Method of producing a layer structure and the use of the method
    4.
    发明授权
    Method of producing a layer structure and the use of the method 失效
    生产层结构的方法及其使用方法

    公开(公告)号:US5882400A

    公开(公告)日:1999-03-16

    申请号:US646348

    申请日:1996-05-10

    摘要: The invention concerns a method of producing a surface layer structure by doping a matrix with metal ions. The aim of the invention is to provide a method of this kind in which the depth distribution of the metal ions in the substrate can be regulated, thus optimumizing the doping without incurring any of the disadvantages inherent in the prior art methods. This is achieved by first depositing matrix material on a suitable substrate by laser ablation in an atmosphere of oxygen, thus forming a on surface of the substrate a first layer a matrix material. Dopant is then deposited on the surface of the first layer, followed by more matrix material. The result is a uniform doping of the deposited matrix at a defined depth in the surface layer structure.

    摘要翻译: PCT No.PCT / DE94 / 01361 Sec。 371日期:1996年5月10日 102(e)日期1996年5月10日PCT 1994年11月12日PCT PCT。 出版物WO95 / 14250 PCT 日期1995年5月26日本发明涉及通过用金属离子掺杂基质来生产表面层结构的方法。 本发明的目的是提供一种这样的方法,其中可以调节衬底中的金属离子的深度分布,从而使掺杂最佳化,而不会产生现有技术方法中固有的任何缺点。 这是通过首先在氧气氛中通过激光烧蚀将基质材料沉积在合适的衬底上,从而在衬底的表面上形成第一层基质材料来实现的。 然后将掺杂剂沉积在第一层的表面上,随后沉积更多的基体材料。 结果是在表面层结构中在规定的深度处均匀掺杂沉积的基体。