公开(公告)号：US08845807B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US12972327

申请日：2010-12-17

申请人： Min-Gyu Seo ,  Sang-Jin Han ,  Cheol-Lae Roh ,  Jae-Hong Ahn

发明人： Min-Gyu Seo ,  Sang-Jin Han ,  Cheol-Lae Roh ,  Jae-Hong Ahn

IPC分类号： C23C14/26 ,  C23C16/448 ,  C23C14/24

CPC分类号： C23C16/4485 ,  C23C14/243 ,  C23C14/26

摘要： A linear evaporation source and a deposition apparatus having the same are disclosed. In one embodiment, the linear evaporation source includes i) a crucible being open on one side thereof and configured to store a deposition material and ii) a plurality of partitions dividing an internal space of the crucible, wherein each of the partitions has at least one opening in a lower portion thereof. The source further includes i) a nozzle section located on the open side of the crucible and comprising a plurality of nozzles, ii) a heater configured to heat the crucible and iii) a housing configured to accommodate to the crucible, the nozzle section, and the heater.

摘要翻译： 公开了一种线性蒸发源及其沉积装置。 在一个实施例中，线性蒸发源包括i）坩埚在其一侧开口并被构造成存储沉积材料，以及ii）分隔坩埚内部空间的多个隔板，其中每个隔板具有至少一个 在其下部开口。 该源还包括i）位于坩埚的开放侧上并包括多个喷嘴的喷嘴部分，ii）被配置为加热坩埚的加热器，以及iii）构造成容纳坩埚，喷嘴部分和 加热器。

公开(公告)号：US20110146579A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US12972327

申请日：2010-12-17

申请人： Min-Gyu Seo ,  Sang-Jin Han ,  Cheol-Lae Roh ,  Jae-Hong Ahn

发明人： Min-Gyu Seo ,  Sang-Jin Han ,  Cheol-Lae Roh ,  Jae-Hong Ahn

IPC分类号： C23C16/448

CPC分类号： C23C16/4485 ,  C23C14/243 ,  C23C14/26

摘要： A linear evaporation source and a deposition apparatus having the same are disclosed. In one embodiment ,the linear evaporation source includes i) a crucible being open on one side thereof and configured to store a deposition material and ii) a plurality of partitions dividing an internal space of the crucible, wherein each of the partitions has at least one opening in a lower portion thereof. The source further includes i) a nozzle section located on the open side of the crucible and comprising a plurality of nozzles, ii) a heater configured to heat the crucible and iii) a housing configured to accommodate to the crucible, the nozzle section, and the heater.

摘要翻译： 公开了一种线性蒸发源及其沉积装置。 在一个实施例中，线性蒸发源包括i）坩埚在其一侧开口并被构造成存储沉积材料，以及ii）分隔坩埚内部空间的多个隔板，其中每个隔板具有至少一个 在其下部开口。 该源还包括i）位于坩埚的开放侧上并包括多个喷嘴的喷嘴部分，ii）被配置为加热坩埚的加热器，以及iii）构造成容纳坩埚，喷嘴部分和 加热器。

公开(公告)号：US20120094025A1

公开(公告)日：2012-04-19

申请号：US13186944

申请日：2011-07-20

申请人： Sun-Ho Kim ,  Cheol-Lae Roh ,  Suk-Won Jung ,  Hyun Choi ,  Min-Gyu Seo

发明人： Sun-Ho Kim ,  Cheol-Lae Roh ,  Suk-Won Jung ,  Hyun Choi ,  Min-Gyu Seo

IPC分类号： B05D5/00 ,  B05C11/00 ,  B05C13/00

CPC分类号： H01L51/56 ,  B05D1/02 ,  B05D1/32 ,  H01J37/32743 ,  H01J37/32788 ,  H01J37/32899 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67225

摘要： A substrate depositing system comprises a substrate loading chamber for receiving a substrate, a substrate unloading chamber for withdrawing the substrate, at least one process chamber disposed between the substrate loading chamber and the substrate unloading chamber for processing the substrate, and a mask keeping chamber connected to one side of the process chamber(s). A substrate depositing method comprises inputting a substrate into a process chamber, transferring a mask to the process chamber from a mask keeping chamber connected to the process chamber, aligning the substrate and the mask, depositing a depositing material on the substrate while moving a deposition source in the process chamber, and withdrawing the substrate from the process chamber.

摘要翻译： 衬底沉积系统包括用于接收衬底的衬底加载室，用于取出衬底的衬底卸载室，设置在衬底加载室和衬底卸载室之间的至少一个处理室，用于处理衬底;以及掩模保持室连接 到处理室的一侧。 衬底沉积方法包括将衬底输入到处理室中，将掩模从连接到处理室的掩模保持室转移到处理室，对准衬底和掩模，在衬底上沉积沉积材料，同时移动沉积源 在处理室中，并从处理室中取出基板。

公开(公告)号：US08802489B2

公开(公告)日：2014-08-12

申请号：US13187369

申请日：2011-07-20

申请人： Seung-Ho Choi ,  Hyun Choi ,  Sung-Gon Kim ,  Min-Gyu Seo

发明人： Seung-Ho Choi ,  Hyun Choi ,  Sung-Gon Kim ,  Min-Gyu Seo

IPC分类号： H01L51/40

CPC分类号： H01L51/0003 ,  B05B1/14 ,  B05B12/36 ,  B05B13/04 ,  H01L51/0004 ,  H01L51/56

摘要： A device for depositing an organic material includes a substrate; a mask having an opening portion and a shield portion; a fixing member for fixing the substrate and the mask to each other; a deposition source comprising a plurality of nozzles arranged in a first direction and configured to spray the organic material; and a plurality of shield plates near the plurality of nozzles on the deposition source. An angle θ between the substrate and a line extended from a distal end of one of the nozzles to a center of a distal end of a corresponding one of the shield plates is greater than or equal to a taper angle Φ of the shield portion of the mask.

摘要翻译： 用于沉积有机材料的装置包括：基板; 具有开口部分和屏蔽部分的掩模; 用于将所述基板和所述掩模彼此固定的固定构件; 沉积源，包括沿第一方向布置并被配置为喷射有机材料的多个喷嘴; 以及在沉积源上的多个喷嘴附近的多个屏蔽板。 角度和角度 在基板与从一个喷嘴的远端延伸到对应的一个屏蔽板的远端的中心的线之间的距离大于或等于掩模的屏蔽部分的锥角Φ。

公开(公告)号：US20120064663A1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：US13187369

申请日：2011-07-20

申请人： Seung-Ho Choi ,  Hyun Choi ,  Sung-Gon Kim ,  Min-Gyu Seo

发明人： Seung-Ho Choi ,  Hyun Choi ,  Sung-Gon Kim ,  Min-Gyu Seo

IPC分类号： H01L21/36 ,  B05B15/04

CPC分类号： H01L51/0003 ,  B05B1/14 ,  B05B12/36 ,  B05B13/04 ,  H01L51/0004 ,  H01L51/56

摘要： A device for depositing an organic material includes a substrate; a mask having an opening portion and a shield portion; a fixing member for fixing the substrate and the mask to each other; a deposition source comprising a plurality of nozzles arranged in a first direction and configured to spray the organic material; and a plurality of shield plates near the plurality of nozzles on the deposition source. An angle θ between the substrate and a line extended from a distal end of one of the nozzles to a center of a distal end of a corresponding one of the shield plates is greater than or equal to a taper angle Φ of the shield portion of the mask.

摘要翻译： 用于沉积有机材料的装置包括：基板; 具有开口部分和屏蔽部分的掩模; 用于将所述基板和所述掩模彼此固定的固定构件; 沉积源，包括沿第一方向布置并被配置为喷射有机材料的多个喷嘴; 以及在沉积源上的多个喷嘴附近的多个屏蔽板。 角度和角度 在基板与从一个喷嘴的远端延伸到对应的一个屏蔽板的远端的中心的线之间的距离大于或等于掩模的屏蔽部分的锥角Φ。