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    EVAPORATION SOURCE AND DEPOSITION APPARATUS HAVING THE SAME
    1.
    发明申请
    EVAPORATION SOURCE AND DEPOSITION APPARATUS HAVING THE SAME 审中-公开
    蒸发源和沉积装置

    公开(公告)号：US20110146575A1

    公开(公告)日：2011-06-23

    申请号：US12972369

    申请日：2010-12-17

    申请人： Seung-Ho Choi ,  Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Myoung ,  Cheol-Lae Roh

    发明人： Seung-Ho Choi ,  Suk-Won Jung ,  Seung-Ho Myoung ,  Cheol-Lae Roh

    IPC分类号： C23C16/04 ,  C23C16/448 ,  C23C16/00 ,  C23C16/44

    CPC分类号： H01L51/0008 ,  C23C14/243 ,  H01L51/56

    摘要： An evaporation source is disclosed. In one embodiment, the evaporation source includes: i) a crucible being open on one side thereof and configured to store a deposition material and ii) a nozzle section located on the open side of the crucible and comprising a plurality of nozzles, wherein each of the nozzles has a sidewall configured to spray the deposition material therethrough, wherein the side wall has an inclined portion. The evaporation source also includes i) a heater configured to heat the crucible and ii) a housing configured to accommodate the crucible, the nozzle section, and the heater, wherein the nozzle section has a maximum spray angle less than about 60°.

    摘要翻译： 公开了一种蒸发源。 在一个实施例中，蒸发源包括：i）坩埚在其一侧开口并构造成存储沉积材料，以及ii）位于坩埚敞开侧的喷嘴部分，并且包括多个喷嘴， 喷嘴具有被配置为通过其喷射沉积材料的侧壁，其中侧壁具有倾斜部分。 蒸发源还包括i）加热器，其被配置为加热坩埚，以及ii）构造成容纳坩埚，喷嘴部分和加热器的壳体，其中喷嘴部分具有小于约60°的最大喷射角度。