公开(公告)号：US20090292506A1

公开(公告)日：2009-11-26

申请号：US12538066

申请日：2009-08-07

申请人： Paul Douglas MacDonald ,  Michiel V.P. Kruger ,  Michael Welch ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Paul Douglas MacDonald ,  Michiel V.P. Kruger ,  Michael Welch ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： G06F15/00

CPC分类号： G05B23/0235 ,  G05B13/04 ,  G05B13/045

摘要： One aspect of the present invention is a method of monitoring processes, optimizing processes, and diagnosing problems in the performance of a process tool for processing a workpiece. Another aspect of the present invention is a system configured for monitoring processes, optimizing processes, and diagnosing problems in the performance of a process tool for processing a workpiece. One embodiment of the present invention includes a software program that can be implemented in a computer for optimizing the performance of a process tool for processing a workpiece.

摘要翻译： 本发明的一个方面是监视处理工艺，优化处理和诊断处理工具处理工具的执行中的问题的方法。 本发明的另一方面是被配置为用于监视处理，优化处理和诊断用于处理工件的处理工具的执行中的问题的系统。 本发明的一个实施例包括可以在计算机中实现的用于优化用于处理工件的处理工具的性能的软件程序。

公开(公告)号：US07580767B2

公开(公告)日：2009-08-25

申请号：US11179440

申请日：2005-07-11

申请人： Paul Douglas MacDonald ,  Michiel V. P. Krüger ,  Michael Welch ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Paul Douglas MacDonald ,  Michiel V. P. Krüger ,  Michael Welch ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G05B23/0235 ,  G05B13/04 ,  G05B13/045

摘要： One aspect of the present invention is a method of monitoring processes, optimizing processes, and diagnosing problems in the performance of a process tool for processing a workpiece. Another aspect of the present invention is a system configured for monitoring processes, optimizing processes, and diagnosing problems in the performance of a process tool for processing a workpiece. One embodiment of the present invention includes a software program that can be implemented in a computer for optimizing the performance of a process tool for processing a workpiece.

摘要翻译： 本发明的一个方面是监视处理工艺，优化处理和诊断处理工具处理工具的执行中的问题的方法。 本发明的另一方面是被配置为用于监视处理，优化处理和诊断用于处理工件的处理工具的执行中的问题的系统。 本发明的一个实施例包括可以在计算机中实现的用于优化用于处理工件的处理工具的性能的软件程序。

公开(公告)号：US08698037B2

公开(公告)日：2014-04-15

申请号：US13159266

申请日：2011-06-13

申请人： Randall S. Mundt ,  Paul Douglas MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Randall S. Mundt ,  Paul Douglas MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： B23K10/00

CPC分类号： G01N27/60 ,  G01K7/25 ,  G01N33/0004 ,  G01R15/24 ,  G01R29/12 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A sensor apparatus for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus includes a base, an information processor supported on or in the base, and at least one sensor supported on or in the base. The at least one sensor includes at least one sensing element configured for measuring an electrical property of a plasma and may include a transducer coupled to the at least one sensing element. The transducer can be configured to receive a signal from the sensing element and convert the signal into a second signal for input to the information processor.

摘要翻译： 一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置。 传感器装置包括基座，支撑在基座上或底座中的信息处理器以及支撑在基座上或基座中的至少一个传感器。 所述至少一个传感器包括被配置用于测量等离子体的电性能的至少一个感测元件，并且可以包括耦合到所述至少一个感测元件的换能器。 换能器可被配置为从感测元件接收信号并将信号转换成第二信号以输入到信息处理器。

公开(公告)号：US07299148B2

公开(公告)日：2007-11-20

申请号：US11177922

申请日：2005-07-08

申请人： Dean Hunt ,  Costas J. Spanos ,  Michael Welch ,  Kameshwar Poolla ,  Mason L. Freed

发明人： Dean Hunt ,  Costas J. Spanos ,  Michael Welch ,  Kameshwar Poolla ,  Mason L. Freed

IPC分类号： G01K1/12

CPC分类号： G01K1/18 ,  H05K1/147 ,  H05K1/148

摘要： This invention seeks to provide methods and apparatus that can improve the accuracy of measured parameter data used for processing workpieces. One aspect of the present invention includes methods of measuring process conditions with low distortion of the measurements caused by the measuring apparatus. The measurements include data for applications such as data for monitoring, controlling, and optimizing processes and process tools. Another aspect of the present invention includes apparatus for measuring substantially correct data for applications such as generating data for monitoring, controlling, and optimizing processes and process tools.

摘要翻译： 本发明寻求提供可以提高用于处理工件的测量参数数据的精度的方法和装置。 本发明的一个方面包括测量由测量装置引起的测量的低变形的工艺条件的方法。 这些测量包括应用程序的数据，例如用于监视，控制和优化流程和流程工具的数据。 本发明的另一方面包括用于测量用于诸如生成用于监控，控制和优化过程和处理工具的数据的应用的基本上正确的数据的装置。

公开(公告)号：US20110240610A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13159266

申请日：2011-06-13

申请人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： B23K10/00

CPC分类号： G01N27/60 ,  G01K7/25 ,  G01N33/0004 ,  G01R15/24 ,  G01R29/12 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A sensor apparatus for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus includes a base, an information processor supported on or in the base, and at least one sensor supported on or in the base. The at least one sensor includes at least one sensing element configured for measuring an electrical property of a plasma and may include a transducer coupled to the at least one sensing element. The transducer can be configured to receive a signal from the sensing element and convert the signal into a second signal for input to the information processor.

摘要翻译： 一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置。 传感器装置包括基座，支撑在基座上或底座中的信息处理器以及支撑在基座上或基座中的至少一个传感器。 所述至少一个传感器包括被配置用于测量等离子体的电性能的至少一个感测元件，并且可以包括耦合到所述至少一个感测元件的换能器。 换能器可被配置为从感测元件接收信号并将信号转换成第二信号以输入到信息处理器。

公开(公告)号：US06691068B1

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US09643614

申请日：2000-08-22

申请人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

发明人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： H01L2170

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/32019 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/02 ,  Y02P90/20

摘要： Data are collected for deriving response models and information required for developing and maintaining processes and process tools. Methods and apparatus for collecting the data include a sensor apparatus capable of collecting data with less perturbation and fewer disruptions than is usually possible using standard methods. The sensor apparatus is capable of being loaded into a process tool. From within the process tool, the sensor apparatus is capable of measuring data, processing data, storing data, and transmitting data. The sensor apparatus has capabilities for near real time data collection and communication.

摘要翻译： 收集数据以得出响应模型和开发和维护过程和过程工具所需的信息。 用于收集数据的方法和装置包括能够采用标准方法通常可能采集较少干扰和较少中断的数据的传感器装置。 传感器装置能够被加载到处理工具中。 传感器装置可以在处理工具内测量数据，处理数据，存储数据和发送数据。 传感器装置具有接近实时数据收集和通信的能力。

公开(公告)号：US07960670B2

公开(公告)日：2011-06-14

申请号：US11281238

申请日：2005-11-16

申请人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： B23K10/00

CPC分类号： G01N27/60 ,  G01K7/25 ,  G01N33/0004 ,  G01R15/24 ,  G01R29/12 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A sensor apparatus for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus includes a base, an information processor supported on or in the base, and at least one sensor supported on or in the base. The at least one sensor includes at least one sensing element configured for measuring an electrical property of a plasma and at least one transducer coupled to the at least one sensing element. The transducer is configured so as to receive a signal from the sensing element and converting the signal into a second signal for input to the information processor.

摘要翻译： 一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置。 传感器装置包括基座，支撑在基座上或底座中的信息处理器以及支撑在基座上或基座中的至少一个传感器。 所述至少一个传感器包括被配置用于测量等离子体的电特性的至少一个感测元件和耦合到所述至少一个感测元件的至少一个换能器。 传感器被配置为接收来自感测元件的信号并将信号转换成第二信号以输入到信息处理器。

公开(公告)号：US07282889B2

公开(公告)日：2007-10-16

申请号：US10888526

申请日：2004-07-10

申请人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

发明人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： H01M10/46

CPC分类号： H02J7/025 ,  H02J50/12

摘要： Presented are methods, systems, and apparatuses for managing and maintaining an electronic device such as a sensor apparatus.

摘要翻译： 提出了用于管理和维护诸如传感器装置的电子设备的方法，系统和装置。

公开(公告)号：US07531984B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US11366303

申请日：2006-03-01

申请人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

发明人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： H01M10/46

CPC分类号： H02J7/025 ,  H02J50/12

摘要： Presented are methods, systems, and apparatuses for managing and maintaining an electronic device such as a sensor apparatus.

摘要翻译： 提出了用于管理和维护诸如传感器装置的电子设备的方法，系统和装置。

公开(公告)号：US07482576B2

公开(公告)日：2009-01-27

申请号：US11430315

申请日：2006-05-03

申请人： Randall S. Mundt ,  Andrew Beers ,  Paul D. MacDonald ,  Mason L. Freed ,  Dean Hunt

发明人： Randall S. Mundt ,  Andrew Beers ,  Paul D. MacDonald ,  Mason L. Freed ,  Dean Hunt

IPC分类号： G01J5/00

CPC分类号： G01J1/4228 ,  G01J1/02 ,  G01J1/0204

摘要： One or more problems related to processing workpieces using processes that involve optical radiation are presented along with solutions to one or more of the problems. One embodiment of the invention comprises a sensor apparatus for collecting optical radiation data representing one or more process conditions used for processing a workpiece. In a further embodiment, the sensor apparatus is also configured for measuring data other than optical radiation.

摘要翻译： 与使用涉及光辐射的过程处理工件相关的一个或多个问题与解决方案一起呈现给一个或多个问题。 本发明的一个实施例包括用于收集表示用于处理工件的一个或多个工艺条件的光辐射数据的传感器装置。 在另一实施例中，传感器装置还被配置用于测量光辐射以外的数据。