公开(公告)号：US08698037B2

公开(公告)日：2014-04-15

申请号：US13159266

申请日：2011-06-13

申请人： Randall S. Mundt ,  Paul Douglas MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Randall S. Mundt ,  Paul Douglas MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： B23K10/00

CPC分类号： G01N27/60 ,  G01K7/25 ,  G01N33/0004 ,  G01R15/24 ,  G01R29/12 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A sensor apparatus for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus includes a base, an information processor supported on or in the base, and at least one sensor supported on or in the base. The at least one sensor includes at least one sensing element configured for measuring an electrical property of a plasma and may include a transducer coupled to the at least one sensing element. The transducer can be configured to receive a signal from the sensing element and convert the signal into a second signal for input to the information processor.

摘要翻译： 一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置。 传感器装置包括基座，支撑在基座上或底座中的信息处理器以及支撑在基座上或基座中的至少一个传感器。 所述至少一个传感器包括被配置用于测量等离子体的电性能的至少一个感测元件，并且可以包括耦合到所述至少一个感测元件的换能器。 换能器可被配置为从感测元件接收信号并将信号转换成第二信号以输入到信息处理器。

公开(公告)号：US20110240610A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13159266

申请日：2011-06-13

申请人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： B23K10/00

CPC分类号： G01N27/60 ,  G01K7/25 ,  G01N33/0004 ,  G01R15/24 ,  G01R29/12 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A sensor apparatus for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus includes a base, an information processor supported on or in the base, and at least one sensor supported on or in the base. The at least one sensor includes at least one sensing element configured for measuring an electrical property of a plasma and may include a transducer coupled to the at least one sensing element. The transducer can be configured to receive a signal from the sensing element and convert the signal into a second signal for input to the information processor.

摘要翻译： 一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置。 传感器装置包括基座，支撑在基座上或底座中的信息处理器以及支撑在基座上或基座中的至少一个传感器。 所述至少一个传感器包括被配置用于测量等离子体的电性能的至少一个感测元件，并且可以包括耦合到所述至少一个感测元件的换能器。 换能器可被配置为从感测元件接收信号并将信号转换成第二信号以输入到信息处理器。

公开(公告)号：US07960670B2

公开(公告)日：2011-06-14

申请号：US11281238

申请日：2005-11-16

申请人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

发明人： Randall S. Mundt ,  Paul D. MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason L. Freed ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： B23K10/00

CPC分类号： G01N27/60 ,  G01K7/25 ,  G01N33/0004 ,  G01R15/24 ,  G01R29/12 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A sensor apparatus for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus includes a base, an information processor supported on or in the base, and at least one sensor supported on or in the base. The at least one sensor includes at least one sensing element configured for measuring an electrical property of a plasma and at least one transducer coupled to the at least one sensing element. The transducer is configured so as to receive a signal from the sensing element and converting the signal into a second signal for input to the information processor.

摘要翻译： 一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置。 传感器装置包括基座，支撑在基座上或底座中的信息处理器以及支撑在基座上或基座中的至少一个传感器。 所述至少一个传感器包括被配置用于测量等离子体的电特性的至少一个感测元件和耦合到所述至少一个感测元件的至少一个换能器。 传感器被配置为接收来自感测元件的信号并将信号转换成第二信号以输入到信息处理器。

公开(公告)号：US06691068B1

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US09643614

申请日：2000-08-22

申请人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

发明人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： H01L2170

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/32019 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/02 ,  Y02P90/20

摘要： Data are collected for deriving response models and information required for developing and maintaining processes and process tools. Methods and apparatus for collecting the data include a sensor apparatus capable of collecting data with less perturbation and fewer disruptions than is usually possible using standard methods. The sensor apparatus is capable of being loaded into a process tool. From within the process tool, the sensor apparatus is capable of measuring data, processing data, storing data, and transmitting data. The sensor apparatus has capabilities for near real time data collection and communication.

摘要翻译： 收集数据以得出响应模型和开发和维护过程和过程工具所需的信息。 用于收集数据的方法和装置包括能够采用标准方法通常可能采集较少干扰和较少中断的数据的传感器装置。 传感器装置能够被加载到处理工具中。 传感器装置可以在处理工具内测量数据，处理数据，存储数据和发送数据。 传感器装置具有接近实时数据收集和通信的能力。

公开(公告)号：US07531984B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US11366303

申请日：2006-03-01

申请人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

发明人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： H01M10/46

CPC分类号： H02J7/025 ,  H02J50/12

摘要： Presented are methods, systems, and apparatuses for managing and maintaining an electronic device such as a sensor apparatus.

摘要翻译： 提出了用于管理和维护诸如传感器装置的电子设备的方法，系统和装置。

公开(公告)号：US07282889B2

公开(公告)日：2007-10-16

申请号：US10888526

申请日：2004-07-10

申请人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

发明人： Mason L. Freed ,  Randall S. Mundt ,  Costas J. Spanos

IPC分类号： H01M10/46

CPC分类号： H02J7/025 ,  H02J50/12

摘要： Presented are methods, systems, and apparatuses for managing and maintaining an electronic device such as a sensor apparatus.

摘要翻译： 提出了用于管理和维护诸如传感器装置的电子设备的方法，系统和装置。

公开(公告)号：US07482576B2

公开(公告)日：2009-01-27

申请号：US11430315

申请日：2006-05-03

申请人： Randall S. Mundt ,  Andrew Beers ,  Paul D. MacDonald ,  Mason L. Freed ,  Dean Hunt

发明人： Randall S. Mundt ,  Andrew Beers ,  Paul D. MacDonald ,  Mason L. Freed ,  Dean Hunt

IPC分类号： G01J5/00

CPC分类号： G01J1/4228 ,  G01J1/02 ,  G01J1/0204

摘要： One or more problems related to processing workpieces using processes that involve optical radiation are presented along with solutions to one or more of the problems. One embodiment of the invention comprises a sensor apparatus for collecting optical radiation data representing one or more process conditions used for processing a workpiece. In a further embodiment, the sensor apparatus is also configured for measuring data other than optical radiation.

摘要翻译： 与使用涉及光辐射的过程处理工件相关的一个或多个问题与解决方案一起呈现给一个或多个问题。 本发明的一个实施例包括用于收集表示用于处理工件的一个或多个工艺条件的光辐射数据的传感器装置。 在另一实施例中，传感器装置还被配置用于测量光辐射以外的数据。

公开(公告)号：US07722434B2

公开(公告)日：2010-05-25

申请号：US11392220

申请日：2006-03-28

申请人： Randall S. Mundt

发明人： Randall S. Mundt

IPC分类号： B24B49/00

CPC分类号： B24B37/005 ,  B24B37/04 ,  B24B49/16

摘要： Some problems related to processing workpieces are presented along with solutions to one or more of the problems. One embodiment of the invention comprises a sensor apparatus for collecting data representing one or more process conditions used for processing a workpiece. Another embodiment of the present invention is a combination comprising a sensor apparatus and a process tool for applications such as chemical mechanical planarization of workpieces and chemical mechanical polishing of workpieces.

摘要翻译： 与处理工件有关的一些问题与一个或多个问题的解决方案一起呈现。 本发明的一个实施例包括用于收集表示用于处理工件的一个或多个工艺条件的数据的传感器装置。 本发明的另一实施例是一种组合，其包括传感器装置和用于诸如工件的化学机械平面化和工件的化学机械抛光等应用的工艺工具。

公开(公告)号：US07127362B2

公开(公告)日：2006-10-24

申请号：US10775044

申请日：2004-02-09

申请人： Randall S. Mundt

发明人： Randall S. Mundt

IPC分类号： G01L7/00

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B17/02 ,  G05B2219/32019 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/20

摘要： Data are collected for deriving response models and information required for developing and maintaining processes and process tools. Methods and apparatus for collecting the data include a process tolerant sensor apparatus capable of collecting data with less perturbation and fewer disruptions than is usually possible using standard methods.

摘要翻译： 收集数据以得出响应模型和开发和维护过程和过程工具所需的信息。 用于收集数据的方法和装置包括能够采用标准方法通常可能采集的扰动少且中断少的采集数据的过程容忍传感器装置。

公开(公告)号：US5702533A

公开(公告)日：1997-12-30

申请号：US672317

申请日：1996-06-28

申请人： Randall S. Mundt ,  Kenneth R. Krieg

发明人： Randall S. Mundt ,  Kenneth R. Krieg

IPC分类号： C23C14/56 ,  H01L21/677 ,  C23C16/00

CPC分类号： C23C14/564 ,  H01L21/67709 ,  Y10S414/135

摘要： A pinch seal in which particle generation by frictional contact is prevented so that the pinch seal can be used in a semiconductor processing apparatus where elimination of particulate contamination is desirable. The pinch seal is particularly adapted for use in connection with a semiconductor wafer transport device, such as a linear transport device. The pinch seal is formed in a barrier provided between a transport device and a semiconductor processing work environment. One or more support members for transporting a wafer extend through the pinch seal. In one embodiment, the pinch seal includes a flexible sealing member with a magnetic strip extending along the length of the flexible sealing member. A mechanism which does not physically contact the flexible sealing member, such as a device generating a magnetic field, is used to selectively open and close the flexible sealing member to prevent contact between the flexible sealing member and the support member passing through the flexible sealing member while retaining the isolating function of the shielding member.

摘要翻译： 一种夹紧密封件，其中防止了通过摩擦接触产生颗粒，使得夹紧密封件可用于需要消除颗粒污染的半导体加工设备中。 夹紧密封件特别适合于与半导体晶片输送装置（例如线性输送装置）结合使用。 夹紧密封件形成在设置在传送装置和半导体处理工作环境之间的屏障中。 用于运输晶片的一个或多个支撑构件延伸穿过夹紧密封件。 在一个实施例中，夹紧密封件包括具有沿着柔性密封构件的长度延伸的磁条的柔性密封构件。 使用不与柔性密封构件（例如产生磁场的装置）物理接触的机构来选择性地打开和关闭柔性密封构件，以防止柔性密封构件与穿过柔性密封构件的支撑构件之间的接触 同时保持屏蔽构件的隔离功能。