公开(公告)号：US08062828B2

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：US12370652

申请日：2009-02-13

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A positive resist composition comprises a polymer comprising recurring units having a sulfonium salt incorporated therein as a base resin which becomes soluble in alkaline developer under the action of acid. The polymer generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含含有其中掺入其中的锍盐作为基础树脂的重复单元的聚合物，其在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂。 聚合物在暴露于高能量辐射时产生强烈的磺酸，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。

公开(公告)号：US20090202943A1

公开(公告)日：2009-08-13

申请号：US12370652

申请日：2009-02-13

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/00 ,  C08F228/02 ,  C08F24/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A positive resist composition comprises a polymer comprising recurring units having a sulfonium salt incorporated therein as a base resin which becomes soluble in alkaline developer under the action of acid. The polymer generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so as to facilitate effective scission of acid labile groups in the resist composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含含有其中掺入其中的锍盐作为基础树脂的重复单元的聚合物，其在酸的作用下变得可溶于碱性显影剂。 聚合物在暴露于高能量辐射时产生强烈的磺酸，以促进抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效断裂。

公开(公告)号：US20100055608A1

公开(公告)日：2010-03-04

申请号：US12549191

申请日：2009-08-27

申请人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C309/22 ,  C08F228/02 ,  C08F18/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F28/02 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C08F20/22 ,  C08F20/36 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C1-C10 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

摘要翻译： 提供了具有式（1）的可聚合阴离子的锍盐，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2，R 3和R 4是C 1 -C 10烷基，烯基或氧代烷基或C 6 -C 18芳基，芳烷基或芳氧基烷基，或 R 2，R 3和R 4中的两个可以键合在一起形成具有S的环，A是C1-C10有机基团，n是0或1.锍盐在暴露于高能量辐射时产生非常强的磺酸。 还提供了包含衍生自锍盐的聚合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US08105748B2

公开(公告)日：2012-01-31

申请号：US12580953

申请日：2009-10-16

申请人： Masaki Ohashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： C07D307/77 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C2-C20 hydrocarbon group having cyclic structure, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

摘要翻译： 提供了具有式（1）的可聚合阴离子的锍盐，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2，R 3和R 4是C 1 -C 10烷基，烯基或氧代烷基或C 6 -C 18芳基，芳烷基或芳氧基烷基，或 R 2，R 3和R 4中的两个可以键合在一起形成具有S的环，A是具有环状结构的C 2 -C 20烃基，n是0或1.锍盐在暴露于高温下时产生非常强的磺酸， 能量辐射。 还提供了包含衍生自锍盐的聚合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US08057985B2

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：US12549191

申请日：2009-08-27

申请人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Masaki Ohashi ,  Takeshi Kinsho ,  Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： C08F28/02 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C08F20/22 ,  C08F20/36 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C1-C20 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

摘要翻译： 提供了具有式（1）的可聚合阴离子的锍盐，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2，R 3和R 4是C 1 -C 10烷基，烯基或氧代烷基或C 6 -C 18芳基，芳烷基或芳氧基烷基，或 R 2，R 3和R 4中的两个可以键合在一起形成具有S的环，A是C1-C20有机基团，n是0或1.锍盐在暴露于高能量辐射时产生非常强的磺酸。 还提供了包含衍生自锍盐的聚合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US20080102407A1

公开(公告)日：2008-05-01

申请号：US11976564

申请日：2007-10-25

申请人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

发明人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F20/22 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A sulfonium salt having a polymerizable anion generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so that it facilitates effective scission of acid labile groups in chemically amplified resist compositions. It is useful as a monomer from which a base resin for use in radiation-sensitive resist compositions is derived.

摘要翻译： 具有可聚合阴离子的锍盐在暴露于高能量辐射下产生强烈的磺酸，从而有助于在化学增强的抗蚀剂组合物中有效地分裂酸不稳定基团。 作为衍生用于辐射敏感性抗蚀剂组合物的基础树脂的单体是有用的。

公开(公告)号：US07569326B2

公开(公告)日：2009-08-04

申请号：US11976564

申请日：2007-10-25

申请人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

发明人： Youichi Ohsawa ,  Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F20/22 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

摘要： A sulfonium salt having a polymerizable anion generates a strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation so that it facilitates effective scission of acid labile groups in chemically amplified resist compositions. It is useful as a monomer from which a base resin for use in radiation-sensitive resist compositions is derived.

摘要翻译： 具有可聚合阴离子的锍盐在暴露于高能量辐射下产生强烈的磺酸，从而有助于在化学增强的抗蚀剂组合物中有效地分裂酸不稳定基团。 作为衍生用于辐射敏感性抗蚀剂组合物的基础树脂的单体是有用的。

公开(公告)号：US08048610B2

公开(公告)日：2011-11-01

申请号：US12428933

申请日：2009-04-23

申请人： Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeshi Kinsho

发明人： Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/30 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/167

摘要： A polymer comprising recurring units having formulae (1), (2) and (3) is provided as well as a chemically amplified resist composition comprising the same. R1 is H, F, CH3 or CF3, Rf is H, F, CF3 or C2F5, A is an optionally fluorine or oxygen-substituted divalent organic group, R2, R3 and R4 are alkyl, alkenyl, oxoalkyl, aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or may form a ring with the sulfur atom, N=0-2, R8 is H or alkyl, B is a single bond or optionally oxygen-substituted divalent organic group, a=0-3, b=1-3, and X is an acid labile group. The polymer generates a strong sulfonic acid which provides for effective cleavage of acid labile groups in a chemically amplified resist composition.

摘要翻译： 提供了包含具有式（1），（2）和（3）的重复单元的聚合物以及包含其的化学放大抗蚀剂组合物。 R 1是H，F，CH 3或CF 3，R f是H，F，CF 3或C 2 F 5，A是任选氟或氧取代的二价有机基团，R 2，R 3和R 4是烷基，烯基，氧代烷基，芳基，芳烷基或芳氧基烷基 或者可以与硫原子形成环，N = O-2，R 8是H或烷基，B是单键或任选的氧取代的二价有机基团，a = 0-3，b = 1-3，和 X是酸不稳定组。 该聚合物产生强的磺酸，其提供化学增强抗蚀剂组合物中酸不稳定基团的有效切割。

公开(公告)号：US06962767B2

公开(公告)日：2005-11-08

申请号：US10315069

申请日：2002-12-10

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07D317/12 ,  C07D317/20 ,  C07D317/24 ,  C07D319/06 ,  C08F32/00 ,  C08F220/10 ,  C08F222/06 ,  C08F222/10 ,  C08G61/02 ,  C08G61/08 ,  G03C5/00

CPC分类号： C08G61/08 ,  C08G61/02 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： Acetal compounds in which a 5- or 6-membered ring acetal structure is connected to a norbornene structure through a linker represented by —(CH2)m— in which one hydrogen atom may be substituted with a hydroxyl or acetoxy group, and m is from 1 to 8 are novel. Using the acetal compounds as a monomer, polymers are obtained. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance.

摘要翻译： 其中5或6元环缩醛结构通过 - （CH 2 CH 2）m - 表示的连接体与降冰片烯结构连接的缩醛化合物，其中一个氢 原子可以被羟基或乙酰氧基取代，m为1至8的是新的。 使用缩醛化合物作为单体，得到聚合物。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，并且具有优异的灵敏度，分辨率和耐蚀刻性。

公开(公告)号：US06780563B2

公开(公告)日：2004-08-24

申请号：US09963465

申请日：2001-09-27

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0045

摘要： A polymer bearing specific silicon-containing groups is novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity and resolution at a wavelength of less than 300 nm, and high resistance to oxygen plasma etching. The resist composition lends itself to micropatterning for the fabrication of VLSIs.

摘要翻译： 具有特定含硅基团的聚合物是新颖的。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，并且在小于300nm的波长下具有优异的灵敏度和分辨率，以及高耐氧等离子体蚀刻性。 抗蚀剂组合物本身可用于制造VLSI的微图案。