公开(公告)号：US20100055608A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：US12549191

申请日：2009-08-27

申请人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C309/22 ,  C08F228/02 ,  C08F18/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F28/02 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C08F20/22 ,  C08F20/36 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C1-C10 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

摘要翻译： 提供了具有式（1）的可聚合阴离子的锍盐，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2，R 3和R 4是C 1 -C 10烷基，烯基或氧代烷基或C 6 -C 18芳基，芳烷基或芳氧基烷基，或 R 2，R 3和R 4中的两个可以键合在一起形成具有S的环，A是C1-C10有机基团，n是0或1.锍盐在暴露于高能量辐射时产生非常强的磺酸。 还提供了包含衍生自锍盐的聚合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US08105748B2

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：US12580953

申请日：2009-10-16

申请人： Masaki Ohashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： C07D307/77 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C2-C20 hydrocarbon group having cyclic structure, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

摘要翻译： 提供了具有式（1）的可聚合阴离子的锍盐，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2，R 3和R 4是C 1 -C 10烷基，烯基或氧代烷基或C 6 -C 18芳基，芳烷基或芳氧基烷基，或 R 2，R 3和R 4中的两个可以键合在一起形成具有S的环，A是具有环状结构的C 2 -C 20烃基，n是0或1.锍盐在暴露于高温下时产生非常强的磺酸， 能量辐射。 还提供了包含衍生自锍盐的聚合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US20080102407A1

公开(公告)日：2008-05-01

申请号：US11976564

申请日：2007-10-25

申请人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

发明人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F20/22 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A sulfonium salt having a polymerizable anion generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so that it facilitates effective scission of acid labile groups in chemically amplified resist compositions. It is useful as a monomer from which a base resin for use in radiation-sensitive resist compositions is derived.

摘要翻译： 具有可聚合阴离子的锍盐在暴露于高能量辐射下产生强烈的磺酸，从而有助于在化学增强的抗蚀剂组合物中有效地分裂酸不稳定基团。 作为衍生用于辐射敏感性抗蚀剂组合物的基础树脂的单体是有用的。

公开(公告)号：US20120129103A1

公开(公告)日：2012-05-24

申请号：US13292127

申请日：2011-11-09

申请人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  C08F220/38 ,  C07C381/12

CPC分类号： C07C309/20 ,  C07C69/54 ,  C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122

摘要： A sulfonium salt having a 4-fluorophenyl group is introduced as recurring units into a polymer comprising hydroxyphenyl (meth)acrylate units and acid labile group-containing (meth)acrylate units to form a polymer which is useful as a base resin in a resist composition. The resist composition has a high sensitivity, high resolution and minimized LER.

摘要翻译： 将具有4-氟苯基的锍盐作为重复单元引入到包含羟基苯基（甲基）丙烯酸酯单元和含酸不稳定基团的（甲基）丙烯酸酯单元的聚合物中，以形成可用作抗蚀剂组合物中的基础树脂的聚合物 。 抗蚀剂组合物具有高灵敏度，高分辨率和最小化的LER。

公开(公告)号：US08062828B2

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：US12370652

申请日：2009-02-13

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A positive resist composition comprises a polymer comprising recurring units having a sulfonium salt incorporated therein as a base resin which becomes soluble in alkaline developer under the action of acid. The polymer generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含含有其中掺入其中的锍盐作为基础树脂的重复单元的聚合物，其在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂。 聚合物在暴露于高能量辐射时产生强烈的磺酸，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。

公开(公告)号：US07569326B2

公开(公告)日：2009-08-04

申请号：US11976564

申请日：2007-10-25

申请人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

发明人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F20/22 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A sulfonium salt having a polymerizable anion generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so that it facilitates effective scission of acid labile groups in chemically amplified resist compositions. It is useful as a monomer from which a base resin for use in radiation-sensitive resist compositions is derived.

摘要翻译： 具有可聚合阴离子的锍盐在暴露于高能量辐射下产生强烈的磺酸，从而有助于在化学增强的抗蚀剂组合物中有效地分裂酸不稳定基团。 作为衍生用于辐射敏感性抗蚀剂组合物的基础树脂的单体是有用的。

公开(公告)号：US08057985B2

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：US12549191

申请日：2009-08-27

申请人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C08F28/02 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C08F20/22 ,  C08F20/36 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C1-C20 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

摘要翻译： 提供了具有式（1）的可聚合阴离子的锍盐，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2，R 3和R 4是C 1 -C 10烷基，烯基或氧代烷基或C 6 -C 18芳基，芳烷基或芳氧基烷基，或 R 2，R 3和R 4中的两个可以键合在一起形成具有S的环，A是C1-C20有机基团，n是0或1.锍盐在暴露于高能量辐射时产生非常强的磺酸。 还提供了包含衍生自锍盐的聚合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US08039198B2

公开(公告)日：2011-10-18

申请号：US12404245

申请日：2009-03-13

申请人： Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

发明人： Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of a sulfonium salt represented by formula (1) is provided as well as a chemically amplified resist composition comprising the same. R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 to R4 are C1-C10 alkyl or alkoxy, R5 is C1-C30 alkyl or C6-C14 aryl, k, m and n are 0 to 3. The recurring units generate a sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition. The resist composition exhibits excellent resolution and a pattern finish with minimal LER.

摘要翻译： 提供了包含由式（1）表示的锍盐的重复单元的聚合物以及包含该聚合物的化学放大抗蚀剂组合物。 R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2至R 4是C 1 -C 10烷基或烷氧基，R 5是C 1 -C 30烷基或C 6 -C 14芳基，k，m和n是0至3.重复单元产生磺酸 暴露于高能量辐射下，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。 抗蚀剂组合物以最小的LER显示出优异的分辨率和图案光洁度。

公开(公告)号：US20090233223A1

公开(公告)日：2009-09-17

申请号：US12404245

申请日：2009-03-13

申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F214/18 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of a sulfonium salt represented by formula (1) is provided as well as a chemically amplified resist composition comprising the same. R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 to R4 are C1-C10 alkyl or alkoxy, R5 is C1-C30 alkyl or C6-C14 aryl, k, m and n are 0 to 3. The recurring units generate a sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition. The resist composition exhibits excellent resolution and a pattern finish with minimal LER.

摘要翻译： 提供了包含由式（1）表示的锍盐的重复单元的聚合物以及包含该聚合物的化学放大抗蚀剂组合物。 R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2至R 4是C 1 -C 10烷基或烷氧基，R 5是C 1 -C 30烷基或C 6 -C 14芳基，k，m和n是0至3.重复单元产生磺酸 暴露于高能量辐射下，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。 抗蚀剂组合物以最小的LER显示出优异的分辨率和图案光洁度。

公开(公告)号：US20090202943A1

公开(公告)日：2009-08-13

申请号：US12370652

申请日：2009-02-13

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/00 ,  C08F228/02 ,  C08F24/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A positive resist composition comprises a polymer comprising recurring units having a sulfonium salt incorporated therein as a base resin which becomes soluble in alkaline developer under the action of acid. The polymer generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含含有其中掺入其中的锍盐作为基础树脂的重复单元的聚合物，其在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂。 聚合物在暴露于高能量辐射时产生强烈的磺酸，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。