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    CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE
    2.
    发明申请
    CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE INCLUDING A REFLECTIVE OPTICAL COMPONENT AND A MEASURING DEVICE 审中-公开
    反射光学元件和测量装置的目标投影目标

    公开(公告)号：US20120218536A1

    公开(公告)日：2012-08-30

    申请号：US13423344

    申请日：2012-03-19

    申请人： Sascha Bleidistel ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Ralf Mueller

    发明人： Sascha Bleidistel ,  Toralf Gruner ,  Christoph Zaczek ,  Ralf Mueller

    IPC分类号： G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70258 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0856 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/706

    摘要： A catadioptric projection objective for images an object field onto an image field via imaging radiation. The projection objective includes at least one reflective optical component and a measuring device. The reflective optical component, during the operation of the projection objective, reflects a first part of the imaging radiation and transmits a second part of the imaging radiation. The reflected, first part of the imaging radiation at least partly contributes to the imaging of the object field. The transmitted, second part of the imaging radiation is at least partly fed to a measuring device. This allows a simultaneous exposure of the photosensitive layer at the location of the image field with the imaging radiation and monitoring of the imaging radiation with the aid of the measuring device.

    摘要翻译： 用于通过成像辐射将物体场映射到图像场上的反射折射投影物镜。 投影物镜包括至少一个反射光学部件和测量装置。 在投影物镜的操作期间，反射光学部件反射成像辐射的第一部分并透射成像辐射的第二部分。 成像辐射的反射的第一部分至少部分地有助于对象场的成像。 成像辐射的透射的第二部分至少部分地被馈送到测量装置。 这允许在成像辐射的图像位置处的感光层同时曝光并借助测量装置监测成像辐射。

    CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE
    4.
    发明申请
    CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE 有权
    目标投影目标

    公开(公告)号：US20110075121A1

    公开(公告)日：2011-03-31

    申请号：US12748862

    申请日：2010-03-29

    申请人： Alexander Epple ,  Toralf Gruner ,  Ralf Mueller

    发明人： Alexander Epple ,  Toralf Gruner ,  Ralf Mueller

    IPC分类号： G03B27/72 ,  G02B17/06

    CPC分类号： G02B13/143 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70225

    摘要： Catadioptric projection objective (1) for microlithography for imaging an object field (3) in an object plane (5) onto an image field (7) in an image plane (9), including a first partial objective (11) imaging the object field onto a first real intermediate image (13), a second partial objective (15) imaging the first intermediate image onto a second real intermediate image (17) and a third partial objective (19) imaging the second intermediate image onto the image field (7). The second partial objective (15) has exactly one concave mirror (21) and at least one lens (23). The minimum distance between an optically utilized region of the concave mirror (21) and an optically utilized region of a surface (25)—facing the concave mirror—of a lens (23) adjacent to the concave mirror is greater than 10 mm.

    摘要翻译： 用于微光刻的反折射投影物镜（1），用于将物平面（5）中的物场（3）成像到图像平面（9）中的图像场（7），包括对物场进行成像的第一部分物镜（11） 到第一实际中间图像（13），将第一中间图像成像到第二实际中间图像（17）上的第二部分目标（15）和将第二中间图像成像到图像场（7）上的第三部分目标（19） ）。 第二部分物镜（15）具有正好一个凹面镜（21）和至少一个透镜（23）。 凹面镜（21）的光学利用区域与与凹面镜相邻的透镜（23）的凹面镜的表面（25）的光学利用区域之间的最小距离大于10mm。

    Optical system
    5.
    发明授权
    Optical system 有权
    光学系统

    公开(公告)号：US08379188B2

    公开(公告)日：2013-02-19

    申请号：US12782831

    申请日：2010-05-19

    申请人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner

    发明人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner

    IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/54

    CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B1/08 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70966

    摘要： The disclosure provides an optical system having an optical axis, where the optical system includes a polarization manipulator which includes first and second subelements. The first subelement has a non-planar, optically effective surface. For light passing through the first subelement, the first subelement causes a change in the polarization state. A maximum effective retardation introduced by the first subelement along the optical axis is less than a quarter of the working wavelength of the optical system. The first subelement and the second subelement have mutually facing surfaces which are mutually complementary. The optical system also includes a position manipulator to manipulate the relative position of the first and second subelements.

    摘要翻译： 本公开提供了一种具有光轴的光学系统，其中光学系统包括包括第一和第二子元件的偏振操纵器。 第一个子元件具有非平面的光学有效表面。 对于通过第一子元件的光，第一子元件导致极化状态的变化。 由第一子元件沿着光轴引入的最大有效延迟小于光学系统的工作波长的四分之一。 第一子元件和第二子元件具有相互互补的相互面对的表面。 光学系统还包括位置操纵器来操纵第一和第二子元件的相对位置。

    Catadioptric projection objective
    6.
    发明授权
    Catadioptric projection objective 有权
    反射折射投影物镜

    公开(公告)号：US08300211B2

    公开(公告)日：2012-10-30

    申请号：US12748862

    申请日：2010-03-29

    申请人： Alexander Epple ,  Toralf Gruner ,  Ralf Mueller

    发明人： Alexander Epple ,  Toralf Gruner ,  Ralf Mueller

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G02B13/143 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70225

    摘要： Catadioptric projection objective (1) for microlithography for imaging an object field (3) in an object plane (5) onto an image field (7) in an image plane (9), including a first partial objective (11) imaging the object field onto a first real intermediate image (13), a second partial objective (15) imaging the first intermediate image onto a second real intermediate image (17) and a third partial objective (19) imaging the second intermediate image onto the image field (7). The second partial objective (15) has exactly one concave mirror (21) and at least one lens (23). The minimum distance between an optically utilized region of the concave mirror (21) and an optically utilized region of a surface (25)—facing the concave mirror—of a lens (23) adjacent to the concave mirror is greater than 10 mm.

    摘要翻译： 用于微光刻的反折射投影物镜（1），用于将物平面（5）中的物场（3）成像到图像平面（9）中的图像场（7），包括对物场进行成像的第一部分物镜（11） 到第一实际中间图像（13），将第一中间图像成像到第二实际中间图像（17）上的第二部分目标（15）和将第二中间图像成像到图像场（7）上的第三部分目标（19） ）。 第二部分物镜（15）具有正好一个凹面镜（21）和至少一个透镜（23）。 凹面镜（21）的光学利用区域与与凹面镜相邻的透镜（23）的凹面镜的表面（25）的光学利用区域之间的最小距离大于10mm。

    OPTICAL SYSTEM
    7.
    发明申请
    OPTICAL SYSTEM 有权
    光学系统

    公开(公告)号：US20100231888A1

    公开(公告)日：2010-09-16

    申请号：US12782831

    申请日：2010-05-19

    申请人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner

    发明人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner

    IPC分类号： G03B27/72 ,  G02B27/28 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B1/08 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70966

    摘要： The disclosure provides an optical system having an optical axis, where the optical system includes a polarization manipulator which includes first and second subelements. The first subelement has a non-planar, optically effective surface. For light passing through the first subelement, the first subelement causes a change in the polarization state. A maximum effective retardation introduced by the first subelement along the optical axis is less than a quarter of the working wavelength of the optical system. The first subelement and the second subelement have mutually facing surfaces which are mutually complementary. The optical system also includes a position manipulator to manipulate the relative position of the first and second subelements.

    摘要翻译： 本公开提供了一种具有光轴的光学系统，其中光学系统包括包括第一和第二子元件的偏振操纵器。 第一个子元件具有非平面的光学有效表面。 对于通过第一子元件的光，第一子元件导致极化状态的变化。 由第一子元件沿着光轴引入的最大有效延迟小于光学系统的工作波长的四分之一。 第一子元件和第二子元件具有相互互补的相互面对的表面。 光学系统还包括位置操纵器来操纵第一和第二子元件的相对位置。

    Method of initialising an apparatus for blood treatment in the single-needle mode and apparatus for blood treatment in the single-needle mode
    10.
    发明授权
    Method of initialising an apparatus for blood treatment in the single-needle mode and apparatus for blood treatment in the single-needle mode 有权
    在单针模式中初始化血液处理装置的方法和在单针模式下用于血液处理的装置

    公开(公告)号：US09238098B2

    公开(公告)日：2016-01-19

    申请号：US13700586

    申请日：2011-06-03

    申请人： Christoph Bocklet ,  Ingo Schaefer ,  Martin Thys ,  Joachim Noack ,  Ralf Mueller

    发明人： Christoph Bocklet ,  Ingo Schaefer ,  Martin Thys ,  Joachim Noack ,  Ralf Mueller

    IPC分类号： A61M37/00 ,  A61M5/00 ,  A61M1/30

    CPC分类号： A61M5/00 ,  A61M1/30 ,  A61M1/303 ,  A61M1/306 ,  A61M1/308 ,  A61M2205/07

    摘要： An apparatus and method for blood treatment for the single-needle mode, the apparatus having an extra-corporeal blood circuit with a blood infeed line running to the inlet and a blood return line leading away from the outlet, of a blood treating unit, includes in the blood return line a device, e.g., container, for amassing blood, which is in flow-permitting connection for gas transfer with a device, e.g., container, for storing gas. A pressure is calculated and set in the device for storing gas before the arterial and venous phases are started, with two constraints. First, the pressure should be sufficiently low to ensure both no infusion of air into the patient and also regulated flow of blood into the patient even at opposing pressures lower than ambient pressure. Second, the pressure should be sufficiently high to expel blood from the device for amassing blood into the device for storing gas.

    摘要翻译： 一种用于单针模式的血液处理的装置和方法，所述装置具有血液处理单元的离开出口处的入口线和从血液出口导出的血液回流管线的具有血液输入管线的体外血液回路， 在血液返回管路中，用于积聚血液的装置，例如容器，其用于与用于储存气体的装置（例如容器）进行气体转移的流动允许连接。 计算并设置在用于在动脉和静脉期开始之前储存气体的装置中具有两个限制。 首先，压力应该足够低，以确保不向患者输入空气，并且即使在低于环境压力的相对压力下，也将血液调节到患者体内。 第二，压力应该足够高，以将血液从装置中排出以将血液聚集到用于储存气体的装置中。