解的产物与烷氧基硅烷（AS）或其水解或部分水解产物混合，并水解所有或部分混合物，（b） ）有机溶剂，和（c）水。 涂布液的特征在于，液体组合物中含有的水的量在35至65重量％的范围内。

公开(公告)号：US20090025609A1

公开(公告)日：2009-01-29

申请号：US12086745

申请日：2006-12-15

申请人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

发明人： Miki Egami ,  Hiroki Arao ,  Akira Nakashima ,  Michio Komatsu

IPC分类号： C09D7/12 ,  C07F7/18

CPC分类号： H01L21/316 ,  C01B33/12 ,  C08G77/50 ,  C09D183/14 ,  H01B3/08 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122

摘要： A coating liquid for forming a low dielectric constant amorphous silica-based coating film with a dielectric constant of 3.0 or below and a film strength (Young's modulus) of 3.0 GPa or more, and also having a smooth surface with an excellent hydrophobicity. The coating liquid contains (1) a silicon compound obtained by hydrolyzing bis(trialcoxysilyl)alkane (BTASA) and alcoxysilane (AS) in the presence of tetraalkylammoniumhydroxide (TAAOH), or (2) a silicon compound obtained by hydrolyzing bis(trialcoxysilyl)alkane (BTASA), alcoxysilane (AS) and tetraalkylorthosilicate (TAOS) in the presence of tetraalkylammoniumhydroxide (TAAOH).

摘要翻译： 一种用于形成介电常数为3.0以下，膜强度（杨氏模量）为3.0GPa以上的低介电常数无定形二氧化硅系涂膜的涂布液，并且还具有疏水性优异的光滑表面。 涂布液含有（1）在四烷基氢氧化铵（TAAOH）存在下水解双（试剂 - 甲硅烷基）烷烃（BTASA）和烷氧基硅烷（AS））得到的硅化合物，或（2）通过水解双（试剂 - 甲硅烷基）烷烃获得的硅化合物 （BTASA），烷氧基硅烷（AS）和四烷基原硅酸盐（TAOS）在四烷基氢氧化铵（TAAOH）存在下。

公开(公告)号：US5800797A

公开(公告)日：1998-09-01

申请号：US652586

申请日：1996-06-07

申请人： Hiroshi Matsumoto ,  Hiroki Arao ,  Morio Fukuda

发明人： Hiroshi Matsumoto ,  Hiroki Arao ,  Morio Fukuda

IPC分类号： B01J20/08 ,  B01J21/04 ,  C01F7/14 ,  C01F7/34 ,  C04B35/111 ,  C04B35/626 ,  C04B38/00 ,  C01F7/02 ,  B01J8/00

CPC分类号： B01J21/04 ,  B01J20/08 ,  C01F7/141 ,  C01F7/34 ,  C04B35/111 ,  C04B35/626 ,  C04B38/00 ,  C04B38/0022 ,  C01P2004/61 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/16

摘要： In the present invention, alumina is produced by a process comprising leading a starting aqueous slurry containing a seed alumina hydrate to a circulating system, the aqueous slurry being circulated and returned to the starting aqueous slurry, wherein an aqueous solution of an aluminum salt and an aqueous solution of a neutralizer are added to the aqueous slurry being circulated and mixed together at a pH value of 6 to 11 to thereby cause the aqueous slurry to contain formed alumina hydrate prior to the return to the starting aqueous slurry. The production of alumina is performed in an apparatus comprising a vessel equipped with an agitator for accommodating an aqueous slurry therein and a circulating device capable of leading the aqueous slurry outside the vessel and causing the aqueous slurry to circulate and return into the vessel, the above circulating device being provided at its aqueous slurry flowback zone with a first liquid addition device adapted to add an aqueous solution of an aluminum salt to the aqueous slurry being circulated and with a second liquid addition device adapted to add an aqueous solution of a neutralizer to the aqueous slurry being circulated, which apparatus further comprises a mixer adapted to mix together the aqueous slurry being circulated, the aqueous solution of the aluminum salt and the aqueous solution of the neutralizer.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP94 / 02065 Sec。 371日期1996年6月7日第 102（e）日期1996年6月7日PCT 1994年12月8日PCT PCT。 第WO95 / 15920BC号公报 日期：1995年6月15日在本发明中，通过包括将含有种子氧化铝水合物的起始含水浆料引导到循环系统的方法制备氧化铝，所述含水浆料循环并返回到起始水性浆液中，其中将 将铝盐和中和剂水溶液加入到水性浆料中，在pH值为6至11的条件下循环混合，从而使水性浆料在返回到起始水性浆料之前含有形成的水合氧化铝。 氧化铝的生产在包括装有用于容纳水性浆料的搅拌器的容器的设备中进行，以及能够使含水浆料引导到容器外部并使含水浆料循环并返回容器的循环装置，上述 循环装置在其含水浆料回流区中设置有第一液体添加装置，该第一液体添加装置适于将铝盐的水溶液添加到正在循环的水性浆液中，并且具有适于将中和剂的水溶液添加到第二液体添加装置的第二液体添加装置 水性浆料循环，该装置还包括适于将正在循环的水性浆料，铝盐水溶液和中和剂的水溶液混合在一起的混合器。